KR970048917A - 포토 마스크 제작방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 소자의 포토 마스크 제작방법에 관한 것으로, 특히 미세패턴을 위한 마스크 형성 공정에 있어 포토레지스트 도포 및 현상장비에 부착된 핫 플레이트(Hot Plat)의 상부면에 진공 흡착공을 설치하여 핫 플래이트상에 위치하는 웨이퍼와의 흡착력을 향상시킴으로써 포토레지스트의 도포가 균일하게 이루어지고 현상후 패턴의 크리티컬디멘젼을 균일하도록 하여 반도체 소자의 제조에 있어 제조 수율 및 신뢰성 향상시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 핫 플레이트(Hot Plat) 단면도,
제2도는 제1도의 핫 플레이트 평면도.
Claims (3)
- 반도체 소자의 포토 마스크 제조공정중 베이킹 공정에 사용되며 상부에 얹혀지는 웨이퍼로 열을 전달하는 핫 플레이트의 구조에 있어서, 상기 핫 플레이트의 상부면에 다수개의 진공흡착공을 설치하여 흡착에 의해 상기 웨이퍼와의 접착력을 향상시킴으로써 상기 핫 플레이트로부터 웨이퍼로의 균일한 열전달이 이뤄지도록하여 양호한 품질의 마스크를 형성할 수 있게 한 것을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
- 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼를 흡착하는 학 플레이트의 진공 흡착력은 15~35HG인 것을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.
- 제1항에 있어서, 상기 핫 플레이트의 상부면에 다수개의 진공흡입공이 형성되고 핫 플래이트의 하부로는 상기 진공흡입공과 연결돈 진공흡입구가 구비되어 있는 것을 특징으로 하는 포토 마스크 제작방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950050469A KR970048917A (ko) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 포토 마스크 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950050469A KR970048917A (ko) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 포토 마스크 제작방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR970048917A true KR970048917A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66595018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950050469A KR970048917A (ko) | 1995-12-15 | 1995-12-15 | 포토 마스크 제작방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR970048917A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100750630B1 (ko) * | 2005-05-12 | 2007-08-20 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판 열처리 장치 |
-
1995
- 1995-12-15 KR KR1019950050469A patent/KR970048917A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100750630B1 (ko) * | 2005-05-12 | 2007-08-20 | 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 | 기판 열처리 장치 |
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Legal Events
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WITN | Withdrawal due to no request for examination |