KR970033865A - 후막형 감열기록소자의 제조방법 - Google Patents

후막형 감열기록소자의 제조방법

Info

Publication number
KR970033865A
KR970033865A KR1019950057059A KR19950057059A KR970033865A KR 970033865 A KR970033865 A KR 970033865A KR 1019950057059 A KR1019950057059 A KR 1019950057059A KR 19950057059 A KR19950057059 A KR 19950057059A KR 970033865 A KR970033865 A KR 970033865A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
forming
wiring
wiring layer
manufacturing
recording element
Prior art date
Application number
KR1019950057059A
Other languages
English (en)
Inventor
김상도
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019950057059A priority Critical patent/KR970033865A/ko
Publication of KR970033865A publication Critical patent/KR970033865A/ko

Links

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

후막형 감열기록소자의 제조방법에 대하여 기재하고 있다. 본 발명은 세라믹 기판 상에 배선형성용 페이스트(paste)를 스크린-프린팅(screen printing)하고, 건조(drying) 및 소성(firing)공정을 차례로 거치게 하여 배선층을 형성하는 단계; 상기 배선층이 형성된 기판 상에 발열저항선을 형성하는 단계; 및 인쇄지와의 마찰에 의한 상기 발열저항층의 손상을 방지하기 위해 내마모막을 형성하는 단계를 포함하는 후막형 감열기록소자의 제조방법에 있어서, 상기 배선층을 형성하는 단계에서는 상기 배선형성용 페이스트를 배선이 형성될 부분에만 선택적으로 스크린-프린팅하여 배선층 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 후막형 감열기록소자의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 배선형성용 페이스트를 배선이 형성될 부분에만 선택적으로 스크린-프린팅하여 배선층 패턴을 형성하므로 후속 사진·식각공정에서 식각에 의해 제거되는 페이스트 양이 줄어들게 된다. 따라서, 배선형성용 페이스트의 재료비를 절감할 수 있다.

Description

후막형 감열기록소자의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래기술에 의한 감열기록소자의 배선층 형성에 사용되는 스크린 패턴을 나타낸 도면이다.
제2도는 본 발명에 따른 감열기록소자의 배선층 형성에 사용되는 스크린 패턴을 나타낸 도면이다.

Claims (3)

  1. 세라믹 기판 상에 배선형성용 페이스트(paste)를 스크린-프린팅(screen printing)하고, 건조(drying) 및 소성(firing)공정을 차례로 거치게 하여 배선층을 형성하는 단계; 상기 배선층이 형성된 기판 상에 발열저항선을 형성하는 단계; 및 인쇄지와의 마찰에 의한 상기 발열저항층의 손상을 방지하기 위해 내마모막을 형성하는 단계를 포함하는 후막형 감열기록소자의 제조방법에 있어서, 상기 배선층을 형성하는 단계에서는 상기 배선형성용 페이스트를 배선이 형성될 부분에만 선택적으로 스크린-프린팅하여 배선층 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 후막형 감열기록소자의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 배선층 패턴을 형성하는 단계 이후에는 사진·식각공정 단계를 더 구비하여 직진성이 양호한 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 후막형 감열기록소자의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 배선층 패턴을 형성하는 단계에서는 패턴의 폭은 50㎛이상, 패턴의 두께는 0.5㎛이상이 되도록 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 후막형 감열기록소자의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950057059A 1995-12-26 1995-12-26 후막형 감열기록소자의 제조방법 KR970033865A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950057059A KR970033865A (ko) 1995-12-26 1995-12-26 후막형 감열기록소자의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950057059A KR970033865A (ko) 1995-12-26 1995-12-26 후막형 감열기록소자의 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970033865A true KR970033865A (ko) 1997-07-22

Family

ID=66618312

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950057059A KR970033865A (ko) 1995-12-26 1995-12-26 후막형 감열기록소자의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR970033865A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900013541A (ko) 적층 세라믹 전자부품의 제조방법
KR970033865A (ko) 후막형 감열기록소자의 제조방법
KR970025978A (ko) 감열기록소자의 제조방법
JPS5551591A (en) Printing of fluorescent mark
KR920007815A (ko) 감열 기록 소자의 제조방법
JP3058905B2 (ja) 窯業用転写紙及び窯業製品の製造方法
KR970705013A (ko) 온도 및 흐름을 감지하는 센서의 제조 방법
KR970033864A (ko) 감열 기록 소자
JPS63116846A (ja) パタ−ン形成方法
JPS5521253A (en) Producing method of thick film type thermal printer head
JP2003258409A (ja) 被パターン形成物およびそのパターン形成方法
JPS6096467A (ja) サ−マルヘツドの製造方法
JPS61114862A (ja) 感熱記録ヘツドの製造方法
KR900019218A (ko) 후막소자
KR970018057A (ko) 반도체장치의 미세패턴 형성방법
KR900003972A (ko) 스페이서를 이용한 패턴 형성 방법
KR960021552A (ko) 가스센서소자용 페이스트의 인쇄방법
JP2636531B2 (ja) 印刷配線板の製造方法
JPH03219967A (ja) サーマルヘッド
JPH03275365A (ja) サーマルヘッド
JPH05201048A (ja) 厚膜型サーマルヘッド及びその製造方法
KR910007071A (ko) 접촉 인쇄 공정
JPH04174591A (ja) 印刷配線板の製造方法
JPS58166071A (ja) サ−マルヘツド用基板の製造方法
JPS6248570A (ja) サ−マルヘツドの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination