KR970006545A - 에칭용 전극 및 그 제조방법 - Google Patents

에칭용 전극 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970006545A
KR970006545A KR1019960008765A KR19960008765A KR970006545A KR 970006545 A KR970006545 A KR 970006545A KR 1019960008765 A KR1019960008765 A KR 1019960008765A KR 19960008765 A KR19960008765 A KR 19960008765A KR 970006545 A KR970006545 A KR 970006545A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electrode
etching
manufacturing
temperature
same
Prior art date
Application number
KR1019960008765A
Other languages
English (en)
Inventor
도시히사 노자와
도시아키 기타무라
아키히로 가와이
다카시 니시자와
가즈오 무라마츠
데츠오 스즈키
슌스케 다카다
Original Assignee
가메다카 소키치
가부시키가이샤 고베 세이코쇼
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가메다카 소키치, 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 filed Critical 가메다카 소키치
Publication of KR970006545A publication Critical patent/KR970006545A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532Electrodes
    • H01J37/3255Material

Abstract

유리형 카본 보다 훨씬 긴 수명을 갖는 값싼 에칭용 전극을 제공한다. 에칭용 전극은 겉보기 밀도가 1.7배 이상인 고밀도 결정구조로 이루어진 고강고 카본으로 형성하였다.

Description

에칭용 전극 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 전극의 겉보기 밀도 대 수명을 나타내는 도면.

Claims (3)

  1. 경질카본으로 이루어져 있고 겉보가 밀도가 1.7 이상인 고밀도 결정구조를 가지는 것을 특징으로 하는 에칭용 전극.
  2. 불활성 분위기에서 열경화성 수지를 소성하고, 800기압 이상 또는 2100℃ 온도 이상으로 열간 이소태틱 처리(HIP)를 시행하는 공정으로 카본계 전극에서 더욱 고순도를 얻는 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 제1항 기재의 에칭용 전극의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서, 1000 내지 1800℃로 열경화성 수지를 소성하여 탄화소성품을 얻고, 상기 소성품에 800기압 이상 또는 2100℃ 온도이상으로 열간 이소태틱 처리(HIP)를 행하고, 상기 HIP 처리품에 할로겐가스 분위기에서 2000℃ 온도 이상으로 고순도화 처리를 행하는 것을 특징으로 하는 에칭용 전극의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960008765A 1995-07-31 1996-03-28 에칭용 전극 및 그 제조방법 KR970006545A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7195389A JPH0941166A (ja) 1995-07-31 1995-07-31 エッチング用電極、及びその製造方法
JP95-195389 1995-07-31

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR970006545A true KR970006545A (ko) 1997-02-21

Family

ID=16340348

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960008765A KR970006545A (ko) 1995-07-31 1996-03-28 에칭용 전극 및 그 제조방법

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0757374A1 (ko)
JP (1) JPH0941166A (ko)
KR (1) KR970006545A (ko)
TW (1) TW295777B (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW449820B (en) * 1996-02-15 2001-08-11 Tokai Carbon Kk Plasma-etching electrode plate
KR101456904B1 (ko) * 2009-05-26 2014-10-31 가부시키가이샤 인큐베이션 얼라이언스 탄소 재료 및 그 제조 방법
KR101456905B1 (ko) * 2010-02-19 2014-10-31 가부시키가이샤 인큐베이션 얼라이언스 탄소 재료 및 그 제조 방법

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62252942A (ja) * 1986-04-17 1987-11-04 Tokai Carbon Co Ltd プラズマエツチング用電極板
JP2543159B2 (ja) * 1987-11-07 1996-10-16 株式会社神戸製鋼所 炭素材及びそ製造方法
JPH0352113A (ja) * 1989-07-19 1991-03-06 Kobe Steel Ltd 薄膜磁気ヘッド
JPH05208867A (ja) * 1992-01-28 1993-08-20 Tokai Carbon Co Ltd 高耐食性ガラス状カーボン材

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0941166A (ja) 1997-02-10
TW295777B (ko) 1997-01-11
EP0757374A1 (en) 1997-02-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO1996019911A3 (en) Process for preparing an insulated multilayer structure
KR940022725A (ko) 에칭방법
KR970018244A (ko) 열처리방법
CA2269862A1 (en) Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition
KR890007617A (ko) 플라즈마 처리방법 및 장치
EP0296891A3 (en) Reactor chamber for selfcleaning process
DE69939318D1 (de) Herstellungsmethode von öffnungen mit hohem aspektverhältnis
KR890012721A (ko) 피스톤의 제조 방법
AU5437501A (en) Method for modifying wooden surfaces by electrical discharges at atmosphere pressure
EP0887845A3 (en) Processing method and apparatus for removing oxide film
KR970006545A (ko) 에칭용 전극 및 그 제조방법
EP1211329A3 (en) Process and apparatus for high pressure gas quenching in an atmospheric furnace
AU3221989A (en) Metal cylindrical screen made of sheet material, and process for producing such a screen
KR930017055A (ko) 함침형 캐소드의 제조방법
ATE132298T1 (de) Herstellungsverfahren für elektrische verbindungsmittel, insbesondere verbindungssubstrate für hybridschaltungen
WO1999067804A8 (en) Electron tube comprising a semiconductor cathode
Bell et al. Industry makes strong commitment to plasma heat treatment process
DE3884769D1 (de) Verfahren zur Herstellung wärmestabiler Schichten mit hochharten und/oder reibarmen Eigenschaften.
KR970063565A (ko) 반도체 장치의 층간 절연막 형성 방법
Bulat et al. Structural and Phase Transformations in the Near-Surface Layers of Steel Under the Action of an Electric Arc Discharge in Vacuum
JPS6467818A (en) Manufacture of superconducting material
KR930014677A (ko) 음극선관용 전극 부품의 열처리 방법
JPS6421841A (en) Cathode for electron tube
KR940014892A (ko) 질화티탄막의 제조방법
EP0154175A3 (en) Rapid stabilization process for carbon fiber precursors

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application