KR960700218A - 트리페닐에틸렌 화합물의 z 이성체 산부가염의 제조방법(process for producing acid-addition salt of z-isomer of triphenylethylene compound) - Google Patents
트리페닐에틸렌 화합물의 z 이성체 산부가염의 제조방법(process for producing acid-addition salt of z-isomer of triphenylethylene compound)Info
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Abstract
본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)
@
(식중, R1및 R2는 동일하거나 상이하고, 이들은 각기 저급 알킬기이거나, 또는 R1및 R2는 이들이 결합된 질소 원자와 함께 다른 헤테로 원자를 임의로 함유하는 질소 함유 복소환기를 형성할 수 있고; R3및 R4는 동일 또는 상이하고, 이들은 각기 수소 원자, 저급 알킬기, 수산기, 저급 알콕시기, 저급 알킬카보닐옥시기, 벤젠 고리가 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 할로겐 원자 및 시아노기로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2개의 치환기로 임의로 치환된 아릴카보닐옥시기, 벤질카보닐옥시기, 모노(저급알킬)아미노카보닐옥시기 또는 디(저급알킬)아미노카보닐옥시기 또는 모노(아릴)아미노카보닐옥시기 또는 디(아릴)아미노카보닐옥시기를 나타내고; R5는 저급알킬기 또는 할로겐 원자를 나타내고; n은 1 내지 6의 정수를 나타낸다)로 나타낸 트리페닐에 틸렌 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염을 브롬화수소산을 함유하는 유기 용매내에서 가열하는 것을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)로 나타낸 트리페닐 에틸렌 화합물의 Z 이성체의 산부가염의 제조방법을 제공한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (18)
- 하기 일반식(Ⅰ)
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- (식중, R1및 R2는 동일하거나 상이하고, 이들은 각기 저급 알킬기이거나, 또는 R1및 R2는 이들이 결합된질소 원자와 함께 다른 헤테로 원자를 임의로 함유하는 질소 함유 복소환기를 형성할 수 있고; R3및 R4는 동일 또는 상이하고, 이들은 각기 수소 원자, 저급 알킬기, 수산기, 저급 알콕시기, 저급 알킬카보닐옥시기, 벤젠 고리가 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 할로겐 원자 및 시아노기로 이루어진 군에서 선택된 1 또는 2개의 치환기로 임의로 치환된 아릴카보닐옥시기, 벤질카보닐옥시기, 모노(저급알킬)아미노카보닐옥시기 또는 디(저급알킬)아미노카보닐옥시기 또는 모노(아릴)아미노카보닐옥시기 또는 디(아릴)아미노카보닐옥시기를 나타내고; R5는 저급알킬기 또는 할로겐 원자를 나타내고; n은 1 내지 6의 정수를 나타낸다)로 나타낸 트리페닐에틸렌 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염을 브롬화수소산을 함유하는 유기 용매내에서 가열하는 것을 특징으로 하는 일반식(Ⅰ)로 나타낸 트리페닐 에틸렌 화합물의 Z 이성체의 산부가염의 제조법.
- 제1항에 있어서, 상기 일반식(Ⅰ)의 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염을 일반식(Ⅰ)의 화합물의 Z 이성체 또는 그의 산부가염과의 혼합 상태에서 가열하는 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 산부가염은 염산염, 브롬화수소산염, 황산염, 인산염, 초산염, 수산염, 말레인산염, 푸마르산염, 능금산염, 주석산염, 구연산염, 안식향산염, p-톨루엔술폰산염 도는 에탄술폰산염인 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 유기 용매는 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 디클로로메탄, 클로로포름, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 아니솔, 초산메틸, 초산에틸, 아세톤, 메틸에틸케톤, 아세토니트릴, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드로 이루어진 군에서 선택된 적어도 1종인 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 산부가염은 브롬화수소산염 또는 염산염인 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 가열은 30℃ 내지 유기 용매의 끓는점의 온도에서 행해지는 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 가열은 0.5 내지 12시간 행해지는 것인 제조법.
- 제1항에 있어서, 브롬화수소산은 일반식(Ⅰ)의 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염 1몰에 대해 브롬화수소를 기준으로 0.05 내지 1.5몰 사용되는 것인 제조법.
- 제2항에 있어서, 브롬화수소산은 일반식(Ⅰ)의 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염과 일반식(Ⅰ)의 화합물의 Z 이성체 또는 그의 산부가염과의 혼합물 1몰에 대해 브롬화수소를 기준으로 0.05 내지 1.5몰 사용되는 것인 제조법.
- 제1항에 있어서, 유기 용매는 일반식(Ⅰ)의 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염 1몰에 대해 1 내지 3리터 사용되는 것인 제조법.
- 제2항에 있어서, 유기 용매는 일반식(Ⅰ) 화합물인 E 이성체 또는 그의 산부가염과 일반식(Ⅰ)의 화합물의 Z 이성체 또는 그의 산부가염의 합계 1몰에 대해, 1 내지 3리터 사용되는 것인 제조법.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염, 유기 용매 및 브롬화수소산을 혼합하고, 이 혼합물을 물이 제거될 때까지 감압하에 증류하고, 얻은 잔사 또는 농축물에 유기 용매를 가한 반응계를 가열하는 것인 제조법.
- 제2항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 E 이성체 또는 그의 산부가염, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 Z 이성체 또는 그의 산부가염, 육 용매 및 브롬화수소산을 혼합하고, 이 혼합물을 물이 제거될 때까지 감압하에 증류하고, 얻은 잔사 또는 농축물에 유기 용매를 가한 반응계를 가열하는 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, R1및 R2는 동일 또는 상이하고, 각기 저급 알킬기이고, R3및 R4는 동일 또는 사이하고, 각기 수소 원자, 저급 알킬기 또는 수산기이고, R5는 저급 알킬기인 것인 제조법.
- 제1항 또는 제2항에 잇어서, R1및 R2는 메틸기이고, R3는 4-수산기이고, R4는 4-이소프로필기이고, R5는 에틸기이고, n은 2인 것인 제조법.
- ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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