JPH11125811A - 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子製造装置 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子製造装置Info
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- JPH11125811A JPH11125811A JP9292111A JP29211197A JPH11125811A JP H11125811 A JPH11125811 A JP H11125811A JP 9292111 A JP9292111 A JP 9292111A JP 29211197 A JP29211197 A JP 29211197A JP H11125811 A JPH11125811 A JP H11125811A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 厚さ０．７ｍｍ以下の薄型ガラス基板または
プラスチックからなるプラスチック基板を用いた場合で
も、位置ずれすることなくステージ上に吸着固定する。 【解決手段】 吸着口２のうち、第１の領域３の吸着口
２ａは、ステージ１内部に設けられている第１の連通路
にそれぞれ接続されている。そして、第１の連通路は、
切換弁を介して真空ポンプに接続されている。また、第
２の領域７の吸着口２ｂは、第２の連通路にそれぞれ接
続され、第２の連通路は切換弁を介して真空ポンプに接
続されている。また、第３の領域９の吸着口２ｃは、第
３の連通路にそれぞれ接続され、第３の連通路は切換弁
を介して真空ポンプに接続されている。切換弁によっ
て、真空ポンプを作動したときの真空吸着力が、各連通
路から各吸着口を通して作用する状態へ切り換えが行わ
れる。
プラスチックからなるプラスチック基板を用いた場合で
も、位置ずれすることなくステージ上に吸着固定する。 【解決手段】 吸着口２のうち、第１の領域３の吸着口
２ａは、ステージ１内部に設けられている第１の連通路
にそれぞれ接続されている。そして、第１の連通路は、
切換弁を介して真空ポンプに接続されている。また、第
２の領域７の吸着口２ｂは、第２の連通路にそれぞれ接
続され、第２の連通路は切換弁を介して真空ポンプに接
続されている。また、第３の領域９の吸着口２ｃは、第
３の連通路にそれぞれ接続され、第３の連通路は切換弁
を介して真空ポンプに接続されている。切換弁によっ
て、真空ポンプを作動したときの真空吸着力が、各連通
路から各吸着口を通して作用する状態へ切り換えが行わ
れる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子製造
プロセスで用いられる液晶表示素子の製造方法および液
晶表示素子製造装置に関するものであり、特にレジスト
塗布装置、露光装置、配向膜印刷装置、シール印刷機等
に関するものである。
プロセスで用いられる液晶表示素子の製造方法および液
晶表示素子製造装置に関するものであり、特にレジスト
塗布装置、露光装置、配向膜印刷装置、シール印刷機等
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、液晶表示素子には、例えば３００
ｍｍ×３００ｍｍ×厚み１．０ｍｍ程度のガラス基板が
主に用いられており、最近では、さらに４００ｍｍ、５
００ｍｍサイズのより大形のガラス基板も用いられるよ
うになってきている。
ｍｍ×３００ｍｍ×厚み１．０ｍｍ程度のガラス基板が
主に用いられており、最近では、さらに４００ｍｍ、５
００ｍｍサイズのより大形のガラス基板も用いられるよ
うになってきている。
【０００３】このようなガラス基板は、液晶表示素子の
製造プロセス中、例えばレジスト塗布装置、露光装置、
配向膜印刷装置、シール印刷機等を通して順次搬送さ
れ、そして、各装置内における処理操作中には、図３に
示すように、ガラス基板５１は、上面が平坦な載置台
（以下、ステージという）５２上に真空吸着によって固
定されるようになっている。
製造プロセス中、例えばレジスト塗布装置、露光装置、
配向膜印刷装置、シール印刷機等を通して順次搬送さ
れ、そして、各装置内における処理操作中には、図３に
示すように、ガラス基板５１は、上面が平坦な載置台
（以下、ステージという）５２上に真空吸着によって固
定されるようになっている。
【０００４】すなわち、ステージ５２には、直径０．５
〜１．０ｍｍ程度の複数の吸着口５３が５〜３０ｍｍの
間隔で碁盤目状に設けられ、これら吸着口５３は、ステ
ージ５２の下側に設けられた真空ポンプ５５に連通路５
４を介して接続されている。ガラス基板５１は、各吸着
口５３を通して同時に作用する真空吸着力によって、ほ
ぼ全面にわたって吸着されてステージ５２上に固定され
る。
〜１．０ｍｍ程度の複数の吸着口５３が５〜３０ｍｍの
間隔で碁盤目状に設けられ、これら吸着口５３は、ステ
ージ５２の下側に設けられた真空ポンプ５５に連通路５
４を介して接続されている。ガラス基板５１は、各吸着
口５３を通して同時に作用する真空吸着力によって、ほ
ぼ全面にわたって吸着されてステージ５２上に固定され
る。
【０００５】平板状に作製されているガラス基板５１
は、優れたフラット性を有するとともに剛性も高いた
め、前記のような吸着口５３を通して離散的に吸着力を
作用させたとしても、ガラス基板５１に反り等の変形が
生じることはなく、この結果、液晶表示素子の製造プロ
セスにおいて、例えば配向膜印刷の処理によって、配向
膜は均一に塗布され、仕上がり状態に凹凸を生じること
はない。
は、優れたフラット性を有するとともに剛性も高いた
め、前記のような吸着口５３を通して離散的に吸着力を
作用させたとしても、ガラス基板５１に反り等の変形が
生じることはなく、この結果、液晶表示素子の製造プロ
セスにおいて、例えば配向膜印刷の処理によって、配向
膜は均一に塗布され、仕上がり状態に凹凸を生じること
はない。
【０００６】ガラス基板５１をステージ５２上に載置す
るときには、複数のガラス基板５１が収納されたカセッ
ト内において、位置決めピン等によって位置決めした
後、搬送アーム等によってステージ５２から突き出した
リフトピン上にガラス基板５１を載置する。そして、リ
フトピンを下降させてガラス基板５１をステージ５２上
に載置し、前述したように各吸着口５３から同時に真空
吸着力を作用させてガラス基板５１をステージ５２に吸
着固定する。
るときには、複数のガラス基板５１が収納されたカセッ
ト内において、位置決めピン等によって位置決めした
後、搬送アーム等によってステージ５２から突き出した
リフトピン上にガラス基板５１を載置する。そして、リ
フトピンを下降させてガラス基板５１をステージ５２上
に載置し、前述したように各吸着口５３から同時に真空
吸着力を作用させてガラス基板５１をステージ５２に吸
着固定する。
【０００７】この後、配向膜印刷装置またはシール印刷
機等では、ＣＣＤカメラ等を用いてガラス基板５１にあ
らかじめ形成されているアライメントマークを利用し、
高精度の位置決めを行ってから各処理を行う。
機等では、ＣＣＤカメラ等を用いてガラス基板５１にあ
らかじめ形成されているアライメントマークを利用し、
高精度の位置決めを行ってから各処理を行う。
【０００８】一方、近年においては、液晶表示素子の薄
形化に伴い、厚さ０．７ｍｍ以下の薄型ガラス基板また
はプラスチックからなるプラスチック基板が採用され、
一部実用化されている。そして、従来は、このような薄
型ガラス基板またはプラスチック基板を各製造装置内に
位置決めして固定する場合においても、前記同様の吸着
口を通して吸着固定する方法が採用されている。
形化に伴い、厚さ０．７ｍｍ以下の薄型ガラス基板また
はプラスチックからなるプラスチック基板が採用され、
一部実用化されている。そして、従来は、このような薄
型ガラス基板またはプラスチック基板を各製造装置内に
位置決めして固定する場合においても、前記同様の吸着
口を通して吸着固定する方法が採用されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
ようなガラス基板またはプラスチック基板等の絶縁性基
板の吸着固定方法では、以下のような問題点がある。
ようなガラス基板またはプラスチック基板等の絶縁性基
板の吸着固定方法では、以下のような問題点がある。
【００１０】リフトピンを下降させて絶縁性基板をステ
ージ上に載置した状態から、各吸着口から同時に真空吸
着力を作用させて絶縁性基板をステージに吸着固定する
際には、絶縁性基板とステージとの間に存在している空
気を吸着口から吸引するため、この空気が流動すること
で静電気が発生し、絶縁性基板がステージ上を滑るよう
に最大で１ｃｍ程度移動してしまうことがある。
ージ上に載置した状態から、各吸着口から同時に真空吸
着力を作用させて絶縁性基板をステージに吸着固定する
際には、絶縁性基板とステージとの間に存在している空
気を吸着口から吸引するため、この空気が流動すること
で静電気が発生し、絶縁性基板がステージ上を滑るよう
に最大で１ｃｍ程度移動してしまうことがある。
【００１１】特に、厚さが０．７ｍｍ以下のガラス基板
またはプラスチック基板では、同じ外形サイズの厚さ
１．０ｍｍのガラス基板と比べると軽量となるため、ス
テージにかかる圧力が小さくなって移動しやすくなる。
またはプラスチック基板では、同じ外形サイズの厚さ
１．０ｍｍのガラス基板と比べると軽量となるため、ス
テージにかかる圧力が小さくなって移動しやすくなる。
【００１２】このように絶縁性基板がステージ上を移動
してしまうと、アライメントマークがＣＣＤカメラ等の
視野から外れることがあり、この場合には、アライメン
トマークをＣＣＤカメラ等で認識して高精度の位置決め
を行うことができなくなるという問題点がある。
してしまうと、アライメントマークがＣＣＤカメラ等の
視野から外れることがあり、この場合には、アライメン
トマークをＣＣＤカメラ等で認識して高精度の位置決め
を行うことができなくなるという問題点がある。
【００１３】本発明は、以上のような従来の問題点に鑑
みなされたものであって、厚さ０．７ｍｍ以下の薄型ガ
ラス基板またはプラスチックからなるプラスチック基板
を用いた場合でも、位置ずれすることなくステージ上に
吸着固定することができる液晶表示素子の製造方法およ
び液晶表示素子製造装置を提供することを目的としてい
る。
みなされたものであって、厚さ０．７ｍｍ以下の薄型ガ
ラス基板またはプラスチックからなるプラスチック基板
を用いた場合でも、位置ずれすることなくステージ上に
吸着固定することができる液晶表示素子の製造方法およ
び液晶表示素子製造装置を提供することを目的としてい
る。
【００１４】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明の請求項１記載の液晶表示素子の製造方
法は、複数の吸着口が開口する平坦な載置面を有する載
置台上に、前記吸着口を通して吸着力を作用させて絶縁
性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す液
晶表示素子の製造方法において、前記絶縁性基板を少な
くとも二つの領域に分割し、前記領域毎に時間差を設け
て前記吸着口を通して前記絶縁性基板に吸着力を作用さ
せ、前記絶縁性基板を固定して各種の処理を施すことを
特徴としている。
ために、本発明の請求項１記載の液晶表示素子の製造方
法は、複数の吸着口が開口する平坦な載置面を有する載
置台上に、前記吸着口を通して吸着力を作用させて絶縁
性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す液
晶表示素子の製造方法において、前記絶縁性基板を少な
くとも二つの領域に分割し、前記領域毎に時間差を設け
て前記吸着口を通して前記絶縁性基板に吸着力を作用さ
せ、前記絶縁性基板を固定して各種の処理を施すことを
特徴としている。
【００１５】請求項２記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項１記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記時間差は、前記絶縁性基板の一端側から他端側へ順
に設けることを特徴としている。
は、請求項１記載の液晶表示素子の製造方法において、
前記時間差は、前記絶縁性基板の一端側から他端側へ順
に設けることを特徴としている。
【００１６】請求項３記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項１または請求項２記載の液晶表示素子の製造
方法において、前記領域のうち、最初に前記絶縁性基板
に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることを特徴
としている。
は、請求項１または請求項２記載の液晶表示素子の製造
方法において、前記領域のうち、最初に前記絶縁性基板
に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることを特徴
としている。
【００１７】請求項４記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項１乃至請求項３記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記絶縁性基板は厚さ０．７ｍｍ以下のガ
ラスであることを特徴としている。
は、請求項１乃至請求項３記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記絶縁性基板は厚さ０．７ｍｍ以下のガ
ラスであることを特徴としている。
【００１８】請求項５記載の液晶表示素子の製造方法
は、請求項１乃至請求項３記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記絶縁性基板はプラスチックであること
を特徴としている。
は、請求項１乃至請求項３記載の液晶表示素子の製造方
法において、前記絶縁性基板はプラスチックであること
を特徴としている。
【００１９】請求項６記載の液晶表示素子製造装置は、
絶縁性基板を載置する平坦な載置面を有する載置台と、
前記載置面に設けられた複数の吸着口とを有し、前記吸
着口を通して吸着力を作用させて前記絶縁性基板を固定
し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す液晶表示素子製
造装置において、前記絶縁性基板を少なくとも二つの領
域に分割し、前記領域毎に時間差を設けて前記吸着口を
通して前記絶縁性基板に吸着力を作用させる機構を有し
ていることを特徴としている。
絶縁性基板を載置する平坦な載置面を有する載置台と、
前記載置面に設けられた複数の吸着口とを有し、前記吸
着口を通して吸着力を作用させて前記絶縁性基板を固定
し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す液晶表示素子製
造装置において、前記絶縁性基板を少なくとも二つの領
域に分割し、前記領域毎に時間差を設けて前記吸着口を
通して前記絶縁性基板に吸着力を作用させる機構を有し
ていることを特徴としている。
【００２０】請求項７記載の液晶表示素子製造装置は、
請求項６記載の液晶表示素子製造装置において、前記時
間差は、前記絶縁性基板の一端側から他端側へ順に設け
ることができることを特徴としている。
請求項６記載の液晶表示素子製造装置において、前記時
間差は、前記絶縁性基板の一端側から他端側へ順に設け
ることができることを特徴としている。
【００２１】請求項８記載の液晶表示素子製造装置は、
請求項６または請求項７記載の液晶表示素子製造装置に
おいて、前記領域のうち、最初に前記絶縁性基板に吸着
力を作用させる領域が最も小さいことを特徴としてい
る。
請求項６または請求項７記載の液晶表示素子製造装置に
おいて、前記領域のうち、最初に前記絶縁性基板に吸着
力を作用させる領域が最も小さいことを特徴としてい
る。
【００２２】本発明の液晶表示素子の製造方法によれ
ば、絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記
領域毎に時間差を設けて吸着口を通して絶縁性基板に吸
着力を作用させ、絶縁性基板を固定して各種の処理を施
すことにより、絶縁性基板全体を同時に吸着固定する場
合に比べて、各領域毎では静電気の発生量を少なくする
ことができるため、吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれ
を防止することができる。
ば、絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記
領域毎に時間差を設けて吸着口を通して絶縁性基板に吸
着力を作用させ、絶縁性基板を固定して各種の処理を施
すことにより、絶縁性基板全体を同時に吸着固定する場
合に比べて、各領域毎では静電気の発生量を少なくする
ことができるため、吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれ
を防止することができる。
【００２３】さらに、絶縁性基板の一端側から他端側へ
順に時間差を設けて吸着力を作用させることにより、絶
縁性基板と載置台との間に存在する空気を効率よく吸引
除去することができるため、さらに吸着固定時の絶縁性
基板の位置ずれを防止することができる。これは、絶縁
性基板と載置台との間に存在する空気を吸引除去するた
めに時間がかかれば、それだけ静電気の発生量が多くな
って絶縁性基板の位置ずれが発生しやすくなるためであ
る。
順に時間差を設けて吸着力を作用させることにより、絶
縁性基板と載置台との間に存在する空気を効率よく吸引
除去することができるため、さらに吸着固定時の絶縁性
基板の位置ずれを防止することができる。これは、絶縁
性基板と載置台との間に存在する空気を吸引除去するた
めに時間がかかれば、それだけ静電気の発生量が多くな
って絶縁性基板の位置ずれが発生しやすくなるためであ
る。
【００２４】さらに、前記領域のうち、最初に絶縁性基
板に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることによ
り、最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静
電気の発生量を最も少なくすることができるため、さら
に吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することが
できる。このようにすれば、２番目以降に絶縁性基板に
吸着力を作用させる領域での静電気の発生量が多くて
も、最初に絶縁性基板に吸着力を作用させた領域が吸着
固定されているため、絶縁性基板が位置ずれを起こすこ
とはない。
板に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることによ
り、最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静
電気の発生量を最も少なくすることができるため、さら
に吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することが
できる。このようにすれば、２番目以降に絶縁性基板に
吸着力を作用させる領域での静電気の発生量が多くて
も、最初に絶縁性基板に吸着力を作用させた領域が吸着
固定されているため、絶縁性基板が位置ずれを起こすこ
とはない。
【００２５】また、絶縁性基板が厚さ０．７ｍｍ以下の
ガラスであっても、載置台への吸着固定時の位置ずれを
防止することができる。
ガラスであっても、載置台への吸着固定時の位置ずれを
防止することができる。
【００２６】また、絶縁性基板がプラスチックであって
も、載置台への吸着固定時の位置ずれを防止することが
できる。
も、載置台への吸着固定時の位置ずれを防止することが
できる。
【００２７】本発明の液晶表示素子製造装置によれば、
絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記領域
毎に時間差を設けて吸着口を通して絶縁性基板に吸着力
を作用させる機構を有していることにより、絶縁性基板
全体を同時に吸着固定する場合に比べて、各領域毎では
静電気の発生量を少なくすることができるため、吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記領域
毎に時間差を設けて吸着口を通して絶縁性基板に吸着力
を作用させる機構を有していることにより、絶縁性基板
全体を同時に吸着固定する場合に比べて、各領域毎では
静電気の発生量を少なくすることができるため、吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
【００２８】さらに、絶縁性基板の一端側から他端側へ
順に時間差を設けて吸着力を作用させることができるこ
とにより、絶縁性基板と載置台との間に存在する空気を
効率よく吸引除去することができるため、さらに吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
これは、絶縁性基板と載置台との間に存在する空気を吸
引除去するために時間がかかれば、それだけ静電気の発
生量が多くなって絶縁性基板の位置ずれが発生しやすく
なるためである。
順に時間差を設けて吸着力を作用させることができるこ
とにより、絶縁性基板と載置台との間に存在する空気を
効率よく吸引除去することができるため、さらに吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
これは、絶縁性基板と載置台との間に存在する空気を吸
引除去するために時間がかかれば、それだけ静電気の発
生量が多くなって絶縁性基板の位置ずれが発生しやすく
なるためである。
【００２９】さらに、前記領域のうち、最初に絶縁性基
板に吸着力を作用させる領域が最も小さいことにより、
最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静電気
の発生量を最も少なくすることができるため、さらに吸
着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができ
る。このようにすれば、２番目以降に絶縁性基板に吸着
力を作用させる領域での静電気の発生量が多くても、最
初に絶縁性基板に吸着力を作用させた領域が吸着固定さ
れているため、絶縁性基板が位置ずれを起こすことはな
い。
板に吸着力を作用させる領域が最も小さいことにより、
最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静電気
の発生量を最も少なくすることができるため、さらに吸
着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができ
る。このようにすれば、２番目以降に絶縁性基板に吸着
力を作用させる領域での静電気の発生量が多くても、最
初に絶縁性基板に吸着力を作用させた領域が吸着固定さ
れているため、絶縁性基板が位置ずれを起こすことはな
い。
【００３０】
【発明の実施の形態】図１および図２を用いて、本発明
の実施の形態について説明する。
の実施の形態について説明する。
【００３１】例えば、液晶表示素子の製造プロセスにお
ける配向膜印刷装置には、図１および図２に示すよう
に、上面に平坦な載置面を有するステージ（載置台）１
が設けられている。このステージ１には、直径０．５〜
１．０ｍｍの複数の吸着口２が載置面に５〜３０ｍｍ間
隔で碁盤目状に開口している。
ける配向膜印刷装置には、図１および図２に示すよう
に、上面に平坦な載置面を有するステージ（載置台）１
が設けられている。このステージ１には、直径０．５〜
１．０ｍｍの複数の吸着口２が載置面に５〜３０ｍｍ間
隔で碁盤目状に開口している。
【００３２】これらの吸着口２のうち、第１の領域３の
吸着口２ａは、ステージ１内部に設けられている第１の
連通路４にそれぞれ接続されている。そして、第１の連
通路４は、切換弁５を介して真空ポンプ６に接続されて
いる。また、第２の領域７の吸着口２ｂは、第１の連通
路４とは別にステージ１内に設けられている第２の連通
路８にそれぞれ接続され、第２の連通路８は切換弁５を
介して真空ポンプ６に接続されている。また、第３の領
域９の吸着口２ｃは、第１の連通路４および第２の連通
路８とは別にステージ１内に設けられている第３の連通
路１０にそれぞれ接続され、第３の連通路１０は切換弁
５を介して真空ポンプ６に接続されている。
吸着口２ａは、ステージ１内部に設けられている第１の
連通路４にそれぞれ接続されている。そして、第１の連
通路４は、切換弁５を介して真空ポンプ６に接続されて
いる。また、第２の領域７の吸着口２ｂは、第１の連通
路４とは別にステージ１内に設けられている第２の連通
路８にそれぞれ接続され、第２の連通路８は切換弁５を
介して真空ポンプ６に接続されている。また、第３の領
域９の吸着口２ｃは、第１の連通路４および第２の連通
路８とは別にステージ１内に設けられている第３の連通
路１０にそれぞれ接続され、第３の連通路１０は切換弁
５を介して真空ポンプ６に接続されている。
【００３３】切換弁５によって、真空ポンプ６を作動し
たときの真空吸着力が、第１の連通路４から吸着口２ａ
を通して作用する状態（以下、第１の吸着作用状態とい
う）と、第１の連通路４および第２の連通路８から吸着
口２ａおよび吸着口２ｂを通して作用する状態（以下、
第２の吸着作用状態という）と、第１の連通路４、第２
の連通路８および第３の連通路１０から吸着口２ａ、吸
着口２ｂおよび吸着口２ｃを通して作用する状態（以
下、第３の吸着作用状態という）との切り換えが行われ
る。
たときの真空吸着力が、第１の連通路４から吸着口２ａ
を通して作用する状態（以下、第１の吸着作用状態とい
う）と、第１の連通路４および第２の連通路８から吸着
口２ａおよび吸着口２ｂを通して作用する状態（以下、
第２の吸着作用状態という）と、第１の連通路４、第２
の連通路８および第３の連通路１０から吸着口２ａ、吸
着口２ｂおよび吸着口２ｃを通して作用する状態（以
下、第３の吸着作用状態という）との切り換えが行われ
る。
【００３４】尚、本実施の形態においては、前述の領域
が３つの場合について説明しているが、特に３つの領域
に限定されるものではない。また、切換弁５によって前
述の吸着作用状態を切り換えている場合について説明し
ているが、各領域毎に真空ポンプ６をそれぞれ設けるよ
うにしてもよい。
が３つの場合について説明しているが、特に３つの領域
に限定されるものではない。また、切換弁５によって前
述の吸着作用状態を切り換えている場合について説明し
ているが、各領域毎に真空ポンプ６をそれぞれ設けるよ
うにしてもよい。
【００３５】前述のようなステージ１を備える配向膜印
刷装置に、絶縁性基板１１として例えば厚さ０．７ｍｍ
以下のガラス基板またはプラスチックからなる平面状の
プラスチック基板が載置された場合、以下のような操作
手順に基づいてこの絶縁性基板１１の吸着固定が行われ
る。
刷装置に、絶縁性基板１１として例えば厚さ０．７ｍｍ
以下のガラス基板またはプラスチックからなる平面状の
プラスチック基板が載置された場合、以下のような操作
手順に基づいてこの絶縁性基板１１の吸着固定が行われ
る。
【００３６】まず、複数の絶縁性基板１１が収納された
カセット内において、位置決めピン等によって絶縁性基
板１１を位置決めした後、搬送アーム等によってステー
ジ１から突き出したリフトピン（図示せず）上に絶縁性
基板１１を載置する。
カセット内において、位置決めピン等によって絶縁性基
板１１を位置決めした後、搬送アーム等によってステー
ジ１から突き出したリフトピン（図示せず）上に絶縁性
基板１１を載置する。
【００３７】そして、リフトピンを下降させて絶縁性基
板１１をステージ１上に載置し、切換弁５を作動して第
１の連通路４を真空ポンプ６と接続状態として、第１の
吸着作用状態とする。これにより、吸着口２ａのみで絶
縁性基板１１をステージ１に吸着固定する。このとき、
絶縁性基板１１とステージ１との間に存在している空気
を吸着口２ａのみから吸引するため、この空気が流動す
ることによる静電気の発生を抑制し、絶縁性基板１１の
位置ずれを防止することができる。
板１１をステージ１上に載置し、切換弁５を作動して第
１の連通路４を真空ポンプ６と接続状態として、第１の
吸着作用状態とする。これにより、吸着口２ａのみで絶
縁性基板１１をステージ１に吸着固定する。このとき、
絶縁性基板１１とステージ１との間に存在している空気
を吸着口２ａのみから吸引するため、この空気が流動す
ることによる静電気の発生を抑制し、絶縁性基板１１の
位置ずれを防止することができる。
【００３８】次いで、切換弁５の切換操作を行い、真空
ポンプ６と第１の連通路４との接続状態は継続したまま
第２の連通路８と真空ポンプ６とを接続状態とし、第２
の吸着作用状態とする。これにより、吸着口２ａおよび
吸着口２ｂで絶縁性基板１１をステージ１に吸着固定す
る。このとき、絶縁性基板１１とステージ１との間に存
在している空気を吸着口２ｂのみから吸引するため、こ
の空気が流動することによる静電気の発生を抑制すると
ともに、吸着口２ａによって既に絶縁性基板１１がステ
ージ１に吸着固定されているため、絶縁性基板１１が位
置ずれを起こすことがない。
ポンプ６と第１の連通路４との接続状態は継続したまま
第２の連通路８と真空ポンプ６とを接続状態とし、第２
の吸着作用状態とする。これにより、吸着口２ａおよび
吸着口２ｂで絶縁性基板１１をステージ１に吸着固定す
る。このとき、絶縁性基板１１とステージ１との間に存
在している空気を吸着口２ｂのみから吸引するため、こ
の空気が流動することによる静電気の発生を抑制すると
ともに、吸着口２ａによって既に絶縁性基板１１がステ
ージ１に吸着固定されているため、絶縁性基板１１が位
置ずれを起こすことがない。
【００３９】次いで、切換弁５の切換操作を行い、真空
ポンプ６と第１の連通路４および第２の連通路８との接
続状態は継続したまま第３の連通路１０と真空ポンプ６
とを接続状態とし、第３の吸着作用状態とする。これに
より、吸着口２ａ、吸着口２ｂおよび吸着口２ｃで絶縁
性基板１１をステージ１に完全に吸着固定する。このと
き、絶縁性基板１１とステージ１との間に存在している
空気を吸着口２ｃのみから吸引するため、この空気が流
動することによる静電気の発生を抑制するとともに、吸
着口２ａおよび吸着口２ｂによって既に絶縁性基板１１
がステージ１に吸着固定されているため、絶縁性基板１
１が位置ずれを起こすことがない。
ポンプ６と第１の連通路４および第２の連通路８との接
続状態は継続したまま第３の連通路１０と真空ポンプ６
とを接続状態とし、第３の吸着作用状態とする。これに
より、吸着口２ａ、吸着口２ｂおよび吸着口２ｃで絶縁
性基板１１をステージ１に完全に吸着固定する。このと
き、絶縁性基板１１とステージ１との間に存在している
空気を吸着口２ｃのみから吸引するため、この空気が流
動することによる静電気の発生を抑制するとともに、吸
着口２ａおよび吸着口２ｂによって既に絶縁性基板１１
がステージ１に吸着固定されているため、絶縁性基板１
１が位置ずれを起こすことがない。
【００４０】その後、ＣＣＤカメラ等を用いて絶縁性基
板１１にあらかじめ形成されているアライメントマーク
を利用し、高精度の位置決めを行ってから配向膜印刷を
行う。この装置での処理を完了すると、切換弁５の切換
操作を行い、吸着固定状態を解除して、この装置から次
の工程へと搬出される。
板１１にあらかじめ形成されているアライメントマーク
を利用し、高精度の位置決めを行ってから配向膜印刷を
行う。この装置での処理を完了すると、切換弁５の切換
操作を行い、吸着固定状態を解除して、この装置から次
の工程へと搬出される。
【００４１】尚、本実施の形態においては、配向膜印刷
装置について説明したが、レジスト塗布装置、露光装
置、シール印刷機等に本発明を用いても、同様の効果を
得ることができる。
装置について説明したが、レジスト塗布装置、露光装
置、シール印刷機等に本発明を用いても、同様の効果を
得ることができる。
【００４２】
【発明の効果】以上の説明のように、本発明の液晶表示
素子の製造方法によれば、絶縁性基板を少なくとも二つ
の領域に分割し、前記領域毎に時間差を設けて吸着口を
通して絶縁性基板に吸着力を作用させ、絶縁性基板を固
定して各種の処理を施すことにより、絶縁性基板全体を
同時に吸着固定する場合に比べて、各領域毎では静電気
の発生量を少なくすることができるため、吸着固定時の
絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
素子の製造方法によれば、絶縁性基板を少なくとも二つ
の領域に分割し、前記領域毎に時間差を設けて吸着口を
通して絶縁性基板に吸着力を作用させ、絶縁性基板を固
定して各種の処理を施すことにより、絶縁性基板全体を
同時に吸着固定する場合に比べて、各領域毎では静電気
の発生量を少なくすることができるため、吸着固定時の
絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
【００４３】さらに、絶縁性基板の一端側から他端側へ
順に時間差を設けて吸着力を作用させることにより、絶
縁性基板と載置台との間に存在する空気を効率よく吸引
除去することができるため、さらに吸着固定時の絶縁性
基板の位置ずれを防止することができる。
順に時間差を設けて吸着力を作用させることにより、絶
縁性基板と載置台との間に存在する空気を効率よく吸引
除去することができるため、さらに吸着固定時の絶縁性
基板の位置ずれを防止することができる。
【００４４】さらに、前記領域のうち、最初に絶縁性基
板に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることによ
り、最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静
電気の発生量を最も少なくすることができるため、さら
に吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することが
できる。
板に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることによ
り、最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静
電気の発生量を最も少なくすることができるため、さら
に吸着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することが
できる。
【００４５】また、絶縁性基板が厚さ０．７ｍｍ以下の
ガラスであっても、載置台への吸着固定時の位置ずれを
防止することができる。
ガラスであっても、載置台への吸着固定時の位置ずれを
防止することができる。
【００４６】また、絶縁性基板がプラスチックであって
も、載置台への吸着固定時の位置ずれを防止することが
できる。
も、載置台への吸着固定時の位置ずれを防止することが
できる。
【００４７】本発明の液晶表示素子製造装置によれば、
絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記領域
毎に時間差を設けて吸着口を通して絶縁性基板に吸着力
を作用させる機構を有していることにより、絶縁性基板
全体を同時に吸着固定する場合に比べて、各領域毎では
静電気の発生量を少なくすることができるため、吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記領域
毎に時間差を設けて吸着口を通して絶縁性基板に吸着力
を作用させる機構を有していることにより、絶縁性基板
全体を同時に吸着固定する場合に比べて、各領域毎では
静電気の発生量を少なくすることができるため、吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
【００４８】さらに、絶縁性基板の一端側から他端側へ
順に時間差を設けて吸着力を作用させることができるこ
とにより、絶縁性基板と載置台との間に存在する空気を
効率よく吸引除去することができるため、さらに吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
順に時間差を設けて吸着力を作用させることができるこ
とにより、絶縁性基板と載置台との間に存在する空気を
効率よく吸引除去することができるため、さらに吸着固
定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができる。
【００４９】さらに、前記領域のうち、最初に絶縁性基
板に吸着力を作用させる領域が最も小さいことにより、
最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静電気
の発生量を最も少なくすることができるため、さらに吸
着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができ
る。
板に吸着力を作用させる領域が最も小さいことにより、
最初に絶縁性基板に吸着力を作用させる領域での静電気
の発生量を最も少なくすることができるため、さらに吸
着固定時の絶縁性基板の位置ずれを防止することができ
る。
【図１】本発明に係わるステージと絶縁性基板とを示す
平面図である。
平面図である。
【図２】本発明に係わるステージと絶縁性基板とを示す
断面図である。
断面図である。
【図３】従来のステージとこのステージ上に載置される
ガラス基板とを示す断面図である。
ガラス基板とを示す断面図である。
１ ステージ（載置台） ２ 吸着口 ３ 第１の領域 ４ 第１の連通路 ５ 切換弁 ６ 真空ポンプ ７ 第２の領域 ８ 第２の連通路 ９ 第３の領域 １０ 第３の連通路 １１ 絶縁性基板 ５１ ガラス基板 ５２ ステージ（載置台） ５３ 吸着口 ５４ 連通路 ５５ 真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 29/786 Ｈ０１Ｌ 29/78 ６１２Ｚ 21/336 ６２６Ｃ
Claims (8)
- 【請求項１】 複数の吸着口が開口する平坦な載置面を
有する載置台上に、前記吸着口を通して吸着力を作用さ
せて絶縁性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理
を施す液晶表示素子の製造方法において、 前記絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記
領域毎に時間差を設けて前記吸着口を通して前記絶縁性
基板に吸着力を作用させ、前記絶縁性基板を固定して各
種の処理を施すことを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。 - 【請求項２】 前記時間差は、前記絶縁性基板の一端側
から他端側へ順に設けることを特徴とする請求項１記載
の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項３】 前記領域のうち、最初に前記絶縁性基板
に吸着力を作用させる領域を最も小さくすることを特徴
とする請求項１または請求項２記載の液晶表示素子の製
造方法。 - 【請求項４】 前記絶縁性基板は厚さ０．７ｍｍ以下の
ガラスであることを特徴とする請求項１乃至請求項３記
載の液晶表示素子の製造方法。 - 【請求項５】 前記絶縁性基板はプラスチックであるこ
とを特徴とする請求項１乃至請求項３記載の液晶表示素
子の製造方法。 - 【請求項６】 絶縁性基板を載置する平坦な載置面を有
する載置台と、前記載置面に設けられた複数の吸着口と
を有し、前記吸着口を通して吸着力を作用させて前記絶
縁性基板を固定し、前記絶縁性基板に各種の処理を施す
液晶表示素子製造装置において、 前記絶縁性基板を少なくとも二つの領域に分割し、前記
領域毎に時間差を設けて前記吸着口を通して前記絶縁性
基板に吸着力を作用させる機構を有していることを特徴
とする液晶表示素子製造装置。 - 【請求項７】 前記時間差は、前記絶縁性基板の一端側
から他端側へ順に設けることができることを特徴とする
請求項６記載の液晶表示素子製造装置。 - 【請求項８】 前記領域のうち、最初に前記絶縁性基板
に吸着力を作用させる領域が最も小さいことを特徴とす
る請求項６または請求項７記載の液晶表示素子製造装
置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9292111A JPH11125811A (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子製造装置 |
| US09/150,735 US6173648B1 (en) | 1997-10-24 | 1998-09-10 | Manufacturing method of liquid crystal display element and manufacturing apparatus of the same |
| TW087115346A TW473626B (en) | 1997-10-24 | 1998-09-15 | Manufacturing method of liquid crystal display element and manufacturing apparatus of the same |
| KR1019980039702A KR100320697B1 (ko) | 1997-10-24 | 1998-09-24 | 액정 표시 소자의 제조 방법 및 액정 표시 소자제조 장치 |
| US09/684,815 US6272989B1 (en) | 1997-10-24 | 2000-10-10 | Manufacturing method of liquid crystal display element and manufacturing apparatus of the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9292111A JPH11125811A (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11125811A true JPH11125811A (ja) | 1999-05-11 |
Family
ID=17777698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9292111A Pending JPH11125811A (ja) | 1997-10-24 | 1997-10-24 | 液晶表示素子の製造方法および液晶表示素子製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11125811A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002217276A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Ushio Inc | ステージ装置 |
| JP2009112985A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Toray Eng Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07183366A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 大型ガラス基板のエア吸着方法 |
| JPH08274148A (ja) * | 1995-01-30 | 1996-10-18 | Sony Corp | 基体固定装置及び基体の固定方法 |
| JPH0980404A (ja) * | 1995-09-11 | 1997-03-28 | Hitachi Ltd | 基板吸着装置 |
-
1997
- 1997-10-24 JP JP9292111A patent/JPH11125811A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07183366A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 大型ガラス基板のエア吸着方法 |
| JPH08274148A (ja) * | 1995-01-30 | 1996-10-18 | Sony Corp | 基体固定装置及び基体の固定方法 |
| JPH0980404A (ja) * | 1995-09-11 | 1997-03-28 | Hitachi Ltd | 基板吸着装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002217276A (ja) * | 2001-01-17 | 2002-08-02 | Ushio Inc | ステージ装置 |
| JP2009112985A (ja) * | 2007-11-08 | 2009-05-28 | Toray Eng Co Ltd | 塗布装置及び塗布方法 |
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