KR970013047A - 트랜지스터 및 그 제조방법 - Google Patents

트랜지스터 및 그 제조방법 Download PDF

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KR970013047A
KR970013047A KR1019950026922A KR19950026922A KR970013047A KR 970013047 A KR970013047 A KR 970013047A KR 1019950026922 A KR1019950026922 A KR 1019950026922A KR 19950026922 A KR19950026922 A KR 19950026922A KR 970013047 A KR970013047 A KR 970013047A
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KR
South Korea
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conductive
forming
semiconductor substrate
film
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Application number
KR1019950026922A
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Inventor
이주영
김정석
Original Assignee
김광호
삼성전자주식회사
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Abstract

본 발명은 필드산화막의 일부영역상에 형성된 패드 도전막을 갖는 트랜지스터 및 그 제조방법에 관하여 개시한다. 본 발명의 트랜지스터는 반도체기판, 상기 반도체기판 상에서 활성영역을 한정하는 필드산화막, 상기 화성영역 상에 형성된 스페이서를 갖는 게이트전극, 상기 게이트전극 좌, 우에 형성된 얕은 불순물층, 상기 게이트전극의 상부아 상기 필드산화막상에서 단락을 갖는 제1 및 제2도전막 패턴, 상기 제1 및 제2 도전막 패턴을 갖는 반도체기판 전면에 형성된 콘택홀을 갖는 층간 절연막 및 상기 콘택홀에 형성된 도전층을 구비한다.
본 발명에 의하며, 도핑되지 않은 다결정실리콘 패드를 버퍼층(buffer layer)으로 사용하여 이온주입함으로써 N-MOS 및 P-MOS FET 양쪽 모두 이온 주입에 의한 얕은 접합층을 형성시킨 다음 이후 소오스 및 드레인에 콘택을 형성하기 위한 식각공정시 얕은 접합층으로만 식각스톱층으로 사용되던 문제점을 이온주입된 다결정실리콘 패드에 의한 두께만큼 정렬오차에 대한 충분한 마아진을 추가 확보할 수 있다.

Description

트랜지스터 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제8도는 본 발명의 제1실시예에 의한 트랜지스터의 단면도이다.

Claims (6)

  1. 반도체기판 ; 상기 반도체기판 상에서 활성영역을 한정하는 필드한화막 ; 상기 화성영역 상에 형성된 스페이서를 갖는 게이트전극 ; 상기 게이트전극 좌, 우에 형성된 얕은 불순물층 ; 상기 게이트전극의 상부와 상기 필드산화막상에서 단락을 갖는 제1 및 제2 도전막 패턴 ; 상기 제1 및 제2 도전막 패턴을 갖는 반도체기판 전면에 형성된 콘택홀을 갖는 층간 절연막 ; 및 상기 콘택홀에 형성된 도전층을 구비하는 것을 특징으로 하는 트랜지스터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 도전막은 도핑된 다결정실리콘으로 구성된 것을 특징으로 하는 트랜지스터.
  3. 제2항에 있어서, 상기 도핑은 상기 제1 및 제2 도전막이 서로 반대되는 성질의 물질로 형성된 것을 특징으로 하는 트랜지스터.
  4. 반도체기판상에 서로 다른 웰을 형성하는 단계 ; 상기 웰의 활성영역과 필드영역을 한정하는 소자분리구조를 형성하는 단계 ; 상기 활성영역에 스페이서를 갖는 게이트전극을 형성하는 단계 ; 상기 반도체기판 전면에 형성하여 상기 게이트전극의 및 필드산화막상에서 단락을 갖는 절연막 패턴을 형성하는 단계 ; 상기 절연막 패턴을 웰에 따라 제1 및 제2 도전막화시키면서 동시에 상기 게이트전극에 얕은 불순물층을 형성하는 단계 ; 상기 제1 및 제2 도전막 전면에 콘택홀을 갖는 층간절연막을 형성하는 단계 ; 및 상기 콘택홀을 채우면서 상기 층간절연막 상에 제2 도전막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 트랜지스터 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 절연막 패턴은 도핑되지 않은 다결정실리콘막 또는 비정질실리콘막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 트랜지스터 제조방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제1 및 제2 도전막 패턴은 서로 반대되는 도전성물질이 주입된 다결정실리콘막 또는 비정질실리콘막으로 형성하는 것을 특징으로 하는 트랜지스터 제조방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100268806B1 (ko) * 1997-12-27 2000-10-16 김영환 반도체소자및그제조방법

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