KR960026086A - 레티컬(Reticle) 제작방법 - Google Patents
레티컬(Reticle) 제작방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960026086A KR960026086A KR1019940034769A KR19940034769A KR960026086A KR 960026086 A KR960026086 A KR 960026086A KR 1019940034769 A KR1019940034769 A KR 1019940034769A KR 19940034769 A KR19940034769 A KR 19940034769A KR 960026086 A KR960026086 A KR 960026086A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- reticle
- manufacturing
- die
- reticle manufacturing
- scribe lines
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/38—Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
- G03F1/44—Testing or measuring features, e.g. grid patterns, focus monitors, sawtooth scales or notched scales
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
본 발명은 반도체 소자 제조공정의 포토 공정에 있어서 레티컬 제작 방법에 관한 것으로, 특히 레티컬 제작 시, 다수개의스크라이브 라인을 형성하여 1 개의 스크라이브 라인내로 테스트 다이의 데이타를 모두 삽입시키지 못함으로 인해 레티컬상에 별도의 테스트 다이를 설치 운용함으로써 다이와 테스트 패턴간의 상이한 단차가 발생되는 문제점을 제거하는 레티컬 제작방법이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 2a 도와 제 2b 도는 본 발명에 따른 레티컬과 웨이퍼상에 형성된 다이를 도시한 도면.
Claims (2)
- 레티컬 제작방법에 있어서, 레티컬상에 형성되는 스크라이브 라인을 다수개로 형성하여, 테스트 다이를 분리하고 테스트 다이의 데이타를 상기 다수개의 스크라이브 라인 내로 모두 삽입시킬 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 레티컬 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 스크라이브 라인의 수는 2 개인 것을 특징으로 하는 레티컬 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034769A KR0140487B1 (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 레티컬 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034769A KR0140487B1 (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 레티컬 제작방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960026086A true KR960026086A (ko) | 1996-07-22 |
| KR0140487B1 KR0140487B1 (ko) | 1998-07-15 |
Family
ID=19401977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940034769A KR0140487B1 (ko) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 레티컬 제작방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0140487B1 (ko) |
-
1994
- 1994-12-16 KR KR1019940034769A patent/KR0140487B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0140487B1 (ko) | 1998-07-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970018205A (ko) | 반도체 집적회로 제조공정방법 | |
| KR850000787A (ko) | 반도체소자 제작을 위한 포토마스크(Photomask) 레티클(Raticle)의 검사방법 | |
| KR960026086A (ko) | 레티컬(Reticle) 제작방법 | |
| KR920005333A (ko) | 반도체회로 제조장치 및 방법 | |
| KR970053273A (ko) | 웨이퍼 결함 검사방법 | |
| KR960012282A (ko) | 반복성 패턴 다이를 갖는 웨이퍼 및 다이 제조 방법 | |
| KR910013463A (ko) | 반도체 소자의 개구형성방법 | |
| KR960024679A (ko) | 노광촛점 검사용 마스크 | |
| KR950030229A (ko) | 웨이퍼 패턴의 얼라인 방법 | |
| KR950027970A (ko) | 반도체 제조 방법 | |
| KR960002479A (ko) | 반도체 소자의 감광 패턴 형성방법 | |
| KR980005911A (ko) | 스크라이브 라인 제작방법 | |
| KR980005307A (ko) | 반도체 소자의 패턴 정렬방법 | |
| KR960032580A (ko) | 레티클(reticle) 및 그를 이용한 반도체장치 제조방법 | |
| KR950025885A (ko) | 노광마스크 형성방법 | |
| KR970054601A (ko) | 반도체 디바이스 제조공정의 금속층 패터닝(Patterning) 방법 | |
| KR970016800A (ko) | 사진 묘화 공정을 단순화 한 반도체 장치의 제조 방법 | |
| KR970028818A (ko) | 반도체소자 제조용 포토레지스트 및 반도체소자 제조공정 검사방법 | |
| KR100224708B1 (ko) | 조립된 칩의 웨이퍼 상의 위치 확인방법 | |
| KR950025927A (ko) | 반도체장치 제조방법 | |
| KR960002505A (ko) | 반도체 소자의 포커스 모니터링 방법 | |
| KR950027935A (ko) | 중첩마진 향상을 위한 포토마스크 제조방법 | |
| KR920003439A (ko) | Peb를 이용한 노치 현상개선 방법 | |
| KR970028813A (ko) | 반도체장치 제조용 레티클 | |
| KR960002703A (ko) | 반도체 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20090223 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |