KR960042908A - 공간적으로 분리된 수직 및 수평 이미지 평면을 지니며 포토리도그래피 기법에서 사용하는 조명 장치 - Google Patents
공간적으로 분리된 수직 및 수평 이미지 평면을 지니며 포토리도그래피 기법에서 사용하는 조명 장치 Download PDFInfo
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Abstract
공간적으로 분리된 수평 및 수직의 중간 이미지 평면을 지니는 조명 장치. 빔 확대기는 레이저 빔을 확대하고 광을 렌즈 어레이(lens array)로 향하게 하는 데 사용된다. 집광기(condenser)는 렌즈 어레이로부터 공간적으로 분리된 수직 및 수평의 중간 이미지 평면내로 광을 투영하고 집중한다. 릴레이(relay)는 단일 평면에 있는 공간적으로 분리된 수직 및 수평의 중간 이미지 평면을 레티클(reticle)에서 재 이미징한다. 이에 의해서 레티클의 이미지(image)는 웨이퍼 상에 투영된다. 폭 조정 수단 및 높이 조정 수단은 수평 및 수직의 중간 이미지 평면 각각에 배치된다. 줌가능(zoomable)한 빔 확대기는 광의 손실없이 양 평면에서 부분 간섭성(pa rtialcoherence)을 독립적으로 변경시키는데 사용된다. 변경가능한 렌즈 어레이는 광의 손실없이 조명 장치의 시야(view)의 2차원 필드(field)를 독립적으로 변경시키는데 사용된다. 물리적으로 분리된 수평 및 수직의 중간 이미지 평면은 바람직한 직각 조명의 수직 높이 및 수평 폭의 전반에 걸쳐 제어를 용이하게 하도록 한다. 상기 직각 조명은 회로의 제조에서 주사형 포토리도그래피(scanning type photoli-thography)에 필요한 웨이퍼 상에 투영용 레티클을 주사하는데 사용된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 광학 조명 장치의 일 실시예에 대한 개략도이다.
Claims (27)
- 빔 확대기(beam expander): 상기 빔 확대기의 다음에 위치하는 렌즈 어레이 (lens array); 상기 렌즈 어레이의 다음에 위치하는 집광기로서, 서로 다른 광학적 위치에서 수평 이미지 평면과 수직 이미지 평면을 지니는 집광기(conderser); 및 상기 집광기의 다음에 릴레이(relay)가 위치하여, 상기 빔 확대기에 입사하는 광은 상기 렌즈 어레이로 향하며, 상기 집광기에 의해 공간적으로 분리된 두개의 평면내에 재 이미징되는 릴레이를 포함하는 포토리도그래피(photolithography)용 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 조명 소오스(illumination source)를 부가적으로 포함하는 조명 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 조명 소오스는 레이저인 조명 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 레이저는 엑시머(excimer) 레이저인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 빔 확대기는 줌(zoom) 빔 확대기인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 빔 확대기는 구면(spherical)의 줌 빔 확대기인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 빔 확대기는 원주형(cylindrical) 줌 빔 확대기인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 렌즈 어레이는 마이크로렌즈 어레이인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 렌즈 어레이는 회절 격자(diffraction grating) 어레이인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 렌즈 어레이는 2진(binary) 어레이인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 렌즈 어레이는 구면인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 렌즈 어레이는 원주형인 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 집광기는 구면 및 원주형 렌즈로 구성되는 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 릴레이는 구면 및 원주명 렌즈로 구성되는 조명 장치.
- 제1항에 있어서, 레티클에서 조명된 필드의 폭을 조정하기 위한, 수평 이미지 평면에 배치된 폭 조정 수단; 및 레티클에서 상기 조명된 필드의 높이를 조정하기 위한, 수직 이미지 평면에 배치된 높이 조정 수단을 부가적으로 포함하는 조명 장치.
- 제15항에 있어서, 조명 선량(illumination dose)을 조정하기 위한, 이미지 평면의 근처에 배치된 조명 조정 수단을 부가적으로 포함하는 조명 장치.
- 줌 빔 확대기 : 상기 줌 빔 확대기의 다음에 위치하는 렌즈 어레이; 상기 렌즈 어레이의 다음에 위치하는 집광기 렌즈 군(lens group)으로서, 제1의 구면 렌즈, 제1의 원주형 렌즈, 포물선 면을 지니는 제2의 구면 렌즈, 및 제3의 원자형 렌즈를 끝에서 끝까지 포함하며, 서로 다른 공간적 위치에서 수평 이미지 평면 및 수직 이미지 평면을 지니는 집광기 렌즈 군; 및 상기 콘덴서 렌즈 군의 다음에 위치하는 릴레이 렌즈 군으로서, 제3의 구면 렌즈, 제4의 원주형 렌즈, 제5의 원주형 렌즈, 포물선 면을 지니는 제4의 구면 렌즈, 타원형 면을 지니는 제5의 구면 렌즈, 및 제6의 구면 렌즈를 끝에서 끝까지 포함하여, 줌 빔 확대기에 입사하는 광은 상기 렌즈 어레이로 향하고 상기 집광기에 의해 두개의 공간적으로 분리된 평면내에 이미징되며 상기 릴레이에 의해 레티클에 있는 단일 평면내에 재 이미징되는 릴레이 렌즈 군을 포함하는 포토리도그래피용 조명 장치.
- 제17항에 있어서, 레티클에서 조명된 필드의 폭을 조정하기 위한, 수평 이미지 평면에 배치된 폭 조정 수단; 및 레티클에서 상기 조명된 필드의 높이를 조정하기 위한, 수직 이미지 평면에 배치된 높이 조정 수단을 부가적으로 포함하는 조명 장치.
- 줌 빔 확대기; 상기 줌 빔 확대기의 다음에 위치하는 렌즈 어레이; 및 표 1의 광학적 규정에 따라서 구성된, 상기 렌즈 어레이의 다음에 위치하는 집광기 및 릴레이 렌즈 군을 포함하는 포토리도그래피용 조명 장치.
- 제19항에 있어서, 레이저 조명 소오스를 부가적으로 포함하는 조명 장치.
- 줌 빔 확대기; 상기 줌 빔 확대기의 다음에 위치하는 렌즈 어레이: 및 표 2의 광학적 규정에 따라서 구성된, 상기 렌즈 어레이의 다음에 위치하는 집광기 및 릴레이 렌즈 군을 포함하는 포토리도그래피용 조명 장치.
- 제21항에 있어서, 레이저 조명 소오스를 부가적으로 포함하는 조명 장치.
- 조명 소오스; 상기 조명 소오스의 다음에 위치하는 빔 확대기; 상기 빔 확대기의 다음에 위치하는 렌즈 어레이에 있어서, 상기 빔 확대기 및 상기 렌즈 어레이는 수평면 내에 미리 결정된 제1의 개구수 및 수직면내에 제2의 개구수를 제공하는 렌즈 어레이; 상기 렌즈 어레이의 다음에 위치하는 집광기로서, 수평 이미지 평면 및 수직 이미지 평면을 지니며, 상기 수직 이미지 평면은 상기 수평 이미지 평면으로부터 공간적으로 분리되는 집광기; 상기 집광기의 다음에 위치하는 릴레이로서, 수평 이미지 평면과 수직 이미지 평면을 레티클에서의 단일 조명판에 컨주게이트(conjugate)하며, 수평면 내에 제1의 배율 및 수직면 내에 제2의 배율을 지니는 릴레이를 포함하는 포토리도그래피용 조명 장치.
- 제23항에 있어서, 상기 제1의 배율 및 제2의 배율로 서로 다른 조명 장치.
- 제23항에 있어서, 상기 제1의 개구수 및 제2개구수는 서로 다른 조명 장치.
- 제23항에 있어서, 상기 수평 이미지 평면의 폭을 조정하기 위한, 상기 수평 이미지 평면과 연관된 폭 조정 수단; 및 상기 수평 이미지 평면의 높이를 조정하기 위한, 상기 수직 이미지 평면과 연관된 높이 조정 수단을 부가적으로 포함하여, 미리 결정된 직각 조명 필드는 레티클에서 형성되는 조명 장치.
- 제23항에 있어서, 상기 제1의 배율은 0.7과 1.2 사이의 범위에 있으며, 상기 제2의 배율은 0.8과 1.3 사이의 범위에 있는 조명 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/448,994 US5724122A (en) | 1995-05-24 | 1995-05-24 | Illumination system having spatially separate vertical and horizontal image planes for use in photolithography |
US95-08/448,994 | 1995-05-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960042908A true KR960042908A (ko) | 1996-12-21 |
KR100411833B1 KR100411833B1 (ko) | 2004-04-17 |
Family
ID=23782458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960017715A KR100411833B1 (ko) | 1995-05-24 | 1996-05-23 | 공간적으로분리된수직및수평이미지평면을지니며포토리도그래피기법에서사용하는조명장치 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5724122A (ko) |
EP (1) | EP0744663B1 (ko) |
JP (1) | JP3913288B2 (ko) |
KR (1) | KR100411833B1 (ko) |
CA (1) | CA2177199A1 (ko) |
DE (1) | DE69605479T2 (ko) |
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-
1995
- 1995-05-24 US US08/448,994 patent/US5724122A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-05-15 EP EP96107800A patent/EP0744663B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-15 DE DE69605479T patent/DE69605479T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-23 CA CA002177199A patent/CA2177199A1/en not_active Abandoned
- 1996-05-23 KR KR1019960017715A patent/KR100411833B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-05-24 JP JP13036596A patent/JP3913288B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0744663B1 (en) | 1999-12-08 |
EP0744663A1 (en) | 1996-11-27 |
JP3913288B2 (ja) | 2007-05-09 |
DE69605479D1 (de) | 2000-01-13 |
US5724122A (en) | 1998-03-03 |
CA2177199A1 (en) | 1996-11-25 |
JPH097941A (ja) | 1997-01-10 |
DE69605479T2 (de) | 2000-04-27 |
KR100411833B1 (ko) | 2004-04-17 |
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A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
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FPAY | Annual fee payment |
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