KR970048905A

KR970048905A - 공중합성 광개시제를 사용하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 일으키는 광경화성 조성물

Info

Publication number: KR970048905A
Application number: KR1019950061461A
Authority: KR
Inventors: 박종진; 민효
Original assignee: 서영배; 한국태양잉크제조 주식회사
Priority date: 1995-12-28
Filing date: 1995-12-28
Publication date: 1997-07-29

Abstract

본 발명은 라디칼 중합과ㅡ 양이온성 중합을 동시에 일으키는 감광성 광중합 조성물을 제공하고, 이 조성물은 (a) 하나 이상의 공중합성 양이온성 광중합 개시제, (b) 하나 이상의 공중합성 라디칼 광중합 개시제, (c) 하나 이상의 양이온성 모노머, (d) 하나 이상의 라디칼 광중합용 혼합물, (e) 증감제 및 (f) 희석재를 함유하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 일으키는 광경화성 조성물로서, 상기 (a)는 4-비닐피리디움염으로부터 선택된 1종 또는 그 이상의 혼합물이고; (b)는 @-아릴벤조인, @-아릴벤조인아릴에테르, 다로큐어 1173 유도체, 및 벤조페논 유도체에서 선택된 1종 이상의 혼합물이며; (c)는 에폭시를 갖는 올리고머 및 비닐 에테르 화합물이고; 그리고 (d)는 노볼락형 에폭시화합물과 불포화 페놀 화합물과의 완전 에테르화 반응 생성물 또는는 부분 에테르화 반응 생성물 또는 이 반응 생성물의 이차 수산기를 포화 또는 불포화다가산 무수물과 반응 시켜 얻은 반응 생성물임을 특징으로 한다.

상기와 같은 본 발명 조성물은 이를 이용하여 포토 레지스트 패턴을 형성하였을 때 잔존 라디칼 절편이 포트레지스트 피막의 표면으로 마이그레이션되지 않아 피막의 표면 경화물성을 향상시키는 것을 가능게 한다.

Description

공중합성 광개시제를 사용하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 일으키는 광경화성 조성물

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims

(a) 하나 이상의 공중합성 양이온성 광중합 개시제, (b) 하나 이상의 공중합성 라디칼 광중합 개시제, (c) 하나 이상의 양이온성 광중합용 모노머, (d) 하나 이상의 라디칼 광중합용 혼합물, (e) 증감제 및 (f) 희석재를 함유하여 라디칼 중합과 양이온 중합을 동시에 일으키는 광경화성 조성물로서, 상기 (a)는 4-비닐페닐디메틸술포늄염, N-(p-비닐벤질)-N.N-디메칠아닐이늄염, 메틸패닐비닐술포늄, 디메틸비닐술포늄, 및 4-비닐 피리디움염으로부터 선택된 1종 또는 그 이상의 혼합물이고, (b)는 각각 하기 일반식들로 나타 내지는 a-아릴벤조인, a-아틸벤조인 아틸에테르. 다로큐어 1173및 그의 유도체, 및 벤조페논 유도체에서선택된 1종 이상의 혼합물이며;

(c)는 에폭시를 갖는 올리고머 및 비닐 에테르 화합물이고; 그리고 (d)는 노볼락형 에폭시화합물과 불포화 페놀 화합물과의 완전 에테르화 반응 생성물 또는는 부분 에테르화 반응 생성물 또는 이 반응 생성물의 이차 수산기를 포화 또는 불포화다가산 무수물과 반응 시켜 얻은 반응 생성물임을 특징으로 하는 감광성 광경화성 조성물.
제1항에 있어서, 상기 (a)와 (b)의 광중합 개시제는 조성물 총중량 100중량을 기준으로 하여 1-30중량부의 양으로 사용함을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, (c)의 성분으로서의 에폭시기를 갖는 올리고머는 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A의 노볼락형 에폭시 수지, 글리옥살형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 수소화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 키일레이터형 에폭시 숭지 비스페놀 F형 에폭시 수지,브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 아미노기 함유 형 에폭시 수지 및 엡실론-카프로락톤 개질 형 에폭시 수지로 구성된 그룹으로부터 선택된 최소한 한가지 이상의 형 에폭시 수지임을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, (c)성분으로서의 비닐 에테르 화합물은 메틸 비닐 에티르, 에틸 비닐 에티르, 이소프로필 비닐 에티르, n-프로필 비닐 에티르, 2-에틸 헥실 비닐 에티르, 도데실 비닐 에티르, (2-히드록시에틸) 비닐 에티르, (3-히드록시프로필) 비닐 에티르, (4-히드록시부틸) 비닐 에티르, 1.4-시클로헥산 디메탈올디비닐 에티르, 트리에틸렌 글리콜 디비닐 에티르로부터 선택된 최소한 1종이 이상임을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 상기 (d) 성분은 하기 일반식으로 나타내지는 것임을 특징으로 하는 조성물.

(상기 식에서 A는 CH<₂=CHCO- 또는 CH₂=C(CH₃CO-,R은 알킬그룹을 나타낸다.)
제1항에 있어서, (d)성분으로서 다관능 아크릴계, 에폭시 아크릴레이트계, 우레탄아크릴레이트계로부터 선택된 최소한 한가지 이상의 중합성 비닐 단량체를 더 포함함을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 잇어서, 상기 (c)와 (d)의 광중합용 성분들은 합하여 조성물 총중량 100중량을 기준으로 하여 20-60중량부의 양으로 사용함을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 증감제(e)는 상기 안트라센 및 그 유도체, p-N, N-디메틸아미노 이소아밀 벤조에이트, 벤조인 이소프로필 에테르, n-부틸아민, 트리에틸아민, 디메틸아미노에틸메타아크릴레이트, 레리렌, 벤조플라빈(C.I.46065), 세토프라빈 티(C.I.49005), 포스핀 R(C.I.46045), 아크라딘 옐로우(C.I.46025), 아크리딘 오렌지(C.I.46005)로 구성된 그룹으로부터 선택된 1종 또는 2종 이상의 혼합물이고, 조성물 총중량 100중량을 기준으로 하여 1-15중량부의 양으로 사용함을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어, 소포제, 평준화제, 중합억제제, 광변색제 및 무기 충전제로 구성된 그룹으로부터 선택된 최소한 한가지 이상의 첨가제를 부가적으로 포함하는 것임을 특징으로 하는 조성물.
제1항에 있어서, 상기 희석제 (f)는 히드록시알킬(메타)아크릴레이트, 글리콜의 모노- 및 디-(메타)아크릴레이트, 아크릴아미드, 아미노알킬(메타)아크릴레이트, 다가알코올의 다가작용기(메타)아크릴레이트 및 글리리딜 에테르의 (메타)아크릴레이트 및 멜라민(메타)아크릴레이트로서 구성된 구룹으로부터 선택된 최소한 한가지 이상의 중합성 비닐 단량체; 또는 케톤, 방향족 탄화수소, 화합물, 글리콜 에테르, 에스테르, 알코올, 지방족 탄화수소 화합물 및 석유계 용매로 구성된 그룹으로부터 선택된 최소한 한가지 이상의 유기 용매이며, 그 양은 조성물 총중량 100중량을 기준으로 하여 20-30중량부임을 특징으로 하는 조성물.
제1항의 감광성 수지조성물을 실리콘웨이퍼 또는 인쇄회로판 표면상에 저교용하고, 상기 조성물 장용층을 주어진 패턴을 갖는 포토 마스크를 통하여 화학방사선에 노출 감광시켜 가리칼 중합과 양이온 중합이 동시에 진행시킴으로써, 적용층의 비감광부분을 현상액과 함께 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 방법.

※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.