KR960042999A - 세정장치 - Google Patents

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Abstract

세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 도시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.

Description

세정장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시형태에 관계되는 세정장치를 나타낸 개략평면도.

Claims (20)

  1. 피처리체를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 상기 스핀척에 유지된 상기 피처리체에 접촉하여 상기 피처리체의 표면을 문지르기 위한 브러시와, 상기 브러시를 지지하는 아암과, 상기 스핀척, 상기 브러시 및 상기 아암을 수납하는 처리실과, 상기 아암에 연결되고, 상기 아암과는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 동시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능한 서포트와, 상기 스핀척에 유지된 상기 피처리체에 대하여 상기 브러시가 접촉할때, 변형에 대응하고, 상기 피처리체에 대한 상기 브러시의 가하는 힘이 발생하며, 상기 아암과 상기 서포트와의 사이에 배열설치되고, 상기 아암과 상기 서포트와의 수직방향에서의 상대적인 변위에 따라서 변형하는 탄성부재와, 상기 서포트를 수평방향으로 이동시키기 위한 수평 드라이버와, 상기 서포트를 수직 방향으로 이동시키기 위한 수직 드라이버를 구비하고, 상기 서포트 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 상기 브러시의 상기 가하는 힘이 설정된 것을 특징으로 하는 피처리체를 회전시키면서 브러싱하기 위한 세정장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 아암과 상기 서포트를 연결하는 리니어 가이드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 서포트의 최대하강량을 규정하는 스톱퍼를 더 가지는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 탄성부재가, 상기 브러시 및 상기 아암의 하중을 받는 압축스프링으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 탄성부재의 윗쪽에 위치하도록 상기 아암에 부착된, 상기 브러시를 회전시키기 위한 모터와, 상기 모터의 구동력을 상기 브러시에 전달하기 위해서, 상기 아암을 따라서 배열설치된 트랜스미션을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 브러시가, 상기 스핀척에 유지된 상기 피처리체의 윗쪽으로부터 벗어난 대기위치와 상기 스핀척에 유지된 상기 피처리체 윗쪽의 제1위치와의 사이에 이동이 가능해지도록, 상기 서포트가 상기 수평 드라이버에 의해서 이동되는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 수평 드라이버가, 상기 대기위치와 상기 제1위치와의 사이에 상기 아암을 선회시키는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 아암에 지지된 상기 브러시에 세정액을 공급하는 공급수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 공급수단이, 상기 브러시 등부에 배열설치된 세정액 받음부와, 상기 세정액 받음부에 세정액을 공급하는 관과, 상기 세정액 받음부와 상기 브러시와의 사이에 형성된 세정액 유통구멍을 구비한 것을 특징으로 하는 세정장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 처리실내에서 상기 스핀척을 포위하는 상하에 이동이 가능한 제1컵부와, 상기 제1컵부를, 그 윗끝단이 상기 스핀척에 유지된 상기 피처리체보다도 위에 오는 상측위치와, 그 윗끝단이 상기 스핀척에 유지된 상기 피처리체보다도 아래에 오는 하측위치와의 사이를 수직방향으로 이동시키는 컵 드라이버와, 상기 제1컵부가 상기 상측위치에 왔을 때, 상기 제1컵부 아래측에 발생하는 틈을 덮기 위해서, 성기 처리실에 대하여 고정된 제2컵부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  11. 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 간격을 두고 배열설치된 여러개의 스폰지 기둥을 구비하고, 실질적으로 상기 스폰지 기둥만으로 상기 웨이퍼에 접촉하며, 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼에 접촉하여 상기 웨이퍼의 표면을 문지르기 위한 브러시와, 상기 브러시를 지지하는 아암과, 상기 스핀척, 상기 브러시 및 상기 아암을 수납하는 처리실과, 상기 아암에 연결되고, 상기 아암과는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 동시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능한 서포트와, 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼에 대하여 상기 브러시가 접촉할 때, 변형에 대응하여, 상기 웨이퍼에 대한 상기 브러시에 가하는 힘이 발생하고, 상기 아암과 상기 서포트와의 사이에 배열설치되며, 상기 아암과 상기 서포트와의 수직방향에서의 상대적인 변위에 따라서 변형하는 탄성부재와, 상기 서포트를 수평방향으로 이동시키기 위한 수평 드라이버와, 상기 서포트를 수직방향으로 이동시키기 위한 수직 드라이버를 구비하고, 상기 서포트 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 상기 브러시의 상기 가하는 힘이 설정되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼를 회전시키면서 반도체 디바이스가 형성되는 상기 웨이퍼의 프론트 베이스를 브러싱하기 위한 세정장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 스폰지 기둥이 여러개의 큰 지름의 제1스폰지 기둥과 여러개의 작은 지름의 제2스폰지 기둥을 구비하고, 상기 제1 및 제2스폰지 기둥이 교대로 배열설치하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 아암에 지지된, 상기 브러시에 세정액을 공급하는 공급수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  14. 제13항에 있어서, 상기 공급수단이, 상기 브러시 동부에 배열설치된 세정액 받음부와, 상기 세정액 받음부에 세정액을 공급하는 관과, 상기 세정액 받음부와 상기 브러시와의 사이에 형성된 세정액 유통구멍을 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  15. 제13항에 있어서, 상기 처리실내에서 상기 스핀척을 포위하는 상하에 이동이 가능한 제1컵부와 상기 제1컵부를, 그 윗끝단이 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼보다도 위에 오는 상측위치와, 그 윗끝단이 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼보다도 아래에 오는 하측위치와의 사이를 수직방향으로 이동시키는 컵 드라이브와, 상기 제1컵부가 상기 상측위치에 왔을때, 상기 제1컵부의 아래측에 발생하는 틈을 덮기 위해서, 상기 처리실에 대하여 고정된 제2컵부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  16. 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 간격을 두고 배열설치된 여러개의 스폰지 기둥과, 간격을 두고 배열설치된 여러개의 식모다발을 구비하여 실질적으로 상기 스폰지기둥 및 식모다발만으로 상기 웨이퍼에 접촉하고, 상기 스친척에 유지된 상기 웨이퍼에 접촉하여 상기 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 상기 브러시를 지지하는 아암과, 상기 스핀척, 사익 브러시 및 상기 아암을 수납하는 처리실과, 상기 아암에 연결되고, 상기 아암과는 수평방향에 있어서 일체적으로 이동함과 동시에, 수직방향에 있어서 상대적으로 변위가능한 서포트와, 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼에 대하여 상기 브러시가 접촉할 때, 변형에 대응하여, 상기 웨이퍼에 대한 상기 브러시의 가하는 힘이 발생하며, 상기 아암과 상기 서포트와이 사이에 배열설치되고, 상기 암암과 상기 서포트와의 수직방향에서의 상대적인 변위에 따라서 변형하는 탄성부재와, 상기 서포트를 수평방향으로 이동시키기 위한 수평 드라이버와, 상기 서포트를 수직방향으로 이동시키기 위한 수직 드라이버를 구비하고, 상기 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 상기 브러시의 상기 가하는 힘이 설정되는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼를 회전시키면서 반도체 디바이스가 형성되지 않는 웨이퍼의 리어 페이스를 브러싱하기 위한 세정장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 스폰지 기둥이 방사방향으로 연장되는 여러개의 홈을 형성하도록 배열설치되고, 상기 식모다발이 상기 홈 내에 배열설치되는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  18. 제16항에 있어서, 상기 아암에 지지된, 상기 브러시에 세정액을 공급하는 공급수단을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  19. 제18항에 있어서, 상기 공급수단이, 상기 브러시 등부에 배열설치된 세정액 받음부와, 상기 세정액 받음부에 세정액을 공급하는 관과, 상기 세정액 받음부와 상기 브러시와의 사이에 형성된 세정액 유통구멍을 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 처리실내에서 상기 스핀척을 포위하는 상하에 이동이 가능한 제1컵부와, 상기 제1컵부를, 그 윗끝단이 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼보다도 위에 오는 상측위치와, 그 윗끝단이 상기 스핀척에 유지된 상기 웨이퍼보다도 아래에 오는 하측위치와의 상기 상측 위치에 왔을 때, 상기 제1컵부 하측에 발생하는 틈을 덮기 위해서, 상기 처리실에 대하여 고정된 제2컵부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 세정장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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