KR970071132A - 감광성 열경화제로 치환된 공중합성 단량체를 포함하는 감광성 열경화성 조성물 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 감광성 열경화제로 치환된 공중합성 단량체를 포함하는 감광성 열경화성 조성물에 관한 것으로, 이 조성물은 (ⅰ) UV 조사에 의해 산이나 염기를 발생하는 단량체; (ⅱ) 공중합성 라디칼 광개시제; (ⅲ) 이온성 광중합용 단량체; 에폭시기를 갖는 올리고머 또는 이들의 혼합물; (ⅳ) 라디칼 광중합용 에틸렌계 불포화 화합물; (ⅴ) 증감제; 및, (ⅵ) 희석제를 구성성분으로 하고 있다. 본 발명의 감광성 열경화성 조성물은 포토레지스트 패턴을 형성하는 공정 중, 레지스트피막에 남아 있는 용매를 제거하기 위해 실시하는 열건조 공정에서 에폭시의 경화제가 열경화 반응을 일으키지 않고 있다가, UV 조사에 의해서 산성기과 염기성기를 발생하고 이어 열경화 반응을 일으켜서 포토레지스트의 현상성을 향상시킨다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (13)
- (ⅰ) UV 조사에 의해 산이나 염기를 발생하는 단량체; (ⅱ) 공중합성 라디칼 광개시제; (ⅲ) 이온성 광중합용 단량체; 에폭시기를 갖는 올리고머 또는 이들의 혼합물; (ⅳ) 라디칼 광중합용 에틸렌계 불포화 화합물; (ⅴ) 증감제; 및, (ⅵ) 희석제를 포함하고, 화학방사선에 노출된 부분이 라디칼 중합에 이어 열에 의해 이온중합을 순차적으로 일으키는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 있어서, UV 조사에 의해 산이나 염기를 발생하는 단량체는 4-(2-니트로벤질) 스티렌술포네이트와 그의 유도체, 4-(2-니트로벤질) 비닐벤조에이트 및 4-(2-니트로벤질옥시카르보닐아미노) 스티렌으로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물로서, 그의 함량이 감광성 열경화성 조성물 100중량부를 기준으로 5 내지 45중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 있어서, 공중합성 라디칼 광개시제는 α-알린벤조인, α-알린벤조인 알릴에테르, α, α-디메톡시-α-히드록시아세토페논 유도체 및 4-〔2-(아크릴옥시)에톡시)〕벤조페논 유도체로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물로서, 그의 함량이 감광성 열경화성 조성물 100중량부를 기준으로 1 내지 35중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 있어서, 이온성 광중합용 단량체, 에폭시기를 갖는 올리고머 또는 이들의 혼합물은 감광성 열경화성 조성물 100중량부를 기준으로 5 내지 45중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항 또는 제4항에 있어서, 이온성 광중합용 단량체는 메틸 비닐 에테르, 에틸 비닐 에테르, 이소프로필 비닐 에테르, n-프로필 에테르, 2-에틸헥실 비닐에테프, 도데실 비닐 에테르, (2-히드록시에틸) 비닐 에테르,(3-히드록시프로필) 비닐 에테르, (4-히드록시부틸) 비닐 에테르, 1,4-시클로헥산 디메탄을 디비닐 에테르 및 트리에틸렌 글리콜 디비닐 에테르로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 비닐 에테르 유도체인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항 또는 제4항에 있어서, 이온성 광중합용 에폭시기를 갖는 올리고머는 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀 A의 노볼락형 에폭시 수지, 디시클로펜타디엔 페놀형 에폭시 수지, 글리옥살형 에폭시 수지, 비스페놀 A형 에폭시수지, 수소화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 킬레이트형 에폭시 수지, 실리콘 개질 에폭시 수지, 브롬화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 아미노기 함유 에폭시 수지 및 엡실론-카프로락톤 개질 에폭시 수지로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 에폭시 수지인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 있어서, 라디칼 광중합용 에틸렌계 불포화 화합물은 다관능 아크릴계, 에폭시 아크릴레이트계 및 우레탄아크릴레이트계로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 중합성 비닐 단량체로서, 그의 함량이 감광성 열경화성 조성물 100중량부를 기준으로 5 내지 35중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 있어서, 증감제는 안트라센과 그 유도체, p-N, N-디메틸아미노 이소아밀 벤조에이트, 벤조인이소프로필 에테르, n-부틸아민, 트리에틸아미, 디메틸아미노에틸메타아크릴레이트, 페리렌, 벤조플라빈(C.I.46065), 세토프라빈 티(C.I.49005), 포스핀 R(C.I.46045), 아크리딘 엘로우(C.I.46025) 및 아크리딘 오렌지(C.I.46005)로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물로서, 그의 함량이 감광성 열경화성 조성물 100중량부를 기준으로 1 내지 15중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 있어서, 희석제는 광중합성 비닐 단량체, 유기용매 또는 이들의 혼합물로서, 그의 합량이 감광성 열경화성 조성물 100중량부를 기준으로 20 내지 30중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제9항에 있어서, 광중합성 비닐 단량체는 히드록시알킬(메타) 아크릴레이트, 글리콜의 모노-또는 디-(메타) 아크릴레이트, 아크릴아미드, 아미노알킬(메타) 아크릴레이트, 다가 알코올의 다작용기(메타) 아크릴레이트, 글리시딜 에테르의(메타) 아크릴레이트 및 멜라민(메타) 아크릴레이트로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 중합성 비닐 단량체인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제9항에 있어서, 유기용매는 케톤, 방향족 탄화수소 화합물, 글리콜 에테르, 에스테르, 알코올, 지방족 탄화수소 화합물 및 석유계 용매로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 유기용매인 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항에 조성물은 소포제, 평탄화제, 광변색제, 중합억제제, 무기 충진체 및 부착촉진제로 구성된 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 첨가제를 부가적으로 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 열경화성 조성물.
- 제1항의 감광성 열경화성 조성물을 실리콘웨이퍼 또는 인쇄회로판 표면 상에 적용하고, 주어진 패턴을 갖는 포토마스크를 통하여 코팅된 필름을 노광하고, 비노광부분을 현상액으로 현상하여 레지스트 패턴을 형성하는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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