KR970043400A - 폴리에스터 산업용 원사 및 그의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 폴리에스터 로우칩(Low Chip)을 고상중합하여 고유점도(Ⅳ)가 0.95~1.05이고 수분율이 30ppm 이 하인 폴리에스터 칩을 수득하고, 이를 300~310℃의 폴리머온도로 노즐을 통하여 방사하고, 3000~3500m/mim의 속도로 권취하여복굴절율이 0.070~0.100 되도록 미연신사를 만든다음, 고뎃트 롤라를 이용하여 연속적으로 다단 열연신하는 것을 특징으로 한 고강력 및 우수한 촌법안정성을 갖는 폴리에스터 산업용 원사의 제조방법으로 타이어 및 벨트 등의 고무 제품의 보강재로써 그밖에 산업용으로 사용하기에 매우 유용하다.

Description

폴리에스터 상업용 원사 및 그의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (5)

  1. 폴리에스터 로우칩(Low Chip)을 고상중합하여 고유점도(Ⅳ)가 0.95~1.05이고 수분율이 30ppm 이하인 폴리에스터 칩을 수득하고, 이를 300~310℃의 폴리머 온도로 용융하여 노즐을 통하여 방사하고, 3000~3500m/min의 속도로 권취하여 복굴절율이 0.070~0.100 되도록 미연신사를 만든다음, 고뎃트 롤라를 이용하여 연속적으로 다단 열연신하는 것을 특징으로 한 고강력 및 우수한 촌법안정성을 갖는 폴리에스터 산업용 원사의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 원사 모노 필라멘트의 데니어가 2.6~4.2인 폴리에스터 산업용 원사의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 노즐에서 켄칭까지의 거리를 140~200mm로 하고, 노즐직하 분위기 온도를 200~250℃의 저온으로 유지시켜 냉각시키는 것을 특징으로 한 폴리에스터 산업용 원사의 제조방법.
  4. 제 1 내지 3하의 방법에 따라 수득되고 다음의 물성을 동시에 만족하는 산업용 폴리에스터 섬유
    1)원사 고유점도(Ⅳ)가 0.90~1.05
    2)비정배향계수(fa)가 0.60~0.75
    3)원사 강도 ×√ 신도의 값이 27~34
    4)원사 신도 15~23%
    5)원사 결정 크기 (D)가 38D52
    6)원사의 비정 배향함수(fa)가 0.60fa0.75
  5. 특허청구의 범위 제 1~4항에 기재된 산업용 폴리에스터 섬유를 1본 또는 복수로 하연하여 하연사를 형성하고, 그 하연사를 2본 이상 합쳐 하연과 같은 수의 역방향 상연을 하여 상연사를 형성하고, 그 상연사에 접착제를 부여하고 적어도 235℃ 이상의 온도에서 열처리하여 다음의 물성을 동시에 만족하는 고무 구조물 보강재에 적합한 고강력 및 촌법안정성이 우수한 디프 코드.
    1)디프 코드 강도 5.6 ｇ/d 이상
    2)수축율 S가 2.0~3.5 단, S는 드라이 오븐을 이용 150℃에서 30분간 처리후의 수축율
    3)중간신도 M이 3.0~40% 단, M은 하중 4.5ｇ/d 하에서의 변형율
    4)중간신도 M과 수축율 S의 합 E-S가 5.5E-S6.5
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