KR960030098A - 박막 자기 헤드의 제조방법 - Google Patents

박막 자기 헤드의 제조방법 Download PDF

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KR960030098A
KR960030098A KR1019950001557A KR19950001557A KR960030098A KR 960030098 A KR960030098 A KR 960030098A KR 1019950001557 A KR1019950001557 A KR 1019950001557A KR 19950001557 A KR19950001557 A KR 19950001557A KR 960030098 A KR960030098 A KR 960030098A
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KR
South Korea
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coil
manufacturing
thin film
magnetic head
forming
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KR1019950001557A
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English (en)
Inventor
박덕영
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 박막 자기 헤드의 코일, 제조 방법에 관하여 개시한 것으로서, 본 발명에 의한 박막 자기 헤드의 코일 제조 방법은 포토레지스트를 이용하여 시드층을 코일 형상으로 제작하고, 이 코일 형상의 시드층의 주위에 도금용 레지스트 패턴을 형성하여 코일을 도금함으로써, 코일 도금 후 도금용 레지스트를 제거하지 않고 평탄화처리를 행할 수 있게 되어 제조 공정 단순화시키고 건식 또는 습식방식에 상관 없이 시편의 제작이 용이하게 이루어질 수 있도록 되었으며, 또한 품질의 신뢰도를 향상시킬 수 있도록 한 것이다.

Description

박막 자기 헤드의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도 내지 제9도는 본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 코일 제작을 위한 공정 단계별 수직단면도로서, 제5도는 시드층 증착 후의 수직 단면도, 제6도는 시드층의 코일 형상 제작 후의 수직 단면도, 제7도는 도금용 레지스트 형상 제작 후의 수직 단면도.

Claims (3)

  1. 기판에 소정 높이를 이루도록 하부평탄화층을 형성하고, 그 위에 시드층을 증착하는 단계와; 상기 시드층을 코일 형성으로 제작하기 위하여 포토레지스트를 이용하여 패턴을 형성하고 식각하는 단계와; 상기 코일 형상으로 제작된 시드층의 주위에 도금용 레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 도금용 레지스트 패턴 사이의 시드층 위에 코일을 도금하는 단계; 및 상기 도금된 코일 상부에 평탄화층을 형성하는 단계를 순차 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 코일 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 상부 평탄화층 형성 단계 이전에 250℃ 이상에서 열처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 코일 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 상부 평탄화층은 1회 도포에 의해 0.2㎛ 이하의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 코일 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950001557A 1995-01-27 1995-01-27 박막 자기 헤드의 제조방법 KR960030098A (ko)

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