KR960019487A - 미세패턴 형성방법 - Google Patents
미세패턴 형성방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960019487A KR960019487A KR1019940031874A KR19940031874A KR960019487A KR 960019487 A KR960019487 A KR 960019487A KR 1019940031874 A KR1019940031874 A KR 1019940031874A KR 19940031874 A KR19940031874 A KR 19940031874A KR 960019487 A KR960019487 A KR 960019487A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- fine pattern
- forming
- aperture
- formation method
- pattern formation
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/10—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
- H05K3/12—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
- H05K3/1216—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing
- H05K3/1233—Methods or means for supplying the conductive material and for forcing it through the screen or stencil
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
본 발명은 박막장치에 미세패턴을 형성하는 신규한 방법을 개시한다.
종래에는 감광막을 선택적으로 노광한 후 이를 통해 식각하여 미세패턴을 형성하였으므로 그 공정이 복잡하고 기능층이 손상되어 제조공수가 크며 수율이 낮은 문제가 있었다.
본 발명에서는 금속박판에 미세패턴에 대응하는 어퍼츄어를 형성하여 이를 통해 미세패턴을 적층하도록 함으로써 공정이 간단하고 제조품위가 높으며 수율도 높게 하였다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 미세패턴 형성과정을 순차적으로 보이는 단면도들,
제3도는 본 발명의 방법의 구현에 사용되는 마스크의 일례를 보이는 사시도이다.
Claims (4)
- 박막장치의 기판상에 미세패턴을 형성하는 방법에 있어서, 금속박판에 상기 형성될 미세패턴에 대응하는 패턴으로 어퍼츄어를 가지는 형성하여 금속마스크를 구성하고, 상기 금속마스크의 어퍼츄어를 통해 상기 미세 패턴을 적층하는 것을 특징으로 하는 미세패턴의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 적층방법이 상기 어퍼츄어를 통해 상기 미세패턴의 증착 또는 스프터링하는 것임을 특징으로 하는 미세패턴의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 적층방법이 상기 미세패턴의 소재를 상기 어퍼츄어를 통해 인쇄 또는 분사도포하는 것임을 특징으로 하는 미세패턴의 형성방법.
- 제1항에 있어서, 상기 금속마스크의 두께가 0.05~0.1㎜인 것을 특징으로 하는 미세패턴의 형성방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940031874A KR0183468B1 (ko) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 미세패턴 형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940031874A KR0183468B1 (ko) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 미세패턴 형성방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960019487A true KR960019487A (ko) | 1996-06-17 |
| KR0183468B1 KR0183468B1 (ko) | 1999-04-15 |
Family
ID=19399570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940031874A KR0183468B1 (ko) | 1994-11-30 | 1994-11-30 | 미세패턴 형성방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0183468B1 (ko) |
-
1994
- 1994-11-30 KR KR1019940031874A patent/KR0183468B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR0183468B1 (ko) | 1999-04-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR920018850A (ko) | 메탈플러그의 형성방법 | |
| DE59508829D1 (de) | Verfahren zum Herstellen von Strukturierungen | |
| TW376538B (en) | Method for producing a photomask | |
| FR2372457A1 (fr) | Procede de rognage d'une couche photoresistante | |
| KR890004392A (ko) | 미세패턴의 형성방법 | |
| KR950034377A (ko) | 섀도우 마스크의 제조방법 | |
| KR960019487A (ko) | 미세패턴 형성방법 | |
| EP0385480A3 (en) | Aperture pattern printing plate for shadow mask and method of manufacturing the same | |
| KR970048849A (ko) | 액정 표시 장치의 제조 방법 | |
| WO1997043694A3 (de) | Verfahren zur herstellung einer stencil-maske | |
| KR920002369A (ko) | 금속제 스크린 인쇄제판 및 그 제조방법 | |
| KR890007605A (ko) | 스피커용 그리드의 제조방법 | |
| KR930001497A (ko) | 액정용 박막트랜지스터의 제조방법 | |
| JPS5612736A (en) | Formation of fine chromium pattern | |
| KR960008701A (ko) | 박막 자기헤드의 자성층 식각방법 | |
| JPS5586118A (en) | Alignment mark formation | |
| JPS5618429A (en) | Minute electrode formation | |
| JPS56130716A (en) | Manufacture of electrode substrate for liquid-crystal display element | |
| KR880009431A (ko) | 반도체 제조공정에 있어서 금속 패턴 형성을 위한 금속에칭 방법 | |
| KR970022538A (ko) | 최소선폭을 갖는 마스크 패턴의 형성방법 | |
| KR980005764A (ko) | 2층 이상의 금속층을 패터닝하는 식각방법 | |
| JPS5635774A (en) | Dry etching method | |
| KR940010871A (ko) | 플렉시블 필름 인쇄회로 기판 및 제조방법 | |
| JPS6465287A (en) | Formation of metal pattern | |
| KR970017216A (ko) | 박막 자기 헤드의 상부 자극층 가공방법 및 이를 적용한 박막 자기 헤드의 제조 방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20120604 Year of fee payment: 15 |
|
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20131120 Year of fee payment: 16 |
|
| EXPY | Expiration of term |