KR970001686B1

KR970001686B1 - 반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도

Info

Publication number: KR970001686B1
Application number: KR1019890003246A
Authority: KR
Inventors: 베그리히 라이너
Original assignee: 시바-가이기 에이지; 베르너 발데그
Priority date: 1988-03-17
Filing date: 1989-03-16
Publication date: 1997-02-13
Also published as: HK1003228A1; KR890014695A; ES2055152T3; AR245475A1; CN1036596A; EP0333656A1; JPH01278570A; BR8901228A; US5021557A; CA1312857C; JP2773888B2; MX15265A; EP0333656B1; DE58904174D1; US5118826A

Abstract

내용 없음.

Description

반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도

본 발명은 반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도에 관한 것이다.

반응성 염료는 텍스타일 섬유 재료를 침염(dyeing) 및 날염(printing)하는데 광범위하게 사용되고 있다. 현재, 상이한 특성을 가지며 상이한 적용 분야들에 적합한 다수의 유용한 반응성 염료가 시판되고 있으나, 현재의 기술 상태는 특정 염색 공정에 대한 적합성 및 수득한 염색물의 견뢰 표준과 관련한 엄격한 요건의 견지에서 여러면에 있어서 완전히 만족스러운 것은 아니다.

이는 텍스타일 날염용 반응성 염료에도 또한 적용된다. 고품질 날염 염료의 이용한 가능한 범위는 특히 색조와 관련하여, 여전히 매우 일반적으로, 불충분하다. 따라서, 더욱 개선된 반응성 염료가 제공될 것이 긴급히 요구되고 있다.

본 발명의 목적은 텍스타일 섬유 재료 날염에 특히 적합한 신규한 반응성 염료를 제공하는 것이다. 이들 염료들은 매우 높은 고착률을 가지며, 이와 동시에 비고착 염료는 쉽게 세척 제거되는 특성을 갖는 것이다. 이들은 또한 우수한 일반적인 견뢰 특성들을 가지며, 특히, 만족스러운 청색 색조를 제공한다. 하기 정의되는 신규한 염료는 이들 요건을 실질적으로 만족시키는 것으로 밝혀졌다.

특히, 본 발명은 일반식(1)의 반응성 염료에 관한 것이며, 이 일반식(1)의 반응성 염료는 단 하나의 섬유-반응성 라디칼을 함유한다.

상기 식에서, Y는 일반식

(2)또는 -CO-A-SO₂-X(3)의 라디칼이고, Z는 -NH₂, 치환되거나 치환되지 않은 지방족 또는 방향족 아미노 그룹이고, A는 치환되거나 치환되지 않은 지방족 또는 방향족 가교 그룹이고, X는 β-설페이토에틸, β-티오설페이토에틸, β-포스페이토에틸, β-아실옥시에틸, β-할로에틸 또는 비닐이고, 벤젠 환 Ⅰ, Ⅱ 및 Ⅲ은 2 내지 4의 설표 그룹 이외의 추가의 치환체를 가질 수 있으며, 또한 벤젠 환 Ⅱ는 라디칼 -NH-Y 이외의 추가의 치환체를 가질 수 있다.

클로로-1,3,5-트리아지닐 라디칼의 적합한 아미노 그룹 Z는 -NH, 알킬아미노, N,N-디알킬아미노, 사이클로알킬아미노, N,N-디사이클로알킬아미노, 아르알킬아미노 및 아릴아미노 그룹, N-알킬-N-사이클로헥실아미노 및 N-알킬-N-알릴아미노 그룹과 같은 혼합 치환된 아미노 그룹, 융합된 카보사이클 환을 추가로 가질 수 있는 헤테로사이클 라디칼을 함유하는 아미노 그룹, 및 아미노 질소원자가, 아미노 질소원자 이외의 헤테로원자를 추가로 가질 수 있는 N-헤테로사이클의 환 구성원인 아미노 그룹이다. 상기 언급한 알킬 라디칼은 직쇄 또는 측쇄 및 저분자량 또는 고분자량일 수 있다. C₁내지 C₆알킬 라디칼이 바람직하다. 적합한 사이클로알킬, 아르알킬 및 아릴 라디칼은 특히 사이클로헥실, 벤질, 펜에틸, 페닐 및 나프틸 라디칼이다. 헤테로사이클 라디칼은 특히 푸란, 티오펜, 피라졸, 피리딘, 피리미딘, 퀴놀린, 벤즈이미다졸, 벤즈티아졸 및 벤즈옥사졸 라디칼이다. 아미노 질소원자가 N-헤테로사이클 환의 구성원인 적합한 아미노 그룹은 바람직하게는 추가의 헤테로 원자로서 질소, 산소 및 황을 가질 수 있는 6원 N-헤테로사이클 화합물의 라디칼이다. 상기 언급된 알킬, 사이클로알킬, 아르알킬 및 아릴 라디칼, 헤테로사이클 라디칼 및 N-헤테로사이클 환은 예를 들어 할로겐(예 : 플루오로, 클로로 및 브로모)에 의해 ; 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C₁-C₄알킬, C₁-C₄알콕시, 또는 아실아미노, 특히 아세틸아미노와 같은 C₂-C₄알카노일아미노 및 벤조일아미노에 의해 ; 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸, 설페이토, C₁-C₄알킬설포 또는 설포에 의해 추가로 치환될 수 있다. 전형적인 상기 아미노 그룹의 예는 -NH₂, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, 헥실아미노, β-메톡시에틸아미노, γ-메톡시프로필아미노, β-에톡시에틸아미노, N,N-디메틸아미노, N,N-디에틸아미노, β-클로로에틸아미노, β-시아노에틸아미노, γ-시아노프로필아미노, β-카복시에틸아미노, 설포메틸아미노, β-설포에틸아미노, N-메틸-N-β-설포에틸아미노, N-에틸-N-β-설포에틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N,N-비스(β-하이드록시에틸)아미노, β-설페이토에틸아미노, γ-하이드록시프로필아미노, 벤질아미노, 펜에틸아미노, 사이클로헥실아미노, 페닐아미노, 톨루이디노, 크실리디노, 클로로아닐리노, 2-클로로-5-설포아닐리노, 4-클로로-2-설포아닐리노, 4-클로로-3설포아닐리노, 3- 또는 4-우레이도아닐리노, 4-카복시-3-하이드록시아닐리노, 아니시디노, 펜에티노, N-메틸-N-페닐아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-설포메틸-N-페닐아미노, 3- 또는 4-아세틸아미노아닐리노, N-β-하이드록시에틸-N-페닐아미노, 3-아세틸아미노-4-설포아닐리노, 2-, 3-또는 4-설포아닐리노, 2,4-또는-2,5-디설포아닐리노, 4-설포페닐아미노, 2-메틸-4-설포아닐리노, 4-메틸-3-설포아닐리노, 3-메틸-4-설포아닐리노, 2-카복시-4-설포페닐아미노, 4-또는 5-설포나프트-1-일-아미노, 4,6-또는 3,6-디설포나프트-1-일아미노, 3,6,8-또는 2,5,7-트리설포나프트-1-일아미노, 4,6,8-트리설포나프트-1-일아미노, 1-설포나프트-2-일-아미노, 1,5-, 1,6-, 6,8-, 4,8-또는 5,7-디설포나프트-2-일아미노, 1-, 4-, 5-, 6- 또는 7-설포나프트-2-일아미노, 모르폴리노, 피페리디노 및 피페라지노, 2-메톡시-5-설포아닐리노, 4-메톡시-2-설포아닐리노, 3-또는 4-β-하이드록시에틸설포닐아닐리노, 4-아세틸아미노-3-설포아닐리노, 3-카복시-2-하이드록시아닐리노, 4,6,8-트리설포나프트-2-일아미노, 3-(N,N-디메틸아미노)프로필아미노, 4-설포-N-메틸아닐리노, 카복시메틸아미노, 사이클로헥실아미노 및 β-하이드록시에틸설포닐에톡시에틸아미노이다.

지방족 또는 방향족 가교원 A는 바람직하게는 알킬렌 또는 아릴렌 라디칼이다. 따라서, A는 장쇄(즉, 10개 이상의 탄소원자 함유) 또는 단쇄, 직쇄 또는 측쇄, 사이클릭 또는 비사이클릭 알킬렌 라디칼일 수 있다. C₂-C₆알킬렌 라디칼이 특히 적합하며, 예를 들면, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 헥실렌, 사이클로헥실렌 또는 엔도메틸렌사이클로 헥실렌이다. 적합한 아릴렌 라디칼 A는, 예를 들면, 나프틸렌 라디칼, 디페닐 또는 스틸벤 라디칼, 바람직하게는 페닐렌 라디칼이다. 라디칼 A는 추가의 치환체, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬원자와 같은 할로겐, 메틸, 에틸 또는 프로필과 같은 C₁-C₄알킬 그룹, 메톡시, 에톡시, 프로폭시 또는 이소프로폭시와 같은 C₁-C₄알콕시 그룹, 및 카복시 또는 설포이다. 바람직한 A는 C₂-C₆알킬렌 또는 페닐렌이다. 페닐렌, 프로필렌 또는 엔도메틸렌사이클로헥실렌 라디칼이 바람직하다.

β-아실옥시에틸로서의 X는 바람직하게는 β-아세톡시에틸 라디칼이며, β-할로에틸은 바람직하게는 β-클로로에틸 라디칼이다.

벤젠 환 Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ의 추가의 치환체의 전형적인 예는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필 또는 부틸과 같은 C₁-C₄알킬 그룹 ; 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시 또는 부톡시와 같은 C₁-C₄알콕시 그룹 ; C₁-C₈아실아미노 그룹, 바람직하게는 C₂-C₆알카노일아미노 그룹, 예를 들면, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 벤조일아미노 ; 아미노, C₁-C₄알킬아미노, 예를 들면, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노 또는 부틸아미노 ; 페닐아미노, N,N-비스(β-바이드록시에틸)아미노, N,N-비스(β-설페이토에틸)아미노, 설포벤질아미노, N,N-디설포벤질아미노 ; 메톡시카보닐 또는 에톡시카보닐과 같은 C₁-C₄알콕시카보닐 ; 메틸설포닐 또는 에틸설포닐과 같은 C₁-C₄알킬설포닐 ; 트리플루오로메틸, 니트로, 시아노 ; 플루오로, 클로로 또는 브로모와 같은 할로겐 ; 카바모일, N-C₁-C₄-알킬설파모일, 예를 들면, N-메틸카바모일 또는 N-에틸카바모일 ; 설파모일, N-C₁-C₄-알킬설파모일, 예를 들면, N-메틸설파모일, N-프로필설파모일, N-이소프로필설파모일 또는 N-부틸설파모일, N-(4-하이드록시에틸 )설파모일, N,N-비스(β-하이드록시에틸)설파모일, N-페닐설파모일, 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸 또는 설포이다. 바람직한 치환체는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 벤질아미노, 아미노, 클로로, 브로모, 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸 또는 설포이다. 가장 바람직하게는, 벤젠 환 Ⅰ, Ⅱ 및 Ⅲ은 설포 그룹들만을 함유한다. 벤젠 환 Ⅰ, Ⅱ 및 Ⅲ은 모두 합해서 2 내지 4개의 설포 그룹을 함유한다.

바람직한 반응성 염료는 (a) 상기 일반식(1)중 Y가 하기 일반식(2a)의 라디칼인 일반식(1)의 반응성 염료, (b) 일반식(1)중 Y가 하기 일반식 (3a)의 라디칼인 일반식(1)의 반응성 염료, 및 (c) 일반식(1) 중의 벤젠 환, Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ이 추가의 치환체를 갖지 않는 일반식(1)의 반응성 염료이다.

상기 식에서, R₁및 R₂는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 C₁-C₄알킬이거나, 또는 할로겐, 시아노, C₁-C₄알콕시, 각각의 알킬 잔기가 탄소수 1 내지 4인 N,N-디알킬아미노, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이거나 ; 벤질, 펜에틸, 사이클로헥실 또는 페닐이거나, 또는 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C₁-C₄알킬, C₁-C₄알콕시, 하이드록시에틸설포닐, C₂-C₄알카노일아미노, 벤조일아미노, 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸 또는 설포에 의해 치환된 페닐이거나 ; 나프틸이거나 또는 할로겐, 니트로, C₁-C₄알콕시, C₁-C₄알카노일아미노, 하이드록시, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 나프틸이거나 ; R₁과 R₂가 아미노 질소원자와 함께 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노 라디칼을 형성하며, A는 n-프로필렌, 페닐렌 또는 엔도메틸렌사이클로헥실렌이다.

특히 바람직한 반응성 염료는 하기 일반식(4)의 염료이다.

상기 식에서, Y는 일반식(1)에서 정의한 바와 같고, m은 1 또는 2이고, n은 0, 1 또는 2이며, m+n은 2, 3 또는 4이다.

특히 바람직한 일반식(4)의 반응성 염료는 하기 일반식(5)의 염료이다.

상기 식에서, 벤젠 환 Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ은 2, 3 또는 4개의 설포 그룹을 1,3,3'-트리설포, 1,2'-디설포, 1,3-디설포, 3,2'-디설포, 1,3,2',4'-테트라설포 ; 1,3,4'-트리설포, 1,2',4'-트리설포, 3,2',4'-트리설포, 1,3'-디설포, 또는 1,3,2'-트리설포 위치에서 갖는다.

일반식(4)의 반응성 염료에서, 특히, 일반식(5)의 반응성 염료에서, Y는 바람직하게는 일반식(2a')의 라디칼이다.

상기 식에서, -NR₁'R₂'는 -NH₂, 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, 부틸아미노, 헥실아미노, β-메톡시에틸아미노, γ-메톡시프로필아미노, β-에톡시에틸아미노, N,N-디메틸아미노, N,N-디에틸아미노, β-클로로에틸아미노, β-시아노에틸아미노, γ-시아노프로필아미노, β-카복시에틸아미노, 설포메틸아미노, β-설포에틸아미노, N-메틸-N-β-설포에틸아미노, N-에틸-N-β-설포에틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N,N-비스(β-하이드록시에틸)아미노, β-설페이토에틸아미노, γ-하이드록시프로필아미노, 벤질아미노, 펜에틸아미노, 사이클로헥실아미노, 페닐아미노, 톨루이디노, 크실리디노, 클로로아닐리노, 2-클로로-5-설포아닐리노, 4-클로로-2-설포아닐리노, 4-클로로-3설포아닐리노, 3- 또는 4-우레이도아닐리노, 4-카복시-3-하이드록시아닐리노, 아니시디노, 펜에티노, N-메틸-N-페닐아미노, N-에틸-N-페닐아미노, N-설포메틸-N-페닐아미노, 3- 또는 4-아세틸아미노아닐리노, N-β-하이드록시에틸-N-페닐아미노, 3-아세틸아미노-4-설포아닐리노, 2-, 3-또는 4-설포아닐리노, 2,4-또는-2,5-디설포아닐리노, 4-설포페닐아미노, 2-메틸-4-설포아닐리노, 4-메틸-3-설포아닐리노, 3-메틸-4-설포아닐리노, 2-카복시-4-설포페닐아미노, 4-또는 5-설포나프트-1-일-아미노, 4,6-또는 3,6-디설포나프트-1-일아미노, 3,6,8-또는 2,5,7-트리설포나프트-1-일아미노, 4,6,8-트리설포나프트-1-일아미노, 1-설포나프트-2-일-아미노, 1,5-, 1,6-, 6,8-, 4,8-또는 5,7-디설포나프트-2-일아미노, 1-, 4-, 5-, 6- 또는 7-설포나프트-2-일아미노, 모르폴리노, 피페리디노 및 피페라지노, 2-메톡시-5-설포아닐리노, 4-메톡시-2-설포아닐리노, 3-또는 4-β-하이드록시에틸설포닐아닐리노, 4-아세틸아미노-3-설포아닐리노, 3-카복시-2-하이드록시아닐리노, 4,6,8-트리설포나프트-2-일아미노, 3-(N,N-디메틸아미노)프로필아미노, 4-설포-N-메틸아닐리노, 카복시메틸아미노, 사이클로헥실아미노 및 β-하이드록시에틸설포닐에톡시에틸아미노이다.

또한 Y가 일반식(2a)의 라디칼인 일반식(4)의 반응성 염료가 특히 바람직하고, Y가 일반식(2a)의 라디칼인 일반식(5)의 염료가 가장 바람직하다.

상기 식에서, R₁및 R₂는 각각 서로 독립적으로 수소, 또는 치환되지 않거나 할로겐, 시아노, C-C알콕시, 각각의 알킬 잔기가 탄소수 1 내지 4인 N,N-디알킬아미노, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이다.

하기 구조식(6)의 반응성 염료가 특히 바람직하다.

더욱 특히 바람직한 반응성 염료는 하기 구조식(7)의 화합물이다.

일반식(1)의 염료가 갖는 일반식(2)의 라디칼

은 반응성 그룹이며 여기서, 염소원자는 섬유-반응성 이탈 그룹이다. 일반식(3)의 라디칼 또한 반응성 라디칼을 가지며, -SO₂-X그룹이다. 이 반응성 라디칼은, 예를 들어 X가 β-클로로에틸인 경우, 이탈 그룹을 가질 수 있거나, 또는 섬유-반응성 그룹의 성질에 따라, 예를 들어 X가 비닐인 경우, 활성을 띈다[반응성 염료에 대한 필수적인 정보에 대해 문헌(참조 : K. Venkatamaran, The Chemistry of Dyes, New York, Academic Press 1972, Vol. Ⅵ, Reactive Dyes)에 언급되어 있다].

일반식(1)의 반응성 염료의 제조방법은 일반식(8)의 화합물을 2,4,6-트리클로로-s-트리아진과 축합시키고, 생성된 1차 축합물을 일반식(9)의 아민, 2-(Z)아미노-4,6-디클로로-s-트리아진 또는 일반식(3)의 라디칼에 상응하는 아실 할라이드와 축합시킨 다음, 임의로 전환시키는 단계를 포함한다.

본 발명의 방법의 바람직한 양태는 (a) Z 또는 (Z)아미노가 -NR₁R₂라디칼(여기서, R₁및 R₂는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 C₁-C₄알킬이거나, 또는 할로겐, 시아노, C₁-C₄알콕시, 각각의 알킬 잔기가 탄소수 1 내지 4인 N,N-디알킬아미노, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이거나 ; 벤질, 펜에틸, 사이클로헥실 또는 페닐이거나, 또는 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, C₁-C₄알킬, C₁-C₄알콕시, 하이드록시에틸설포닐, C₂-C₄알카노일아미노, 벤조일아미노, 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸 또는 설포에 의해 치환된 페닐이거나 ; 나프틸이거나 또는 할로겐, 니트로, C₁-C₄알콕시, C₁-C₄알카노일아미노, 하이드록시, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 나프틸이거나 ; R₁과 R₂가 아미노 질소원자와 함께 모르폴리노, 피페리디노 또는 피페라지노 라디칼을 형성한다)인 일반식(9)의 아민 또는 2-(Z)아미노-4,6-디클로로-s-트리아진을 사용하고 ;

(b) 일반식 Hal-CO-A-SO₂-CH₂CH₂(여기서, Hal은 할로겐이고, A는 n-프로필렌, 페닐렌 또는 엔도메틸렌사이클로헥실렌이다)(10)의 아실 할라이드를 사용하고,

(c) 일반식(8)의 화합물(여기서, 벤젠 환 Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ은 추가의 치환체를 갖지 않는다)을 사용함을 포함한다.

본 발명의 방법중 특히 바람직한 양태는 하기 일반식(11)의 화합물을 사용함을 포함한다.

상기 식에서, m은 1 또는 2이고, n은 0, 1 또는 2이며, m+n은 2, 3 또는 4이다.

본 발명의 방법의 특히 바람직한 양태는 일반식(11)의 화합물을 2,4,6-트리클로로-s-트리아진과 축합시키고, 생성된 1차 축합물을 일반식(9)의 아민 또는 2-(Z)아미노-4,6-디클로로-s-트리아진(여기서, Z 또는 (Z)아미노는 각각 -NR₁'R₂' 또는 -NR₁R₂이고, R₁',R₂',R₁및 R₂는 상기 정의한 바와 같다)과 축합시킴을 포함한다.

중요한 일반식(6) 및 (7)의 화합물은 하기 구조식(12)의 화합물을 2,4,6-트리클로로-s-트리아진과 축합시키고, 생성된 1차 축합물을, 암모니아 또는 β-설포에틸아민과, 또는 2-아미노-4,6-디클로로-s-트리아진과, 또는 2-(β-설포에틸아미노)-4,6-디클로로-s-트리아진과 축합시켜 수득한다.

일반식(8)의 화합물은, 예를 들면, 하기 화합물의 구리 착물이다 :

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3',5'-디설포페닐)-ms-(2''-설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3',5'-디설포페닐)-ms-(4''-아미노-2''-설포페닐)포르마잔,

N-(2-하이드록시-5-설포페닐)-N'-(2'-카복시-4'-아미노페닐)-ms-(2''-설포페닐)포르마잔,

N-(2-하이드록시-5-설포페닐)-N'-(2'-카복시-4'-아미노페닐)-ms-(2''-클로로-5''-설포페닐)포르마잔,

N-(2-카복시-4-아미노페닐)-N'-(2'-하이드록시-4'-설포타프트-1'-일)-ms-(2''-설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3',5'-디설포페닐)-ms-(3''-설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3'-설포페닐)-ms-(2''-설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3',5'-디설포페닐)-ms-(페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-5'-설포페닐)-ms-(2''-설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3',5'-디설포페닐)-ms-(2'',4''-디설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3',5'-디설포페닐)-ms-(4''-설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3'-설포페닐)-ms-(2'',4''-디설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-5'-설포페닐)-ms-(2'',4''-디설포페닐)포르마잔,

N-(4-아미노-2-카복시페닐)-N'-(2'-하이드록시-3'-설포페닐)-ms-(3''-설포페닐)포르마잔,

전형적인 일반식(9)의 아민의 예는 암모니아, 메틸아민, 디메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 프로필아민, 이소프로필아민, 부틸아민, 디부틸아민, 이소부틸아민, 2급-부틸아민, 3급-부틸아민, 헥실아민, 메톡시에틸아민, 에톡시에틸아민, 메톡시프로필아민, 클로로에틸아민, 하이드록시에틸아민, 디하이드록시에틸아민, 하이드록시프로필아민, 메톡시프로필아민, 클로로에틸아민, 하이드록시에틸아민, 디하이드록시에틸아민, 하이드록시프로필아민, 글리신, 아미노에탄설폰산, N-메틸아미노에탄설폰산, N-에틸아미노에탄설폰산, β-설페이토에틸아민, 벤질아민, 펜에틸아민, 사리클로헥실아민, N-메틸아미노벤젠, N-에틸아미노벤젠, N-프로필아미노벤젠, N-이소프로필아미노벤젠, N-부틸아미노벤젠, N-이소부틸아미노벤젠, N-2급-부틸아미노벤젠, N-헥실아미노벤젠, N-β-하이드록시에틸아미노벤젠, N-β-클로로에틸아미노벤젠, N-β-시아노에틸아미노벤젠, N-β-설포에틸아미노벤젠, 1-(N-에틸아미노)-2-, -3-또는 -4-메틸벤젠, 1-(N-에틸아미노)-2-,-3- 또는 -4-에틸벤젠, 1-(N-에틸아미노)-2-, -3-또는 -4-클로로벤젠, 1-N-에틸아미노벤젠-3-또는 -4-설폰산, 1-(N-에틸아미노)-4-부틸벤젠, 1-(N-에틸아미노)-4-헥실벤젠, 1-(N-에틸아미노)-4-옥틸벤젠, 1-(N-에틸아미노)-4-비닐벤젠, 1-N-n-부틸아미노-3-메틸벤젠, 1-(N-에틸아미노)-4-플루오로벤젠, 아닐린, o-, m- 및 p-톨루이딘, 2,3-, 2,4-, 2,6-, 3,4- 및 3,5-디메틸아닐린, o-, m- 및 p-톨루이딘, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- 및 3,5-디메틸아닐린, o-, m- 및 p-클로로아닐린, N-메틸아닐린, N-에틸아닐린, 3- 또는 4-아세틸아미노아닐린, 2,5-디메톡시아닐린, o-, m- 및 p-아니시딘, o-, m- 및 p-펜에티딘, 2-메톡시-5-메틸아닐린, 2-에톡시-5-메톡시아닐린, 4-브로모아닐린, 3-아미노벤즈아미드, 4-아미노페닐설프아미드, 3-트리플루오로메틸아닐린, 3- 및 4-아미노페닐설프아미드, 3- 및 4-아미노페닐우레아, 1-나프틸아민, 2-나프틸아민, 오르토아닐산, 메트아닐산, 설프아닐산, 아닐린-2,4-디설폰산, 아닐린-2,5-디설폰산, 아닐린-3,5-디설폰산, 안트라닐산, 3-아세틸아미노-4-설포아닐린, 2-클로로-5-설포아닐린, 4-클로로-2-설포아닐린, 4-클로로-3-설포아닐린, 4-메틸-3-설포아닐린, 3-메틸-4-설포아닐린, 2-메톡시-5-설포아닐린, 4-메톡시-2-설포아닐린, 3- 또는 4-(β-하이드록시에틸설포닐)아닐린, 4-아세틸아미노-2-설포아닐린, γ-N,N-디메틸프로필아민, N-메틸-N-β-하이드록시에틸아민, 하이드록시에틸설포닐에톡시에틸아민, o-, m- 및 p-아미노벤조산, 4-아미노페닐메탄설폰산, 아닐린-N-메탄설폰산, 2-아미노톨루엔-4-설폰산, 2-아미노톨루엔-5-설폰산, o-, m- 및 p-아미노살리실산, 1-아미노-4-카복시벤젠-3-설폰산, 1-아미노-2-카복시벤젠-5-설폰산, 1-아미노-5-카복시벤젠-2-설폰산, 1-나프탈아민-2-,-3-,-4-, -5-, -6-, -7- 및 -8-설폰산, 2-나프틸아민-1-, -3-, -4-, -5-, -6-, -7- 및 -8-설폰산, 1-나프틸아민-2,4-, -2,5-, -2,7-, -2,8-, -3,5-, -3,6-, -3,7-, -3,8-, -4,6-, -4,7-, -4,8- 및 -5,8-디설폰산, 2-나프틸아민-1,5, -1,6-, -1,7-, -3,6-, -3,7-, -4,7-, -4,8-, -5,7-및 -6,8-디설폰산, 1-나프틸아민-2,4,6-, -2,4,7-, -2,5,7-, -3,5,7-, -3,6,8-및 -4,6,8-트리설폰산, 2-나프틸아민-1,3,7-, -1,5,7-, -3,5,7-, -3,6,7-, -3,6,8-및 -4,6,8-트리설폰산, 2-, 3- 및 4-아미노피리딘, 2-아미노벤즈티아졸, 5-, 6- 및 8-아미노퀴놀린, 2-아미노피리미딘, 모르폴린, 피페리딘, 피페라진 및 구조식

의 데하이드로-티오-p-톨루이딘-7-설폰산이다.

이러한 트리아진 염료의 제조에 있어서, 개별적 공정 단계들은 상이한 순서로 및 어떤 경우에는 동시에 수행할 수 있다. 따라서, 공정의 상이한 변형이 가능하다. 일반적으로, 반응은 연속하여 단계적으로 수행한다. 가능한 공정 변형들중 어떤 공정 변형이 가장 우수한 결과를 나타내는가, 또는 어떤 특정 조건하에서, 예를 들면, 어떤 축합 온도에서 반응이 가장 편리하게 수행될 것인가는, 출발물질의 구조에 의존할 것이다.

일반식(3)의 라디칼에 상응하는 아실 할라이드는 공지되어 있다. 이러한 아실 할라이드는 대표적으로 4-(β-클로로에틸설포닐)부티릴 클로라이드, 3-(β-클로로에틸설포닐)벤조일 클로라이드, 4-(β-클로로에틸설포닐)벤조일 클로라이드, 및 4-(β-클로로에틸설포닐)-2,5-엔도메틸렌사이클로헥산카보닐 클로라이드이다.

방법의 변형은 우선 반응성 라디칼의 전구체인 염료를 제조한 후, 이어서 이를, 예를 들어 에스테르화 또는 부가 반응에 의해 최종 염료로 전환시킴을 포함한다. 예를 들어, X가 HO-CH₂CH₂-라디칼인 염료를 제조하고, 중간체를 아실화 전 또는 후에 황산과 반응시켜 하이드록시 그룹을 설페이토 그룹으로 전환시키거나 ; X가 H₂C=CH-그룹인 동족체 염료를 사용하고 중간체에 티오황산을 부가하여 HO₃SS-CH₂CH₂라디칼을 형성시킬 수 잇다. 일반식(1) 염료의 또는 적합한 전구체의 하이드록실 그룹의 황산화는 바람직하게는 0℃ 내지 적당히 승온된 온도에서 진한 황산과 반응시켜 수행한다. 황산화는 하이드록시 화합물을 N-메틸피롤리돈과 같은 극성 유기 용매속에서 10 내지 80℃에서 하이드록실 그룹당 2당량의 클로로설폰산과 반응시켜 수행한다. 5 내지 15℃의 온도 범위에서 황산 일수화물에 적합한 화합물을 가하여 황산화를 수행함이 바람직하다. 일반식(1)의 화합물 또는 중간체에 할로겐 원자 또는 설페이토 그룹 대신에 다른 라디칼 X, 예를 들면, 티오설페이토 또는 아세테이토의 도입은 공지된 방법으로 수행한다. 전구체를 통한 일반식(1) 화합물의 합성 경로는 대부분 균일하고 완전하게 진행된다.

또한, 제거 반응은 합성후 직접 수행할 수 있다. 예를 들어, 클로로에틸설포닐 또는 설페이토에틸설포닐 라디칼을 함유하는 일반식(1)의 반응성 염료를 수산화나트륨과 같은 탈할로겐화 수소화제로 처리하여 클로로에틸설포닐 라디칼 또는 설페이토에틸설포닐 라디칼을 비닐설포닐 라디칼로 전환시킬 수 있다.

2,4,6-트리클로로-s-트리아진과 일반식(8)의 화합물과의 축합은 바람직하게는 저온, 바람직하게는 0 내지 5℃의 범위에서, 약산성, 중성 또는 약알칼리성 pH에서 수성 용액 또는 현탁액 속에서 수행한다. 축합중 방출되는 염화수소는 수성 알칼리 금속 하이드록사이드, 카보네이트 또는 비카보네이트를 연속적으로 첨가하여 편리하게 중화시킨다. 생성된 클로로트리아진 염료의 주가의 반응 또는 2,4,6-트리클로로-s-트리아진과 일반식(9)의 아민과의 반응을 위하여, 유리 아민 또는 이의 염을, 바람직하게는 하이드로클로라이드 형태로 사용한다. 반응은 약 0 내지 40℃, 바람직하게는 5 내지 25℃의 온도에서, 산 수용체, 바람직하게는 탄산나트륨 또는 과량의 아민을 사용하여, pH 2 내지 10, 바람직하게는 5 내지 8에서 수행한다.

아실 할라이드와 일반식(8)의 화합물과의 축합은 마찬가지로 바람직하게는 수성 용액 또는 현탁액 속에서 실온 및 약산성 내지 중성 pH에서 수행한다. 여과하여 분리된 염료는 중량제 및/또는 완충제를 임의로 첨가한 후, 예를 들어 동일 부의 일나트륨 포스페이트와 이나트륨 포스페이트의 혼합물을 또한 나트륨 트리폴리포스페이트를 첨가한 후 건조시킬 수 있다. 건조는 바람직하게는 너무 높지 않은 온도 및 감압하에서 수행한다. 몇몇 경우에, 전체 반응 혼합물을 분무 건조하여, 즉 염료를 먼저 분리시키지 않고 본 발명의 무수 염료 제제를 직접 제조할 수 있다.

본 발명은 또한 일반식(1)의 반응성 염료의 저장-안정성, 농축 액체 염료 제제, 및 섬유재료, 특히 셀룰로즈성 섬유재료를 침염 및 날염하는데 사용되는 패당액, 염욕 및 특히 날염 페이스트의 제조를 위한 이의 용도에 관한 것이다.

액체 염료 제제는 분말 제제를 능가하는 잇점을 가지며, 예를 들면, 날염 페이스트, 패당액 및 염료액 제조시의 분진 형성이 없고, 덩어리(lump) 형성에 의해 유발되는 습윤 문제도 없고, 용해되지 않은 염료 입자에 의해 유발되는 스페키 염색물(specky dyeings)생성의 문제가 없다. 이러한 액체 염료 제제는 고도로 농축되어야 하며(10중량%이상, 바람직하게는 15중량% 이상의 염료 농도), 광범위한 온도 변화(-10 내지 +40℃)중에서 물리적 변화를 수반함없이 수개월 이상 동안 저장할 수 있어야 한다.

염료 제제의 제조를 위한 적합한 출발 용액 또는 현탁액으로서, 합성으로부터 직접 수득한 용매를 함유할 수 있는 수성 용액 또는 현탁액을 사용할 수 있거나, 용해된 상이한 양들의 바람직하지 않은 저분자량 물질들, 특히 염료 합성중 형성된 부산물, 및 용해된 무기 염 및 유기 염을 함유한 주 염료의 습윤 필터 케렉의 수성 현탁액을 사용할 수 있다. 축합 생성물이 염석될 수 없거나 매우 어렵게 염석되는 경우에는, 조 축합 용액 또는 중화 용액을 직접 사용할 수도 있다. 2 내지 50%의 염료를 함유하는 출발 용액 또는 현탁액을 사용하는 것이 편리하다.

조 염료의 염료 분말을 먼저 물에 현탁시킨 경우, 이로부터 시작할 수 있다.

본 발명의 농축 액체 제제는 통상적으로 진정한 용액(true solution) 또는 콜로이드성 용액이다. 이들은 접도가 낮으며(약 5 내지 300cP/20℃), 우수한 저장안정성을 갖고, 즉 -20 내지 +60℃, 특히 -10 내지 +40℃의 온도범위에서 수개월 이상 동안 즉시 사용상태(ready-for-use state)로 유지된다. 이드 제제는 염료의 침전 또는 기타 불균일성의 발생없이 물 및 유기 용매 및/또는 중점제아 함께, 패딩액, 염욕 및 날염페이스트의 제조에 사용될 수 있다. 언급된 패딩액, 염욕 및 날염 페이스트는, 예를 들어 천연 또는 합성 섬유 재료, 특히 셀룰로즈성 섬유 재료로 된 텍스타일 재료를 침염 또는 날염하는데 사용할 수 있다.

본 발명의 안정한 농축 액체 염료 제제는 특히 셀룰로즈성 섬유 재료를 날염하기 위한 날염 페이스트의 제조에 적합하다.

액체 제제의 제조방법은 제조 실시예에 기술한다.

일반식(1)의 반응성 염료는 신규하다. 이들은 고반응성이 특징이며, 우수한 습윤 견뢰도 및 일광 견뢰도를 갖는 염색물을 제공한다. 본 발명의 염료는 우수한 용해도 및 우수한 염료 고착성을 가지며, 셀룰로즈 섬유내로 쉽게 확산되고, 고착되지 않은 염료는 쉽게 세척 분리됨을 특별히 언급할 수 있다.

일반식(1)의 반응성 염료는, 예를 들며, 실크, 가죽, 모, 폴리아미드 섬유 및 폴리우레탄, 특히 리넨, 셀룰로즈, 재생 셀룰로즈, 가장 특히는 면과 같은 섬유구조를 갖느 셀룰로즈성 재료와 같은 매우 광범위한 재료를 침염 및 날염하는데 적합하다. 이들은 흡착 공정 및 패드-염색 공정에 의한 염색 모두에 적합하며, 이 경우 제품을 경우에 따라, 염을 함유하는, 수성 염료 용액으로 함침시키고, 알칼리로 처리한 후, 또는 알칼리 존재하에, 열을 가하거나 가하지 않고 염료를 고착시킨다. 일반식(1)의 염료는 바람직하게는 면을 날염하는데 특히 적합하고, 또한 모, 실크 및 모함유 혼합물과 같은 질소-함유 섬유를 날염하는데 특히 적합하다.

분산제로서 작용하고 고착되지 않은 염료의 확산을 촉진시키는 화합물이 임의로 첨가된, 냉수 및 열수로 침염물 및 날염물을 완전히 세정하는 것이 바람직하다.

실질적 수행에 있어서, 본 발명의 염료는 액상 침염 제제 또는 날염 제제로서 편리하게 사용된다.

하기 실시예에서 출발물질로서 사용되는 포르마잔은 하기 구조식(100)을 갖는다.

[실시예 1]

물 400 용적부 중의 구조식(100)의 포르마잔 33.8중량부의 중성 용액에 0 내지 5℃에서 시아누릭 클로라이드 10.0중량부를 가한다. 축합 동안, pH를 먼저 4.0으로 떨어뜨린 다음, 2N 수산화나트룸 수용액 21용적부를 가하여 pH치를 동일하게 유지시킨다. 이후에, 30% 암모니아 16용적부를 가한다. 이어서 10.5의 초기 pH 및 40℃에서 반응이 완결될 때까지 축합을 수행하고, 반응 완결시 pH를 9로 낮춘다. 10N HCl 6용적부를 가하여 pH를 7.5로 조정한 다음, 염화나트륨으로 구조식(101)의 염료를 염석한다.

생성된 암청색 염료 분말로 면을 중간 색조의 청색으로 침염 또는 날염할 수 있다.

암모니아 대신 하기 제시된 아민을 동량으로 사용하여 추가의 염료를 수득한다.

농축 액체 염료 제제의 제조

실시예 1에 나타낸 일반식의 조 염료의 필터 케렉 9㎏을 물 35㎏ 속에 현탁시킨다. 고체 함량 7.9%(약 5.9%의 염료 및 2.07% NaCl)인 생성된 현탁액을 탈이온화시키고 유럽 특허원 제59782호에 기술된 바와 같이 제조되고 컷-오프(cut-off)수준이 500인 역 삼투 유니트(막 표면적 : 0.84㎡)에서 농축시킨다. pH 6.5 내지 7.5, 20℃ 및 25bar의 압력하에 2단계로 역삼투를 수행한다.

a) 탈이온화

물 40ℓ를 가한 후, 투과물(평균 유속 : 약 20ℓ/h) 40ℓ를 제거하여 염 농도 0.43%인 염료 용액을 수득한다.

b) 농축

탈이온화시킨 후, 투과물(평균 유속 : 약 12ℓ/h) 33.1ℓ를 제거하고 고체 함량 23.6% 및 염화나트륨 농도 0.01% 이하의 농축 염료 용액 10.9㎏을 수득한다.

수득된 염료 용액 94.9부에, 교반하에 나트륨 트리폴리포스페이트 1.5부를 40℃에서 10분간 걸쳐 가한다. 물 4.2부로 희석시킨 후, pH 7.0인 다음과 같은 조성의 액체 제제를 수득한다 :

염료 22.3중량%,

나트륨 트리폴리포스페이트 1.5중량%,

물 약 76.3중량% 및

염화나트륨 0.1중량% 미만,

수득된 진정한 용액은 점도가 낮고 [20℃에서 약 6cP, 브룩필드 스핀들(Brookfield spindle) 제2호]-10℃ 내지 +40℃에서 물리적 변화를 수반하지 않고 수개월간 저장 안정하다(화학적 및 물리적 저장안정성).

실시예에서 사용된 필터 케렉 대신, 중화시킨 합성 용액을 (경우에 따라, 농도를 적합하게 조절한 후)동량으로 사용할 수 있다.

수득된 시판용 액체 제제를 모든 침염 및 날염 방법에 염료 분말 대신 사용하여 동일한 결과를 얻을 수 있다.

[실시예 84]

구조식(100)의 포르마잔 발색단 33.8중량부를 물 500㎖속에 현탁시키고 수성 수산화나트륨을 가하여 pH7에서 용해시킨다. 이후에, 아세톤 50용적부 중의 β-클로로에틸-4-벤조일 설포 클로라이드 14.5중량부의 용액을 적가한다. 2N 수성 수상화나트륨을 추가로 가하여 pH를 5 내지 6의 범위로 유지시킨다. 동일 pH 및 실온에서 약 4시간 동안 교반시킨 후 유리 아미노 그룹을 더 이상 검출할 수 없다. 염석하여 구조식(102)의 염료를 분리시킨다.

이는 면을 염색 견뢰도가 매우 큰 중간 색조의 청색으로 염색한다.

하기 아실 클로라이드를 동량으로 사용하여 아실화시켜 비교적 우수한 특성 및 동일 색조를 갖는 염료를 제조한다 :

[실시예 88]

물 400 용적부 중의 구조식(100)의 포르마잔 33.8중량부의 중성 용액을 물 25용적부 중의 시아누릭 클로라이드 9.4중량부의 미립자 현탁액에 가하고 동시에 1N 수성 수산화나트륨을 가하여 pH를 4.5호 유지시킨다. 크로마토그래피로 1차 축합의 완결을 확인한 후, 물 65 용적부 중의 타우린 6.25중량부의 용액을 가한다. 수성 수산화나트륨을 가하여 pH를 8.5로 조정하고 40℃로 가온한 후 pH 8.5로 유지시킨다. 수성 수산화나트륨을 가하여 pH를 8.5호 조정하고 40℃로 가온한 후 pH 8.5로 유지시킨다(1N 수성화나트륨의 소비 : 약 165용적부). 2차 축합 완료후, pH를 진한 염산 소량으로 7.0으로 조정한다. 탈이온화 및 증발 농축후, 구조식(103)의 흑청색 염료 분말을 수득하며, 이를 사용하며 면을 염색 견뢰도가 매우 큰 밝은 중간 색조의 청색으로 침염 및 날염할 수 있다.

실시예 1 내지 88에 기술도니 과정을 반복하고 구조식(100)의 포르마잔 대신 하기 구조식(104) 내지 (112)의 화합물을 사용하여 비교적 우수한 특성 및 유사 색조를 갖는 염료를 수득한다.

침염 방법 1

실시예 1에서 수득한 염료 2부를, 20 내지 50℃에서 우레아 5 내지 20부 및 하소된 탄산나트륨 2부를 첨가하여 물 100부에 용해시킨다. 면직물을 필-엽(pick-up)률이 50 내지 80%에 도달할 때까지 사익 용액으로 함침시킨 후 건조시킨다. 이어서, 직물을 140 내지 210℃에서 1 1/2분 내지 5분 동안 열고착시킨 후, 15분간 0.1%의 비이온성 세제비 등 용액속에서 소우핑(soaping)하고, 세정 및 건조시킨다.

침염 방법 2

실시예 1에서 수득한 염료 2부를, 75℃에서 염화나트륨 120부 또는 하소된 글라우버(Glauber)염 120부를 첨가하여 물 2,000부에 용해시킨다. 이어서, 면직물 100부를 이 염욕에 넣고 30 내지 60분간 75℃로 유지시킨다. 이후에, 하소된 탄산나트륨 10부 및 수산화나트륨 용액(36°Be') 4㎖를 가한다. 추가로 45 내지 60분간 온도를 75 내지 80℃로 유지시킨 다음, 직물을 0.1%의 비이온성 세제비 등 용액중에서 15분간 소우핑하고, 세정 및 건조시킨다.

침염 방법 3

실시예 1에서 수득한 염료 2부를, 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 0.5부를 가하여 물 100부에 용해시킨다. 면직물을 픽업율이 75%에 도달할 때까지 상기 용액으로 함침시킨 후 건조시킨다. 이후에, 직물을 수산화나트륨 5g/ℓ 및 염화나트륨 300g/ℓ를 함유하는 20℃의 용액으로 함침시켜 75%가 되게 한다. 염색물을 30초 동안 100 내지 101℃에서 스티밍(steaming)하고, 세정하고, 0.3%의 비이온성 세제비 등 용액속에서 15분간 소우핑하고, 세정 및 건조시킨다.

침염 방법 4

실시예 1에서 수득한 염료 2부를 물 100부에 용해시킨다. 이 용액을 냉수 1900부에 가하고, 염화나트륨 60부를 가한 후, 당해 염욕에 면직물 100부를 가한다. 온도를 60℃호 승온시키고, 30분 후 하소된 탄산나트륨 40부 및 추가의 염화나트륨 60부를 가한다. 30분 동안 온도를 60℃호 유지시킨다. 염색물을 세척한 후, 0.3%비이온성 세제비 등 용액속에서 15분간 소우핑시키고, 세정 및 건조시킨다.

날염 방법 1

실시예 1에 따라 수득한 염료 2부를, 빠르게 교반시키면서, 5% 알긴산나트륨 중접제 45부, 물 32부, 우레아 20부, 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 1부 및 탄산나트륨 2부를 함유한 스톡 중점제 100부에 흩뿌린다.

이렇게 수득된 날염 페이스트를 사용하여 면직물을 롤러 날염기상에서 날염시킨다. 날염된 직물을 100℃에서 포화증기로 4 내지 8분간 스티밍한 후, 냉수 및 열수로 철저히 세척하고 (이 공정 동안 화학적으로 고착되지 않은 염료가 직물로부터 매우 용이하게 제거될 수 있다), 건조시킨다.

날염 방법 2

a) 교반되는 용기속에서 하기 성분들을 철저히 혼합하여 스톡 중점제를 제조한다 :

점도가 매우 큰 5% 알긴산나트륨 용액 500㎏,

우레아 125㎏,

니트로벤젠설폰산의 나트륨염 12.5㎏,

25% 탄산나트륨 용액 75㎏ 및

물 287.5㎏.

b) 제조된 스톡 중점제 800g 속에서, 실시예 1에 나타낸 반응성 염료의 액체 제제 200g을 수동 교반시킨다.

날염 잉크 잔여량 20g을 계량 도입하여 상기 중점제 980g과 수동 혼합한다. 수득된 날염 잉크로 머서가공되고 표백된 면직물을 날염한다.

건조시킨 후, 두가지 날염물을 포화증기로 고착시킨 다음, 냉수 및 열수로 세정한다.

첫 번째 날염물은 진하고 광택이 나며 균일하게 착색된 모티프(motif)이고, 두 번째 날염물은 파스텔 색조이고 스펙(speck)이 전혀 없으며 균일하게 염색된 모티프(motif)이다.

Claims

단 하나의 섬유-반응성 라디칼을 함유하는 하기 일반식(1)의 반응성 염료.

상기 식에서, Y는 일반식
(2a)의 라디칼 또는 일반식 -CO-A-SO₂-X-(3)의 라디칼이고, R₁및 R₂는 각각 서로 독립적으로 수소이거나, 할로겐, 시아노, C₁-C₄알콕시, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이고, A는 치환되거나 치환되지 않은 지방족 또는 방향족 가교 그룹이고, X는 β-설페이토에틸, β-티오설페이토에틸, β-포스페이토에틸, β-아세틸옥시에틸, β-할로에틸 또는 비닐이고, 벤젠 환 Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ은 2 내지 4개의 설포 그룹 이외의 추가의 치환체를 가질 수 있으며, 또한 벤젠 환Ⅱ는 라디칼 -NH-Y 이외의 추가의 치환체를 가질 수 있다.
제1항에 있어서, Y가 일반식(3a)의 라디칼인 반응성 염료.

-CO-A-SO₂-CH₂CH₂-CI

상기 식에서, A는 n-프로필렌, 페닐렌 또는 엔도메틸렌사이클로헥산디일이다.
제1항에 있어서, 벤젠 환 Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ이 추가의 치환체를 갖지 않는 반응성 염료.
제1항에 있어서, 하기 일반식(4)의 반응성 염료.

상기 식에서, Y는 제1에서 정의한 바와 같고, m은 1또는 2이고, n은 0, 1 또는 2이며, m+n은 2, 3 또는 4이다.
제4항에 있어서, Y가
이고 m이 1이고 n이 1인 구조식(6)의 반응성 염료.
제4항에 있어서, Y가

이고 M이 1이고 N이 1인 구조식(7)의 반응성 염료.
일반식(8)의 화합물을 2,4,6-트리클로로-s-트리아진과 축합시키고, 생성된 1차 축합물을 일반식(9)의 아민, 2-(Z)아미노-4,6-디클로로-s-트리아진[여기서, Z 또는 Z(아미노)는 라디칼 -NR₁R₂(여기서, R₁및 R₂는 각각 독립적으로 수소이거나, 할로겐, 시아노, C₁-C₄알콕시, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이다)이다], 또는 일반식(3)의 라디칼에 상응하는 아실 할라이드와 축합시키는 단계를 포함하는, 일반식(1)의 반응성 염료의 제조방법.

상기 식에서, Y는 일반식
(2a)의 라디칼 또는 일반식 -CO-A-SO₂-X-(3)의 라디칼이고, 벤젠 환 Ⅰ,Ⅱ 및 Ⅲ은 2 내지 4개의 설포 그룹 이외의 추가의 치환체를 가질 수 있으며, 또한 벤젠 환Ⅱ는 라디칼 -NH-Y 이외의 추가의 치환체를 가질 수 있고, Z는 -NR₁R₂(여기서, R₁및 R₂는 각각 서로 독립적으로 수소이거나, 할로겐, 시아노, C₁-C₄알콕시, 하이드록시, 카복시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된 C₁-C₄알킬이다)이며, A는 치환되거나 치환되지 않은 지방족 또는 방향족 가교 그룹이고, X는 β-설페이토에틸, β-티오설페이토에틸, β-포스페이토에틸, β-아세틸옥시에틸, β-할로에틸 또는 비닐이다.
수성액 중의 셀룰로즈 섬유재료를 제1항에 따르는 일반식(1)의 화합물과 접촉시킴을 특징으로 하여, 셀룰로즈 섬유재료를 침염 또는 날염하는 방법.
제1항의 수용성인 반응성 염료의 저장 안정성 농축 액체 염료 제제.