KR970030889A - 모스트랜지스터 및 그 제조방법 - Google Patents

모스트랜지스터 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970030889A
KR970030889A KR1019950043627A KR19950043627A KR970030889A KR 970030889 A KR970030889 A KR 970030889A KR 1019950043627 A KR1019950043627 A KR 1019950043627A KR 19950043627 A KR19950043627 A KR 19950043627A KR 970030889 A KR970030889 A KR 970030889A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
impurity region
concentration impurity
conductive type
high concentration
gate electrode
Prior art date
Application number
KR1019950043627A
Other languages
English (en)
Inventor
황준
Original Assignee
김주용
현대전자산업주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김주용, 현대전자산업주식회사 filed Critical 김주용
Priority to KR1019950043627A priority Critical patent/KR970030889A/ko
Publication of KR970030889A publication Critical patent/KR970030889A/ko

Links

Landscapes

  • Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)

Abstract

본 발명은 모스트랜지스터 및 그 제조방법에 관한 것으로, 제1도전형의 반도체기판과; 상기 반도체기판상에 게이트절연막을 개재하여 형성된 게이트전극; 상기 게이트전극 양측에 절연막 스페이서를 개재하여 형성된 폴리실리콘층; 및 상기 폴리실리콘층 하부에 형성된 제2도전형의 저농도 불순물영역과, 이 제2도전형의 저농도 불순물영역 하부의 기판부위에 형성된 제2도전형의 제1고농도 불순물영역 및 상기 제2도전형의 저농도 불순물영역 상부의 폴리실리콘층에 형성된 제2도전형의 제2고농도 불순물영역으로 이루어진 소오스 및 드레인으로 구성된 모스트랜지스터를 제공한다.

Description

모스트랜지스터 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 MOSFET 제조방법을 도시한 공정순서도.

Claims (8)

  1. 제1도전형의 반도체기판과; 상기 반도체기판상에 게이트절연막을 개재하여 형성된 게이트전극; 상기 게이트전극 양측에 절연막 스페이서를 개재하여 형성된 폴리실리콘층; 및 상기 폴리실리콘층 하부에 형성된 제2도전형의 저농도 불순물영역과, 이 제2도전형의 저농도 불순물영역 하부의 기판부위에 형성된 제2도전형의 제1고농도 불순물영역 및 상기 제2도전형의 저농도 불순물영역 상부의 폴리실리콘층에 형성된 제2도전형의 제2고농도 불순물영역으로 이루어진 소오스 및 드레인으로 구성된 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 소오스 및 드레인 n+/n-/n+구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제2도전형이 저농도 불순물영역은 800-1000Å 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터.
  4. 제1항에 있어서, 상기 제2도전형의 제1고농도 불순물영역은 도핑농도가 1X1018-3이상이고, 접합깊이가 0.1㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터.
  5. 제1도전형의 반도체기판상에 게이트절연막과 게이트전극 형성용 도전층을 차례로 형성하는 단계와; 상기 도전층과 게이트절연막을 소정의 게이트패턴으로 패터닝하여 게이트전극을 형성하는 단계; 제2도전형의 불순물을 고농도로 이온주입하여 게이트전극 양단의 기판 표면부위에 제2도전형의 제1고농도 불순물영역을 형성하는 단계; 상기 게이트전극 측면에 절연막 스페이서를 형성하는 단계; 기판 전면에 폴리실리콘층을 형성하는 단계; 상기 게이트전극 상부가 노출되도록 상기 폴리실리콘층을 에치백하는 단계; 및 제2도전형의 불순물을 저농도 및 고농도로 이중 이온주입하고 어닐링하여 상기 폴리실리콘층의 하부와 상부에 각각 제2도전형의 저농도 불순물영역과 제2고농도 불순물영역을 형성하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제2도전형의 제1고농도 불순물영역과 제2도전형의 저농도 불순물영역 및 제2도전형의 제2고농도 불순물영역에 의해 소오스 및 드레인이 형성되는 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터 제조 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 제2도전형이 저농도 불순물영역은 800-1000Å 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터 제조방법.
  8. 제5항에 있어서, 상기 제2도전형의 제1고농도 불순물영역은 도핑농도를 1X1018-3이상이고, 접합깊이가 0.1㎛ 이하로 형성하는 것을 특징으로 하는 모스트랜지스터 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950043627A 1995-11-24 1995-11-24 모스트랜지스터 및 그 제조방법 KR970030889A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950043627A KR970030889A (ko) 1995-11-24 1995-11-24 모스트랜지스터 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019950043627A KR970030889A (ko) 1995-11-24 1995-11-24 모스트랜지스터 및 그 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970030889A true KR970030889A (ko) 1997-06-26

Family

ID=66588159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019950043627A KR970030889A (ko) 1995-11-24 1995-11-24 모스트랜지스터 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR970030889A (ko)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960036041A (ko) 고내압 트랜지스터 및 그 제조방법
KR870000763A (ko) 반도체 장치 및 그 제조방법
KR930005257A (ko) 박막 전계효과 소자 및 그의 제조방법
KR960002556A (ko) 반도체소자 및 그 제조방법
KR910010731A (ko) 반도체장치 및 그 제조방법
KR930005106A (ko) 마스크롬의 제조방법
KR970030889A (ko) 모스트랜지스터 및 그 제조방법
KR970024229A (ko) 스태틱 랜덤 억세스 메모리소자 및 그 제조방법
KR960019611A (ko) 반도체소자 제조방법
KR970053596A (ko) 박막트랜지터 및 그 제조 방법
KR930011281A (ko) 반도체장치 및 그 제조방법
KR960002891A (ko) 반도체소자 및 그 제조방법
KR940012653A (ko) 박막트랜지스터 제조방법
KR970052835A (ko) 코발트 실리사이드막을 이용한 트랜지스터 형성방법
KR980006469A (ko) 모스트랜지스터 및 그 제조방법
KR970024292A (ko) 고내압 트랜지스터 및 그 제조방법
KR910015072A (ko) Mos 전계효과 트랜지스터 및 그 제조방법
KR930015081A (ko) 얕은 접합 모스패트 제조방법
KR970053005A (ko) 바이폴라 트랜지스터 및 그 제조방법
KR970053017A (ko) 모스트랜지스터 제조방법
KR970053921A (ko) 바이씨모스 반도체 장치의 제조방법
KR960043203A (ko) 반도체장치의 제조방법
KR960012513A (ko) 박막 트랜지스터(tft) 제조방법 및 그 구조
KR970003984A (ko) 반도체 소자의 제조 방법
KR970024283A (ko) 모스 트랜지스터 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application