KR970052059A - 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법 및 팁 홀더 - Google Patents

반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법 및 팁 홀더 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 제조 공정에 적용되는 고순도 가스 공급계(GAS DELIVERY SYSTEM)에 있어서, 가스 배관(SUS TUBE)의 성능 관리를 위한 평가 방법 및 팁 홀더에 관한 것으로써, 특히 가스 배관의 오염에 따른 후속 설비의 성능 저하 영향을 조사하기 위하여 광학 현미경 검사와, 구조, 성분 분석 그리고 표면 조도 측정 및 깊이별 조성 분석을 순차적으로 수행하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법 및 팁 홀더에 관한 것으로 전체적인 가스 배관의 상태와 가스 배관에 존재하는 불량(DEFECT)의 밀도(DENSITY)를 수치화 하기 위한 제1단계; 상기 불량에 대하여 구조 분석(SEM)과 성분 분석(EDX)을 시행하기 위한 제2단계; 가스 배관의 일정 면적을 측정하기 위해 표면 조도 측정을 수행하는 제3단계; 및 상기 가스 배관의 표면 처리 상태 파악을 위해 깊이별 조성 분석(DEPTH PROFILE)의 단계가 구비되고 에이 에프 엠(AFM)의 팁 홀더가 가스 배관의 중앙부 측정이 가능하도록 충분히 좁은 외경과, 확장된 길이로 구성됨을 특징으로 하는 것이다.

Description

반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법 및 팁 홀더
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 가스 배관의 분석 과정을 도시한 흐름도.

Claims (6)

  1. 전체적인 가스 배관의 상태와 가스 배관에 존재하는 불량의 밀도를 수치화 하기 위한 제1단계; 상기 불량에 대하여 구조 분석과 성분 분석을 시행하기 위한 제2단계; 가스 배관의 일정 면적을 측정하기 위해 표면 조도 측정을 수행하는 제3단계; 및 상기 가스 배관의 표면 처리 상태 파악을 위해 깊이별 조성 분석의 제4단계가 구비됨을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가스 배관의 불량 밀도 수치화는 광학 현미경 검사로 달성됨을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 구조 분석과 성분 분석을 수행하기 위해서 이 피 엠 에이(EPMA)가 사용됨을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 표면 조도 측정은 에이 에프 엠(AFM)으로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법.
  5. 제1항에 있어서, 상기 깊이별 조성 분석은 에이 이 에스(AES)로 이루어짐을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법.
  6. 표면 조도 측정을 위해 마련되는 에이 에프 엠(AFM)의 팁 홀더가 가스 배관의 중앙부 측정이 가능하도록 충분히 좁은 외경과, 확장된 길이로 구성됨을 특징으로 하는 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가용 팁 홀더.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950047221A 1995-12-06 1995-12-06 반도체 제조 설비용 가스 배관의 성능 평가 방법 KR100194212B1 (ko)

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