KR960042208A - 위상반전 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 위상반전 마스크의 기판상에 동일한 물질의 위상천이부와 투광부를 일체로 형성하여 그 위상천이부와 투광부의 투과율의 차를 줄일 수 있고, 그 기판의 표면을 노출시키지 않으면서 그 차광층을 식각하여 그 위상천이부와 투광부상에차광층의 패턴을 형성함으로써 그 기판의 표면손상을 방지할 수 있으며, 위상천이 층을 형성한 후 그 위상천이층상에 차광층을 형성하여 위상천이층의 변형을 방지할 수 있는 한편, 위상천이층을 열산화법으로 형성하여 기판의 표면을 보다 평탄하게 형성할 수 있고 원하는 미세한 선폭의 패턴을 보다 용이하게 형성할 수 있다.

Description

위상반전 마스크 및 그 제조방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제9도의 (A)∼(C)는 제7도의 위상반전 마스크의 제조방법을 나타낸 공정도.

Claims (30)

1. 투광성 기판과, 그 투광성 기판상에 형성되는 투광층과, 그 투광층상에 원하는 패턴을 형성되는 위상천이층과, 그 위상천이층의 측면상에 원하는 패턴으로 형성되는 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
2. 제1항에 있어서, 상기 투광층의 두께와 상기 위상천이층의 두께가 서로 다른 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
3. 제2항에 있어서, 상기 투광층의 두께가 상기 위상천이층의 두께보다 작은 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
4. 제2항에 있어서, 상기 투광층과 상기 위상천이층의 두께가 위상반전을 위한 두께만큼 다르게 되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
5. 제1항에 있어서, 상기 투광층과 상기 위상천이층의 동일물질로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
6. 제5항에 있어서, 상기 투광층과 상기 위상천이층이 산화막으로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
7. 제1항에 있어서, 상기 위상천이층의 측면이 완만하게 경사지는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
8. 투광성 기판상에 투광층을 형성하는 단계와, 그 투광층의 원하는 영역상에 위상천이층의 패턴을 형성하는 단계와, 그 위상천이층의 측면상에 차광층의 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
9. 제8항에 있어서, 상기 위상천이층의 패턴을 형성하는 단계는 상기 투광층 상에 실리콘층을 형성하는 단계와, 그 실리콘층상에 절연막의 패턴을 형성하는 단계와, 그 절연막의 패턴으로 마스킹되지 않은 영역의 상기 실리콘층을 산화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
10. 제8항에 있어서, 상기 위상천이층의 패턴과 상기 투광층이 일체화되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
11. 제10항에 있어서, 상기 위상천이층의 패턴과 상기 투광층이 상기 산화막으로 일체화되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
12. 제8항에 있어서, 상기 위상천이층의 패턴의 측면이 경사지게 되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
13. 제9항에 있어서, 상기 실리콘층이 비정질 실리콘층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
14. 투광성 기판과, 그 투광성 기판상에 형성되며 위상천이부와 투광부를 갖는 투광층과, 그 투광층상에 형성되며, 그 투광층의 투광부상의 주개구부와 그 투광층의 위상천이부상의 보조개구부를 가지는 차광층을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
15. 제14항에 있어서, 상기 투광층의 투광부의 두께가 상기 투광층의 위상천이부의 두께보다 큰 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
16. 제14항에 있어서, 상기 투광층의 투광부의 두께가 상기 투광층의 위상 천이층의 두께보다 위상반전을 일으키기 위한 두께만큼 큰 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
17. 제14항에 있어서, 상기 투광층의 투광부와 위상천이층 사이의 영역상에 상기 차광층이 형성되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
18. 제14항에 있어서, 상기 주개구부의 폭이상기 보조개구부의 폭보다 크게 형성되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
19. 제14항에 있어서, 상기 보조개구부는 상기 주개구부를 거쳐 감광막에 노광되는 광의 세기를 증가시키는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
20. 투광성 기판상에 위상천이부와 투광부를 갖는 투광층을 형성하는 단계와, 그 투광층의 투광부상의 주개부와 그 투광층의 위상천이부상의 보조개구부를 갖는 차광층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
21. 제20항에 있어서, 상기 투광층의 투광부의 두께가 상기 투광층의 위상천이층의 두께보다 크게 된 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
22. 투광성 기판과, 그 투광성 기판상에 형성괴며 위상천이부를 갖는 투광층과, 그 투광층의 위상천이부를 제외한 영역상에 형성되는 차광층과, 상기 위상천이부의 투광부에 형성되는 홈을 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
23. 제22항에 있어서, 상기 홈의 깊이가 위상반전을 위한 깊이인 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
24. 제22항에 있어서, 상기 위상천이부는 상기 홈을 거쳐 감광막에 노광되는 광의 세기를 증가시키는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
25. 제22항에 있어서, 상기 위상천이부의 표면과 상기 차광층의 표면이 서로 평탄화되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
26. 제22항에 있어서, 상기 투광층의 위상천이부의 두께는 상기 투광층의 위상천이부를 제외한 영역의 두께보다 큰 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크.
27. 투광성 기판상에 위상천이부를 갖는 투광층을 형성하는 단계와, 그 투광층의 위상천이부를 제외한 영역상에 차광층의 패턴을 형성하는 단계와, 그 위상천이부의 원하는 영역에 홈을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
28. 제27항에 있어서, 상기 차광층의 패턴의 표면을 상기 위상천이부의 표면에 평탄화시키는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
29. 제27항에 있어서, 상기 차광층의 패턴의 표면이 기계화학적 연마법으로 평탄화되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.
30. 제27항에 있어서, 상기 차광층의 패턴의 표면이 이방성 식각법으로 평탄화되는 것을 특징으로 하는 위상반전 마스크의 제조방법.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.