KR970048954A - 위상 반전 마스크(psm) 제조방법 - Google Patents
위상 반전 마스크(psm) 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 위상반전 마스크 제조방법에 관해 개시한다. 본 발명에 의한 제조방법은 크롬막 패턴이 형성된 PSM기판 전면에 위상반전층을 단층으로 형성하는 위상반전마스크 제조방법에 있어서, 상기 위상반전층을 다층(multi-layer)으로 형성하는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 위상 반전 마스크를 나타낸다.
Claims (3)
- 크롬막 패턴이 형성된 PSM기판 전면에 위상반전층을 단층으로 형성하는 위상반전마스크 제조방법에 있어서, 상기 위상반전층을 다층(multi-layer)으로 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 다층은 제1, 제2 및 제3위상반전층으로 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전마스크 제조방법.
- 제2항에 있어서, 상기 다층은 제1, 제2 및 제3위상반전층은 공히 에스.오.지(SOG)를 형성하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950057191A KR970048954A (ko) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 위상 반전 마스크(psm) 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950057191A KR970048954A (ko) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 위상 반전 마스크(psm) 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970048954A true KR970048954A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66619042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950057191A KR970048954A (ko) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | 위상 반전 마스크(psm) 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970048954A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100802292B1 (ko) * | 2006-07-21 | 2008-02-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 마스크 및 이를 이용한 마이크로 렌즈 제작 방법 |
-
1995
- 1995-12-26 KR KR1019950057191A patent/KR970048954A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100802292B1 (ko) * | 2006-07-21 | 2008-02-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 마스크 및 이를 이용한 마이크로 렌즈 제작 방법 |
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