KR960037690A - 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물, 이의 제조방법 및 디메틸 알루미늄 하이드라이드의 점도를 감소하는 방법 - Google Patents
디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물, 이의 제조방법 및 디메틸 알루미늄 하이드라이드의 점도를 감소하는 방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 25℃에서의 점도가 약 2000mPa·s이하이고, 디메틸알루미늄 하이드라이드 및 디메틸알루미늄 하이드라이드에 대한 중량비로 0.01∼10%의 양으로 하나 이상의 루이스 염기로 구성되는 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물을 제공하는 것이다. 생성된 디메틸알루미늄 하아르라이드 조성물은 취급에 있어서 우월하다.
본 발명은 또한 디메틸알루미늄 하이드라이드의 점도를 감소시키는 방법을 제공하는 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (17)
- 디메틸알루미늄 하이드라이드를 기준으로 0.01∼10중량% 양의 하나 이상의 루이스 염기 및 디메틸알루미늄 하이드라이드로 구성되고, 25℃에서 약 2000mPa·s이하의 점도를 갖는 디메틸알루미늄 하아르라이드 조성물.
- 제1항에 있어서, 포함된 루이스 염기의 양은 디메틸알루미늄 하이드라이드를 기준으로 0.03∼1.0중량%인 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 제1항에 있어서, 점도가 25℃에서 약 1000mPa·s이하인 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 제2항에 있어서, 점도가 25℃에서 약 500mPa·s이하인 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 제1항에 있어서, 루이스 염기를 원소 주기표의 Vb 및 VIb족 원소에서 선택된 하나 이상의 원소를 포함하는 유기화합물인 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 제1항에 있어서, 루이스 염기가 N, P, As, O 및 S로 구성된 군에서 선택된 하나 이상의 원소를 포함하는 유기화합물인 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 제1항에 있어서, 루이스 염기가 디에틸 에테르, 디부틸 에테르, 메틸부틸 에테르, 아니솔, 디페닐 에테르, 벤질 에테르, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 트리에틸아민, 트리옥틸아민, 디메틸프로필아민, 디메틸도데실아민, 디메틸아미노트리메틸실란, 디메틸알릴릴아민, 디아소프로필에틸아민, 디메틸아닐린, 벤질에틸아닐린, 테트라메틸에틸렌디아민, 테트라메틸디아미노프로판, 테트라메틸헥사메틸렌디아민, 피리딘, 디메틸아미노피리딘, 콜리딘, 피라진, 디메틸피라진, 피라졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 트리아진, 트리아졸, 퀴날딘, 이미다졸, 벤질메틸이미다졸, 디메틸 설파이드, 디에틸 설파이드, 디페닐 설파이드, 치오펜, 트리에틸포스핀, 트리페닐포스핀 및 트리에틸아르신으로 구성되는 군에서 선택되는 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 제7항에 있어서, 루이스 염기가 디에틸 에테르, 디부틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 트리에틸아민, 디메틸도데실아민 및 디메틸아닐린으로 구성되는 군에서 선택되는 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물.
- 디메틸알루미늄 하이드라이드에 대한 중량비로 0.01∼10% 양에 하나 이상의 루이스 염기를 가하는 것으로 구성되는, 25℃에서의 점도가 2000mPa·s이하인 디메틸알루미늄 하이드라이드 조성물의 제조방법.
- 디메틸알루미늄 하이드라이드에 대한 중량비로 0.01∼1%의 양으로 디메틸알루미늄 하이드라이드에 하나 이상의 루이스 염기를 가하는 것으로 구성된 디메틸알루미늄 하이드라이드의 점도를 약 2000mPa·s이하로 감소시키는 방법.
- 제10항에 있어서, 루이스 염기의 양은 디메틸알루미늄 하이드라이드를 기준으로 0.03∼1.0중량%인 방법.
- 제10항에 있어서, 점도가 25℃에서 1000mPa·s이하인 방법.
- 제10항에 있어서, 점도가 25℃에서 500mPa·s이하인 방법.
- 제10항에 있어서, 루이스 염기는 원소 주기표의 Vb 및 VIb족 원소에서 선택된 하나 이상의 원소를 포함하는 유기화합물인 방법.
- 제10항에 있어서, 루이스 염기가 N, P, As, O 및 S로 구성되는 군에서 선택된 하나 이상의 원소를 포함하는 유기화합물인 방법.
- 제10항에 있어서, 루이스 염기가 디에틸 에테르, 디부틸 에테르, 메틸부틸 에테르, 아니솔, 디페닐 에테르, 벤질 에테르, 디메톡시에탄, 디에톡시에탄, 테트라하이드로푸란, 디옥산, 트리에틸아민, 트리옥틸아민, 디메틸프로필아민, 디메틸데실아민, 디메틸아미노트리메틸실란, 디메틸알릴릴아민, 디이소프로필에틸아민, 디메틸아닐린, 벤질에틸아닐린, 테트라메틸에틸렌디아민, 테트라메틸디아미노프로판, 테트라메틸헥사메틸렌디아민, 피리딘, 디메틸아미노피리딘, 콜리딘, 피라딘, 디메틸피라진, 피라졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 트리아진, 트리아졸, 퀴날린, 이미다졸, 벤질메틸이미다졸, 디메틸 설파이드, 디에틸 설파이드, 디페닐 설파이드, 치오펜, 트리에틸포스핀, 트리페닐포스핀 및 트리에틸아르신으로 구성되는 군에서 선택되는 방법.
- 제16항에 있어서, 루이스 염기가 디에틸 에테르, 디부틸 에테르, 테트라하이드로푸란, 트리에틸아민, 디메틸도데실아민 및 디메틸아닐린으로 구성되는 군에서 선택되는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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