KR970023537A - 진공으로 기판을 코팅하는 장치 - Google Patents

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KR970023537A
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스츠크치르보프스키 요하힘
테쉬네르 괴츠
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페터 좀머캄프, 에리히 튜테
발처스 운트 레이볼트 도이칠란트 홀딩 악티엔게젤샤프트
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Abstract

진공으로 기판(14)을 코팅하는 장치에 있어서, 이 장치는 가스방전으로 스퍼터되는 타겟과 전기적으로 상호작용하는 비어있는 코팅챔버(15)안에 배치된 2개의 음극(6,7)에 연결되어 있고 그 스퍼터된 입자가 기판(14)상에 침착하는 교류전류원(2)으로 이루어져 있는 한편, 프로세스가스가 코팅챔버(15)내로 이동되어지고, 그리고 필터로서 역할을 하고 변압기(3)와추가의 코일(5, 12, 13) 및 콘덴서(4, 8, 9, 10, 11)로 이루어져 있고, 안정한 코팅프로세스를 확보한다.

Description

진공에서 기판을 코팅하는 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 음극쌍을 위한 전원의 개략 다이어프램.

Claims (5)

  1. 진공에서 기판(14)을 코팅하는 장치에 있어서, 스퍼터되는 타겟과 전기적으로 상호 작용하는 비어있는 코팅챔버(15)안에 배치된 2개의 음극(6,7)에 연결되어 있고 그 스퍼터된 입자가 기판(14)상에 침착하는 교류전류원(2)으로 이루어져 있는 한편, 프로세스 가스가 코팅챔버(15)내로 이동될수 있고, 그리고 교류전류원(2)과 음극쌍 (6,7)사이에서 필터로서 역할을 하고 변압기(3)와 추가의 코일 및 콘덴서로 이루어진 네트워크(1)가 배치되어 있고 그리고 교류전류원(2)의 진동수가 필터의 어떤 자연 진동수와도 다르고, 그리고 교류전류에 대해서 가스방전을 형성하는 음극저항(r)의 함수로서 음극전력(P)의 특성이 작업점(A)에서 음극저항이 최고점(M)에서의 저항과 다르고 네트워크(1)의 임프던스가 하나의 프로세스 상태로부터 다른 프로세스 상태로의 변화를 방해하는 정도로 선택되는 최고점을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 음극전력과 음극저항간의 관계가 식 P(r) = r/(bo ＋ b2r2)로 표시되는 것을 특징으초 하는 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전력최고점(M)에서 저항은 작업점(A)에서 음극저항이 대략 2배 더 크도록 선택되는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제1항 내지 제3항중의 어느 한 항에 있어서, 음극으로부터 네트워크쪽으로 측정된 임피던스가 유도적인 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제1항 내지 제4항중의 어느 한항에 있어서, 음극(6, 7)의 모든 프로세스상태에서의 음극저항의 전력최고점(M)에서 저항보다 각각 더 크거나 또는 작은 것을 특징으로 하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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