KR960000136Y1 - 감광막 제거용 석영보트 - Google Patents
감광막 제거용 석영보트 Download PDFInfo
- Publication number
- KR960000136Y1 KR960000136Y1 KR2019930007828U KR930007828U KR960000136Y1 KR 960000136 Y1 KR960000136 Y1 KR 960000136Y1 KR 2019930007828 U KR2019930007828 U KR 2019930007828U KR 930007828 U KR930007828 U KR 930007828U KR 960000136 Y1 KR960000136 Y1 KR 960000136Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- quartz boat
- wafer
- support
- lower support
- sensitive film
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/673—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
- H01L21/67313—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements
- H01L21/67316—Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterized by a material, a roughness, a coating or the like
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
제 1 도는 일반적인 석영보트 정면도 및 평면도
제 2 도는 제 1 도의 상, 하부지지대 상세 단면도
제 3 도는 본 고안에 따른 하부지지대 단면도
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 명칭
1 : 석영보트 2 : 하부지지대
3 : 상부지지대 4 : 코팅막
본 고안은 반도체 제조장비중 감광막 제거용 석영보트에 관한 것이다.
종래의 감광막 제거용 석영보트를 첨부된 도면 제 1 도 및 제 2 도를 참조하여 살펴본다.
제 1 도(a)와 (b)는 각각 일반적인 석영보트 정면도 및 평면도로서, 1은 석영보트, 2는 하부지지대, 3은 상부지지대를 각각 나타낸다. 석영보트(1) 상, 하에 각각 부착되어 웨이퍼를 지지하는 상부지지대(3) 및, 하부지지대(2)는 제 2 도에 도시된 바와 같이 형성된 요홈에 의해 웨이퍼를 지지하는 구조를 갖는다.
그러나, 상기 종래 석영보트는 건식 감광막 제거시 하부지지대와 접촉한 웨이퍼 가장자리의 감광막 제거가 어려워 감광막이 잔류하게 되며,잔류 감광막은 O2플라즈마에 의해 경화되어 황산과 과산화수소의 혼합액으로도 쉽게 제거되지 않음으로써 오염물질 발생으로 인한 반도체 소자의 특성 악화와 수율저하의 문제점이 따랐다.
상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 본 고안은 석영보트에 의한 감광막 제거시 웨이퍼 가장자리의 감광막의 잔류를 방지하는 감광막 제거용 석용보트를 제공하는네 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 고안에 따른 감광막 제거용 석영보트는 요홈이 없는 하부지지대 및, 요홈이 형성되어 웨이퍼를 지지하는 상부지지대를 구비하는 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부된 도면 제 3 도를 참조하여 본 고안을 상술한다.
제 3 도는 석영보트(1) 하부에 부착되어 웨이퍼를 지지하는 하부지지대(2)의 단면도로서, 하부지지대(2)의 표면에 O2,O2+CF4,O2+N2O등의 가스에 대한 내플라즈마성을 갖는 테프론, 칼레츠 등과 같은 내플라즈마성 물질이 0.1내지 5.0mm 두께로 코팅되어 코팅막(4)을 형성함으로써 웨이퍼 이동시 충격을 방지하도록 구성된다. 이때 하부지지대의 요홈이 없다할지라도 상부지지대의 요홈에 의해 웨이퍼의 이탈이 방지될 수 있다.
상기와 같이 이루어지는 본 고안에 따른 하부지지대를 갖는 감광막 제거용 석용보트는 웨이퍼 가장자리의 감광막의 잔류를 방지함으로써, 반도체 소자 특성 및 수율 향상의 효과가 있다.
Claims (3)
- 반도체 제조장비중 감광막 제거용 석영보트에 있어서, 웨이퍼를 지지하기 위한 요홈이 없는 하부지지대(2) 및, 요홈이 형성되어 웨이퍼를 지지하는 상부지지대(3)를 구비하는 것을 특징으로 하는 감광막 제거용 석영보트.
- 제 1 항에 있어서,하부지지대 표면에 웨이퍼 이동시의 충격을 흡수하기 위해 내플라즈마성 물질로 0.1내지 5.0mm 두께의 코팅막을 형성한 것을 특징으로 하는 감광막 제거용 석영보트.
- 제 2 항에 있어서,내플라즈마성 물질이 실리콘 고무, 테프론계 화합물 또는 칼레츠인 것을 특징으로 하는 감광막 제거용 석영보트.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019930007828U KR960000136Y1 (ko) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 감광막 제거용 석영보트 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019930007828U KR960000136Y1 (ko) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 감광막 제거용 석영보트 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940027585U KR940027585U (ko) | 1994-12-10 |
| KR960000136Y1 true KR960000136Y1 (ko) | 1996-01-04 |
Family
ID=19355074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR2019930007828U KR960000136Y1 (ko) | 1993-05-11 | 1993-05-11 | 감광막 제거용 석영보트 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960000136Y1 (ko) |
-
1993
- 1993-05-11 KR KR2019930007828U patent/KR960000136Y1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940027585U (ko) | 1994-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR880004543A (ko) | 집적회로 제작방법 | |
| KR950015621A (ko) | 실리콘계 재료층의 가공 방법 | |
| KR960000136Y1 (ko) | 감광막 제거용 석영보트 | |
| JPS5629326A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JPS57167659A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| KR20230029408A (ko) | 가공면 보호층 및 이를 이용한 실리콘 마스크 제조방법 | |
| KR0122524B1 (ko) | 금속배선층 형성방법 | |
| JPS57139943A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| KR100256814B1 (ko) | 반도체소자의 미세패턴 형성방법 | |
| KR970018192A (ko) | 어노우드(Anode) 전극을 갖는 반도체 식각장치 | |
| JPS5679446A (en) | Production of semiconductor device | |
| KR950006636Y1 (ko) | 플라즈마 에칭장비의 애노드 식각 방지장치 | |
| KR200208728Y1 (ko) | 식각 챔버의 베스펠 클램프 링 | |
| JPS5455378A (en) | Production of semiconductor device | |
| KR940016470A (ko) | 경사면을 갖는 콘택홀 형성방법 | |
| JPS6449231A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| KR960001911A (ko) | 반도체 소자의 감광막 제거방법 | |
| KR940009769A (ko) | 반도체 소자의 감광막 미세 패턴 형성방법 | |
| JPS5541764A (en) | Manufacturing semiconductor element | |
| KR950027904A (ko) | 플라즈마 식각후의 실리콘막 표면 처리 방법 | |
| JPS57124443A (en) | Forming method for electrode layer | |
| KR970053316A (ko) | 반도체 장비의 웨이퍼 홀더 | |
| KR940002664A (ko) | 감광막 패턴 형성방법 | |
| KR910020837A (ko) | 반도체 제조공정의 식각공정방법 | |
| KR970077277A (ko) | 실리콘 기판의 후면 손상 방지방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| REGI | Registration of establishment | ||
| FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20021223 Year of fee payment: 8 |
|
| LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |