KR950034597A - 양극산화용 장치 및 방법 - Google Patents

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KR950034597A
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도시미쓰 고누마
아키라 수가와라
유키코 우에하라
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야마자끼 순페이
가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 겐큐쇼
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    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02—Anodisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02104—Forming layers
    • H01L21/02107—Forming insulating materials on a substrate
    • H01L21/02225—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer
    • H01L21/02227—Forming insulating materials on a substrate characterised by the process for the formation of the insulating layer formation by a process other than a deposition process
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Abstract

본 발명은 단일 기판내 뿐만 아니라 다수의 막 사이에 막두께와 질에 있어서 개선되 균일성의 양극산화막을 제공하는 양극 산화에서 사용하기 위한 장치와 그를 사용하는 공정에 관한 것이다. 상기 장치는 음극, 및 양극배선, 양극배선과 전기적으로 접속된 금속박막, 및 양극산화액이 음극 및 양극산화 개선과 전기적으로 접속된다면 음극과 금속박막사이에 흘려보내지는 양극산화액을 포함한다. 금속박막은 회전면상에 위치될 수 있다.

Description

양극산화용 장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 양극산화를 수행하기 위한 장치의 도해도; 제4도는 본 발명에 따라 처리되려는 기판의 평면도; 제5A도 내지 5C도 본 발명에 따른 커넥터의 단면도.

Claims (16)

  1. 양극산화되려는 표면을 갖는 목적물을 유지하기 위한 지지대; 상기 표면에 전기적으로 접속된 제1전극; 사이에 갭을 두고 상기 목적물과 대향하는 제2전극; 상기 제1전극과 제2전극사이에 전압을 인가하기 위한 전원; 및 상기 전압의 인가동안 상기 제2전극과 상기 목적물 사이의 갭안에 전해액을 흘려보내기 위한 수단을 포함하는 양극산화를 수행할 수 있는 장치.
  2. 양극산화되려는 표면을 갖는 목적물을 유지하기 위한 지지대; 상기 표면에 전기적으로 접속된 제1전극; 사이에 갭을 두고 상기 목적물과 대향하는 제2전극; 상기 제1전극과 제2전극사이에 전압을 인가하기 위한 전원; 및 상기 제2전극과 상기 목적물 사이의 갭안에 전해액을 흘려보내기 위한 수단을 포함하고, 상기 지지대에 상기 목적물을 회전시키기 위한 수단이 제공되는, 양극산화를 수행할 수 있는 장치.
  3. 양극산화되려는 표면을 갖는 목적물을 유지하기 위한 지지대; 상기 표면에 전기적으로 접속된 제1전극; 사이에 갭을 두고 상기 목적물과 대향하는 제2전극; 및 상기 제1전극과 제2전극사이에 전압을 인가하기 위한 전원을 포함하고, 상기 제2전극에, 상기 전압의 인가동안 상기 제2전극과 상기 목적물 사이의 갭안에 전해액을 흘려보내기 위한 수단이 제공되는 양극산화를 수행할 수 있는 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 지지대에 상기 목적물을 회전시키기 위한 수단이 제공되는 장치.
  5. 제3항에 있어서, 전해액을 흘려보내기 위한 상기 수단이 특정 방향으로 상기 목적물상에 상기 전해액을 흘려보낼 수 있는 장치.
  6. 기판을 유지하기 위한 상부표면을 갖는 홀더; 사이에 갭을 두고 홀더의 상기 상부평면에 대향하는 음극으로서의 제1전극; 상기 음극과 상기 홀더 사이의 갭에 전해액을 도입하기 위한 수단; 상기 기판과 접속되려는 전극으로서의 제2전극; 및 상기 제1전극과 제2전극 사이에 전압을 인가하기 위한 전원을 포함하고, 상기 상부 평면이 수평적으로 배열된 양극산화를 수행할 수 있는 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 홀더와 상기 음극의 적어도 하나를 회전시키기 위한 수단을 추가로 포함하는 장치.
  8. 제6항에 있어서, 상기 제2전극이 상기 홀더에 대향하는 상기 기판의 하부면에 접속된 장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제2전극이 상기 기판의 중심부분에서 상기 기판에 전기적으로 접속된 장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 제2전극이 상기 제1전극을 통해 연장하고, 상기 기판과 그의 상부 면상에서 전기적으로 접촉하는 장치.
  11. 제6항에 있어서, 상기 홀더와 상기 제1전극이 같은 회전축에 대해서 회전할 수 있는 장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 제2전극이 상기 제1전극을 통해서 연장하고, 같은 회전축에 대해서 상기 기판과 그의 상부면에서 전기적으로 접촉하는 장치.
  13. 회전가능한, 기판을 유지하기 위한 상부표면을 갖는 홀더; 사이에 갭을 두고 홀더의 상기 상부평면에 대향하는 음극으로서의 제1전극; 상기 음극과 상기 홀더 사이의 갭에 전해액을 도입하기 위한 수단; 상기 기판과 접속되려는 음극으로서의 제2전극; 상기 제1전극과 제2전극 사이에 전압을 인가하기 위한 전원; 및 상기 홀더상에 위치한 상기 기판의 상부표면으로 액체를 향하게 하기 위한 적어도 하나의 노즐을 포함하는 양극산화를 수행할 수 있는 장치.
  14. 제1배선과 제2배선이 서로 전기적으로 절연된, 적어도 제1배선과 제2배선이 형성되어 있는 목적물을 유지하기 위한 지지대; 상기 제1배선에 접속되고, 음극으로서 가능하기 위하여 제1전압이 공급되는 제1전극; 상기 제2배선에 접속되고 양극으로서 가능하도록 제2전압이 공급되는 제2전극으로서, 상기 제1전극과 단리된 제2전극; 및 상기 제1전극과 제2전극 양쪽에 대해서 음극으로서 기능하도록 제3전압이 공급되는 제3전극을 포함하고, 상기 제1전압과 제2전압이 서로 독립적으로 제어가능한 양극산화를 수행할 수 있는 장치.
  15. 양극산화를 수행하기 위한 제1유니트; 물로 세정을 수행하기 위한 제2유니트; 레지스트 박리액으로 포토레지스트를 제거하기 위한 제3유니트로서, 상기 제1,제2 및 제3유니트가 서로 독립된 제3유니트; 및 원하는 순서로 상기 제1,제2 및 제3유니트 사이에 기판을 이송하기 위한 로보트 수단을 포함하는 장치.
  16. 산화되려는 표면을 갖는 목적물을 제조하는 단계; 사이에 갭을 두고 산화되려는 상기 표면에 인접하여 음극을 배치하는 단계; 상기 표면을 양극으로 하여 상기 표면과 상기 음극사이에 전압을 인가하는 단계; 상기 표면과 상기 음극사이에 상기 갭에 양극산화를 수행하기 위한 전해액을 도입하는 단계를 포함하고, 상기 전해액이 상기 전압의 인가동안 상기 갭에서 계속적으로 이동하는 양극산화법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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