KR960042234A - 전자사진 감광 부재, 프로세스 카트리지 및 전자사진 장치 - Google Patents
전자사진 감광 부재, 프로세스 카트리지 및 전자사진 장치 Download PDFInfo
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Abstract
도전성 지지체 위에 감광층을 갖는 전자사진 감광 부재가 기재되어 있다. 감광층은 옥시티탄 프탈로시아닌 및 하기 식(1)로 표시되는 아조 안료를 함유한다.
또한, 전자사진 감광 부재를 사용한 프로세스 카트리지 및 전자사진 장치도 기재되어 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 I형 옥시티탄 프탈로시아닌의 CuKα특성 X선 회절 패턴을 나타낸 도면, 제5도는 본 발명의 전자사진 감광 부재를 갖는 프로세스 카트리지가 장착된 전자사진 장치의 구성을 나타낸 개략도.
Claims (18)
- 도전성 지지체 및 이 도전성 지지체 위에 제공된 감광층으로 이루어지고, 이 감광층은 옥시티탄 프탈로시아닌 및 하기 식(I)로 표시되는 아조 안료를 함유하는 것인 전자사진 감광 부재.식 중, Ar은 결합기를 통해 결합될 수 있는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 탄화수소기이거나, 또는 결합기를 통해 결합될 수 있는 치환되거나 또는 치환되지 않은 헤테로시클기이고, Cp는 페놀성 히드록실기를 갖는 커플러 잔기이되, 단 Cp 중 적어도 하나는 하기 식(2)로 표시되는 커플러 잔기이며, n은 2 내지 4의 정수이다.식 중, A는 고리 중에 질소 원자를 함유하는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 탄화수소 고리의 2가기 또는 치환되거나 또는 치환되지 않은 헤테로시클릭 고리의 2가 기이다.
- 제1항에 있어서, 식(1)에 Cp가 모두 식(2)로 표시되는 기인 전자사진 감광 부재.
- 제2항에 있어서, 식(2)에서 A가 치환되지 않은 o-페닐렌인 전자사진 감광 부재.
- 제3항에 있어서, 식(1)에서 n이 2 또는 3인 전자사진 감광 부재.
- 제1항에 있어서, 상기 옥시티탄 프탈로시아닌이 CuKα 특성 X선 회절에 있어서 브래그 각(Bragg angles, 2θ±0.2°) 9.0°,14.2°,23.9°및 27.1°에서 특정 피이크를 갖는 전자사진 감광 부재.
- 제4항에 있어서, 상기 옥시티탄 프탈로시아닌이 CuKα 특성 X서너 회절에 있어서 브래그 각(Bragg angles, 20±0.2°)9.0°,14.2°,23.9°및 27.1°에서 특정 피이크를 갖는 전자사진 감광 부재.
- 전자사진 감광 부재와, 충전 수단, 현상 수단 및 세정 수단으로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 하나의 수단으로 이루어지고, 상기 전자사진 감광 부재는 도전성 지지체 및 이 도전성 지지체 위에 제공된 감광층으로 이루어지고, 이 감광층은 옥시티탄 프탈로시아닌 및 하기 식(1)로 표시되는 아조 안료를 함유하며, 상기 충전수단, 현상 수단 및 세정 수단으로 이루어진 군에서 선택되는 수단은 전자사진 장치의 본체 중에 일체로 지지되어 탈착 가능하게 장착된 것임을 특징으로 하는 프로세스 카트리지.식 중, Ar은 결합기를 통해 결합될 수 있는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 탄화수소기이거나, 또는 결합기를 통해 결합될 수 있는 치환되거나 또는 치환되지 않은 헤테로시클기이고, Cp는 페놀성 히드록실기를 갖는 커플러 잔기이되, 단 Cp중 적어도 하나의 하기 식(2)로 표시되는 커플러 잔기이며, n은 2 내지 4의 정수이다.식중, A는 고리 중에 질소 원자를 함유하는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 탄화수소 고리의 2가기 또는 치환되거나 또는 치환되지 않은 헤테로시클릭 고리의 2가 기이다.
- 제7항에 있어서, 식(1)에서 Cp가 모두 식(2)로 표시되는 기인 프로세스 카트리지.
- 제8항에 있어서, 식(2)에서 A가 치환 되지 않은 o-페닐렌인 프로세스 카트리지.
- 제9항에 있어서, 식(1)에서 n이 2 또는 3인 프로세스 카트리지.
- 제7항에 있어서, 상기 옥시티탄 프탈로시아닌이 CuKα 특성 X선 회절에 있어서 브래그 각(2θ±0.2°) 9.0°, 14.2°,23.9°및 27.1°에서 특정 피이크를 갖는 프로세스 카트리지.
- 제10항에 있어서, 상기 옥시티탄 프탈로시아닌이 CuKα 특성 X선 회절에 있어서 브래그 각(2θ±0.2°) 9.0°, 14.2°,23.9°및 27.1°에서 특정 피이크를 갖는 프로세스 카트리지.
- 전자사진 감광 부재, 충전 수단, 노출 수단, 현상 수단 및 전사 수단으로 이루어지고, 상기 전자사진 감광 부재는 도전성 지지체 및 이 도전성 지지체 위에 제공된 감광층으로 이루어지고 이 감광층은 옥시티탄프탈로시아닌 및 하기 식(1)로 표시되는 아조 안료를 함유하는 것을 특징으로 하는 전자사진 장치.식중, Ar은 결합기를 통해 결합될 수 있는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 탄화수소기이거나, 또는 결합기를 통해 결합될 수 있는 치환되거나 또는 치환되지 않은 헤테로시클기이고, Cp는 페놀성 히드록실기를 갖는 커플러 잔기이되, 단 cp중 적어도 하나는 하기 식(2)로 표시되는 커플러 잔기이며, n은 2 내지 4의 정수이다.식 중, A는 고리 중에 질소 원자를 함유하는 치환되거나 또는 치환되지 않은 방향족 탄화수소 고리의 2가기 또는 치환되거나 또는 치환되지 않은 헤테로시클릭 고리의 2가 기이다.
- 제13항에 있어서, 식(1)에서 Cp가 모두 식(2)로 표시되는 기인 전자사진 장치.
- 제14항에 있어서, 식(2)에서 A가 치환되지 않은 o-페닐렌인 전자사진 장치.
- 제15항에 있어서, 식(1)에서 n이 2 또는 3인 전자사진 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 옥시티탄 프탈로시아닌이 CuKα 특성 X선 회절에 있어서 브래그 각(2θ±0.2°) 9.0°,14.2°,23.9°및 27.1°에서 특정 피이크를 갖는 전자사진 장치.
- 제16항에 있어서, 상기 옥시티탄 프탈로시아닌이 CuKα 특성 X선 회절에 있어서 브래그 각(2θ±0.2°)9.0°,14.2°,23.9°및 27.1°에서 특정 피이크를 갖는 전자사진 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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