KR101498241B1 - 인공치아 보철의 표면 처리장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공함에 의해 달성되게 되는데, 이 표면 처리장치는 전면이 도어로 개폐되고 내부의 바닥에 양극 산화 처리를 위한 산성용액이 저장되는 처리조가 구비되는 케이스과, 양극 산화처리를 위한 보철의 파지단과 양극전원의 접속단이 양측으로 구비되는 봉 형상의 지그와, 처리조의 상면에 탈착식으로 설치되어 지그들을 정렬보관 하는 대ㆍ소의 보관홀들이 중앙에서 가로방향으로 배치되고 양측으로는 상하로 관통하여 설치되어 산성용액에 침수되는 음극전원의 단자와 지그를 하나 또는 적어도 하나 이상 현수방식으로 배치시켜 산화 처리를 이루게 하는 이종의 작업대들이 교체방식으로 설치되는 작업대를 포함하여서, 비교적 표면 처리설비를 소형화해 각 치과 치공소에서 간편하게 시설하여 보철의 표면처리 작업을 신속하고도 저렴한 비용으로 이룰 수 있게 된다.

Description

인공치아 보철의 표면 처리장치{device for surface treatment prosthetic of dental implants}

본 발명은 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치에 관한 것이다.

티타늄 금속이나 그 합금을 소재로 한 인공치아 보철, 예를 들어 크라운 보철ㆍ브리지 보철 또는 지주들을 들 수 있는데, 그러한 보철은 가공이 용이할 뿐만 아니라 인간의 생체조직에 대한 높은 생체친화성, 높은 기계적 강도 및 생체 불활성을 갖는 장점이 있다.

그러나 티타늄 및 그 합금 자체는 인체에 이식시 골과의 결합시간이 길고, 이식 후 장시간 지나면 금속 이온이 생체로 녹아 들어가는 단점이 따르는 것과, 그리고 그 보철들은 고정밀도의 장비를 이용해 높은 정밀도로 제작되어 보급된 제품은 멸균 및 진공 포장 없이 대기중에 그대로 방치 보관되어 일정 시간이 지나면 외부 환경에 의하여 표면이 부식되어 접합 및 결합불량의 주요인이 되고 있으며, 또한 그 부식 제거를 위해 추가적인 풀리싱 작업은 제품의 정밀도를 떨어뜨리어 2차 불량의 원인이 되고 있는 것이다.

상기에서와 같은 단점들을 보완하기 위하여 티타늄 및 그 합금에 표면처리를 수행하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 그 일례로 티타늄 표면에 존재하는 TiO2 산화막은 생체에서 안정하고 생체적합성이 우수하며 세포와의 반응에서도 긍정적인 면을 보인다고 보고되었으며, 그 산화 처리한 임플란트는 기계가공만 수행한 임플란트보다 이식시 골과의 결합력이 우수하다고 보고된 바 있을 뿐 아니라, 티타늄 및 메탈 소재로 제작되는 인공치아의 모든 제품을 외부 환경으로 발생 되는 부식 또는 점식(點蝕)을 막고 제품의 보존 및 심미적인 효과를 극대화하고 있다.

그러한 보철의 표면에 다양한 착색효과와 부드러운 표면효과를 얻기 위해서 아노다이징 처리를 하게 되는데, 이러한 장식성 아노다이징은 금속의 표면에 전기분해의 방법으로 산화막을 입혀 다양한 색상을 구현시키게 하고 있다.

그런데 이러한 인공치아 보철의 표면처리는 통상 규모가 큰 고가의 기 아노다이징 장비를 갖춘 표면처리 전문 가공업체에 의존하고 있는 것으로, 비교적 부피가 적은 인공치아의 보철 처리에서는 불필요한 처리 시간과 가공비용에 많은 부담이 따르고 있는 문제점이 있다.

그리하여 근래에 와서는 각 치과 치공소들에서 부담없이 간편히 시설하여 인공치아 보철의 표면처리를 간편하고도 적은 비용으로 이룰 수 있는 소규모의 표면 처리장비가 요구되고 있는 실정이다.

본 발명은 상기에서와 같은 사정을 고려하여 이루어진 것으로, 그 목적은 인공치아 보철 표면의 양극 산화 처리를 위한 장치의 구조를 혁신하여 소형화함으로써, 각 치과 치공소에서 간편하게 시설하여 보철의 표면처리 작업을 신속하고도 저렴한 비용으로 이룰 수 있게 한 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적은 산화 처리조 상에서 비교적 소형이고 다양한 크기로 이루는 인공치아 보철들의 파지와 전원 접속단이 구비되는 지그들을 정렬보관 함과 동시, 지그를 하나 또는 적어도 하나 이상 현수방식으로 배열시키며 산화 처리작업을 이루게 하는 이종의 작업대들이 교체식으로 설치되는 작업대를 구비함으로써, 산화 처리작업이 보다 간편하고 효율적으로 이룰 있는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공함에 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 지그의 단부에 보철의 비 표면 처리부분이 강제 압입식으로 삽입되어 고정되는 탄력성의 파지요소를 구비함으로써, 피 처리물인 보철의 장착 및 이탈이 용이하여 작업성을 향상시킬 수 있는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공하는 것이다.

이러한 본 발명의 목적은 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공함에 의해 달성되게 되는데, 이 표면 처리장치는 전면이 도어로 개폐되고 내부의 바닥에 양극 산화 처리를 위한 산성용액이 저장되는 처리조가 구비되는 케이스과, 양극 산화처리를 위한 보철의 파지단과 양극전원의 접속단이 양측으로 구비되는 봉 형상의 지그와, 처리조의 상면에 탈착식으로 설치되어 지그들을 정렬보관 하는 대ㆍ소의 보관홀들이 중앙에서 가로방향으로 배치되고 양측으로는 상하로 관통하여 설치되어 산성용액에 침수되는 음극전원의 단자와 지그를 하나 또는 적어도 하나 이상 현수방식으로 배치시켜 산화 처리를 이루게 하는 이종의 보조 작업대들이 교체방식으로 설치되는 작업대를 포함하여서, 비교적 표면 처리설비를 소형화해 각 치과 치공소에서 간편하게 시설하여 보철의 표면처리 작업을 신속하고도 저렴한 비용으로 이룰 수 있게 된다.

본 발명에 따른 인공치아 보철의 표면 처리장치에 의하면 장치의 구조를 혁신하여 소형화함으로써, 각 치과 치공소에서 간편하게 시설하여 보철의 표면처리 작업을 신속하고도 저렴한 비용으로 이루어 작업시간을 단축하고 제조단가를 절감시킬 수 있는 효과 있다.

또 본 발명은 비교적 소형이고 다양한 크기로 이루는 인공치아 보철들의 파지와 전원 접속단이 구비되는 지그들을 정렬보관 함과 동시, 지그를 하나 또는 적어도 하나 이상 현수방식으로 배열시키며 산화 처리작업을 이루게 하는 이종의 작업대들이 교체식으로 설치되는 작업대를 구비함으로써, 산화 처리작업이 보다 간편하고 효율적으로 이루어 작업성은 물론 생산성을 향상시키는 효과도 있을 것이다.

또한 본 발명은 지그의 단부에 보철의 비 표면 처리부분이 강제 압입식으로 삽입되어 고정되는 탄력성의 파지요소를 구비함으로써, 피 처리물인 보철의 장착 및 이탈이 용이하여 작업성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

도 1은 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치의 전체적인 구성을 보여 주는 개략 측 단면도.
도 2은 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치에 사용되는 지그를 발췌하여 보여 주는 단면도
도 3은 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치에 적용되는 처리조의 작업대 사시도.
도 4의 (a)(b)는 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치에 적용되는 이종의 보조 작업대들을 보여 주는 평면도로서,
(a)는 단일의 지그가 배치되는 보조 작업대이고,
(b)는 복수의 지그들이 배치되는 보조 작업대이다.

다음 본 발명의 일 실시 예에 관해 설명하겠다. 도 1 및 도 2에는 본 발명에 따른 인공치아 보철의 표면 처리장치가 상세하게 도시되어 있다.

본 발명은 치과 치공소에서 비교적 소규모로 간편히 시설하여 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공하는 것이다.

도면에서 10은 케이스이다. 이 케이스(10)는 대기와 격리하여 밀폐된 양극 산화처리 공간을 제공하게 되는데, 이러한 케이스(10)는 전면이 도어(12)로 개폐되고, 내부의 바닥에는 양극 산화 처리를 위한 산성용액이 저장되는 처리조(14)가 구비된다.

또 본 발명은 양극 산화처리를 위한 비교적 부피가 적은 인공치아의 보철(PR)을 별도의 지그(20)를 이용해 파지하며 소정의 표면 처리공정을 이루게 한다.

또한 본 발명에서의 지그(20)는 봉 형상으로 이루어 일 측에 파지단(22)과 타 축에는 양극전원(+)의 접속단(24)이 구비되어 있다.

그리고 처리조(14)에는 지그(20)를 이용해 보철(PR)들을 장전하여 표면 처리공정을 이루게 하는 작업대(30)가 그 처리조(14)의 상면에서 탈착식으로 설치될 것이다.

이러한 작업대(30)는 그 상면 중앙에 지그들(20)을 정렬보관 하는 대ㆍ소의 보관홀들(32)이 중앙에서 가로방향으로 배치되고, 보관홀들(32)을 중심으로하여 양측으로는 상하로 관통하여 설치되어 산성용액에 침수되는 음극전원(-)의 단자(34)와 지그(20)를 하나 또는 적어도 하나 이상 현수방식으로 배치시켜 산화 처리를 이루게 하는 보조 작업대들(35a,35b)이 교체방식으로 설치된다. 이때 작업대들(35a,354b) 각기에는 교체작업을 위해 작업대들(35a,354b)을 간편하게 파지하기 위한 홀 또는 양변을 부분적으로 잘록하게 이루고 있다.

한편 본 발명의 지그(20)는 그 파지단(22)에 보철(PR)의 비 표면 처리부분이 삽입되어 고정되는 탄력성의 파지요소(22a)를 더 포함하고 있다. 이때 탄력성의 파지요소(22a)는 보철(PR)의 비 표면 처리부분이 깊숙이 수용되어 산화 처리가 되지 않게 된다.

그리고 케이스(10)의 상부에는 그 케이스(10) 내에서의 산화 처리공정에서 필연적으로 발생하는 발열에 의한 실온을 제어하여 처리과정을 원할 수행시키게 하는 공냉방식의 공기조화를 위한 냉각시스템(40)이 구비되어 있다.

이상에서와 같이 본 발명의 일 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명은 이에 국한되지 않고 청구범위에 기재된 범위 내에서 변경이 가능할 것이다.

10 :케이스 12 :도어
14 :처리조 20 :지그
22 :파지단 22a :파지요소
24 :접속단 30 :작업대
32 :보관홀 40 :냉각시스템

Claims (3)

1. 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위해 다양한 형상과 크기로 제작되는 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 양극 산화 처리하는 처리장치로써, 다음을 포함하는 것:
   전면이 도어로 개폐되고, 내부의 바닥에 상기 양극 산화 처리를 위한 산성용액이 저장되는 처리조가 구비되는 케이스;
   상기 양극 산화처리를 위한 보철의 파지단과 양극전원의 접속단이 양측으로 구비되는 봉 형상의 지그;
   상기 처리조의 상면에 탈착식으로 설치되어 상기 지그들을 정렬보관 하는 대ㆍ소의 보관홀들이 중앙에서 가로방향으로 배치되고, 양측으로는 상하로 관통하여 설치되어 상기 산성용액에 침수되는 음극전원의 단자와 상기 지그를 하나 또는 적어도 하나 이상 현수방식으로 배치시켜 상기 산화 처리를 이루게 하는 보조 작업대들이 교체방식으로 설치되는 작업대를 포함하여서 된 것을 특징으로 하는 인공치아 보철의 표면 처리장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 지그의 파지단에 보철의 비 표면 처리부분이 삽입되어 고정되는 탄력성의 파지요소를 더 포함하는 인공치아 보철의 표면 처리장치.
3. 제1항에 있어서,
   상기 케이스의 상부에 상기 케이스 내에서의 공냉방식의 공기조화를 위한 냉각시스템이 구비된 인공치아 보철의 표면 처리장치.

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