KR102017500B1 - 인공치아 보철의 표면 처리장치 - Google Patents

Abstract

이러한 본 발명은 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공함에 의해 달성되게 되는데, 이 표면 처리장치는 전면이 도어로 개폐되는 케이스 내부의 바닥에 양극 산화처리를 위한 산성용액이 저장되고 복개방식의 판형 작업대가 설치되는 처리 조를 가지며, 작업대에는 상하로 관통하여 처리 조의 산성용액에 침수되는 음극전원 단자와 양극전원이 상단으로 공급되고 하단에서 양극 산화처리를 위한 피처리 물인 보철이 탈착방식으로 설치되어 작업대 상하로 관통해 처리 조의 산성용액에 침수하는 파지 단이 구비된 봉형의 지그들을 설치하여 보철 표면의 전기 분해방식 양극 산화처리가 이루도록 한 인공치아 보철의 표면 처리장치로서, 음극전원 단자가 상기 작업대의 중앙에서 상하로 관통 설치되어 상기 처리 조 내의 산성용액에 침수되게 한 것과 작업대는 판형으로 이루어 지그들을 좌우 양측으로 진열하는 보관홀들이 구비된 동체와 지그들이 상하로 관통 설치되게 하는 수용홀들을 구비한 도넛형의 홀더로 이룬 것 및 작업대의 동체와 홀더 사이에 개재 설치되고 어느 일 측에서 홀더를 통해 삽입 설치되는 단일의 양극전원 단자로부터 양극 전원이 공급되어 작업대의 홀더에 구비되는 수용홀들을 통해 설치되는 지그들 각기에 양극 전원이 동시적으로 공급되게 하는 공통단자를 포함하여서, 처리장치의 구조를 간소화하고 작업효율을 높이게 된다.

Description

인공치아 보철의 표면 처리장치{Surface treatment equipment for prosthetic dental prosthesis}

본 발명은 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치에 관한 것이다.

티타늄 금속이나 그 합금을 소재로 한 인공치아 보철, 예를 들어 크라운 보철ㆍ브리지 보철 또는 지주들을 들 수 있는데, 그러한 티타늄이나 그 합금 자체는 인체에 이식시 골과의 결합시간이 길고, 이식 후 장시간 지나면 금속 이온이 생체로 녹아 들어가는 단점이 따르는 것과, 그리고 그 보철들은 고정밀도의 장비를 이용해 높은 정밀도로 제작되어 보급된 제품은 멸균 및 진공 포장 없이 대기중에 그대로 방치 보관되어 일정 시간이 지나면 외부 환경에 의하여 표면이 부식되어 접합 및 결합불량의 주요인이 되고 있으며, 또한 그 부식 제거를 위해 추가적인 연마작업은 제품의 정밀도를 떨어뜨리어 2차 불량의 원인이 되는 등의 많은 단점이 따르고 있는 것이다.

이러한 단점들을 보완하기 위한 보철의 표면처리는 생체에 안정적이고 적합성이 우수한 이산화 타이타늄 산화막으로 이루고 있는데, 그 산화 처리된 임플란트는 기계가공만 수행한 임플란트보다 이식시 골과의 결합력이 우수할 뿐 아니라, 티타늄 및 메탈 소재로 제작되는 인공치아의 모든 제품을 외부 환경으로 발생 되는 부식 또는 점식현상을 방지하고 제품의 보존 및 심미적인 극대화 효과를 얻고 있다.

보철의 표면처리는 전기분해 방법으로 규모가 큰 고가의 아노다이징 장비를 갖춘 표면처리 전문가공업체에 의뢰하고 있는 것으로, 가공시간과 처리비용에 부담이 따르는 문제가 있었다.

이와 같은 문제 해결을 위해 본건 출원인이 치과나 치공소에서 경제적 부담없이 간편히 설치하여 인공치아 보철의 표면처리를 간편하고도 비교적 적은 비용으로 이룰 수 있게 한 인공 치아 보철의 표면 처리장치(등록특허 제10-1498241호)를 개발해 사용하고 있는데, 그 장치의 구조가 효율적이지 못해 보철의 표면처리 작업성과 능률이 저조한 문제점이 따르고 있다.

이를 더 설명하면, 처리장치는 전면이 도어로 개폐되는 케이스 내의 바닥에 양극 산화처리를 위한 산성용액이 저장되는 처리 조를 구비하고, 이 처리 조 상에 복개방식으로 설치되는 판형의 작업대가 설치된다.

그리고 작업대에는 그 일 측에서 상하로 관통하여 처리 조의 산성용액에 침수되는 음극전원의 단자와, 타 측으로는 양극전원이 상단에 공급되고 하단에서 양극 산화처리를 위한 피처리 물인 보철이 탈착방식으로 설치되어 작업대 상하로 관통해 처리 조의 산성용액에 침수하는 파지 단이 구비된 봉형의 지그들을 각기 설치하여 소정의 전기분해방식에 의한 보철 표면처리과정을 이루게 하고 있다.

그런데 이러한 표면 처리장치는 상기에서 설명한 바와 같이 지그들 각기에 삽입ㆍ이탈방식으로 설치되는 양극전원 공급 선재들이 구비되고 있는데, 즉 각기의 지그들에 개별적으로 양극전원 공급을 위한 전원공급 선재들이 지그들 배치 수에 맞추어 여러 가닥으로 복선 배선되어 처리장치의 구조가 복잡해지는 문제가 있다.

또 표면처리 공정의 전ㆍ후 시점에서 지그들 각기에 연결되는 전원공급 선재의 개별적인 접촉ㆍ이탈작업을 지그들 수에 맞추어 여러 번 이루게 됨으로써, 작업이 번거롭고 따라 작업 수공이 많이 따르게 된다.

또한 지그들 각기에 전원공급 선재들이 개별적으로 배선되어 작업대 상에서 지그들의 설치 수가 제한적이고, 따라 보철의 표면처리 공정 효율이 저조한 등의 많은 문제점이 따르고 있는 것이다.

그리하여 상기에서의 문제 해결을 위한 구조의 간소화와, 처리 공정효율을 높일 수 있는 표면 처리장치의 구조 혁신이 요구되고 있는 실정이다.

대한민국 등록특허 10-1498241호

본 발명은 상기에서와 같은 사정을 고려하여 이루어진 것으로, 그 목적은 단일의 양극 전원단자로부터 양극 전원이 공급되는 공통단자를 이용하여 표면 처리를 위한 보철이 파지된 다수의 지그들 각기에 동시적으로 양극 전원이 공급되게 함으로서, 배선이 단순하여 구조가 간단해지고 일시에 다수의 보철 표면처리로 작업성을 향상시키게 한 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공하는 것이다.

이러한 본 발명의 목적은 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공함에 의해 달성되게 되는데, 이 표면 처리장치는 전면이 도어로 개폐되는 케이스 내부의 바닥에 양극 산화처리를 위한 산성용액이 저장되고 복개방식의 판형 작업대가 설치되는 처리 조를 가지며, 작업대에는 상하로 관통하여 처리 조의 산성용액에 침수되는 음극전원 단자와 양극전원이 상단으로 공급되고 하단에서 양극 산화처리를 위한 피처리 물인 보철이 탈착방식으로 설치되어 작업대 상하로 관통해 처리 조의 산성용액에 침수하는 파지 단이 구비된 봉형의 지그들을 설치하여 보철 표면의 전기 분해방식 양극 산화처리가 이루도록 한 인공치아 보철의 표면 처리장치로서, 음극전원 단자가 상기 작업대의 중앙에서 상하로 관통 설치되어 상기 처리 조 내의 산성용액에 침수되게 한 것과 작업대는 판형으로 이루어 지그들을 좌우 양측으로 진열하는 보관홀들이 구비된 동체와 지그들이 상하로 관통 설치되게 하는 수용홀들을 구비한 도넛형의 홀더로 이룬 것 및 작업대의 동체와 홀더 사이에 개재 설치되고 어느 일 측에서 홀더를 통해 삽입 설치되는 단일의 양극전원 단자로부터 양극 전원이 공급되어 작업대의 홀더에 구비되는 수용홀들을 통해 설치되는 지그들 각기에 양극 전원이 동시적으로 공급되게 하는 공통단자를 포함하여서, 처리장치의 구조를 간소화하고 처리 작업효율을 높이게 된다.

본 발명에 따른 인공치아 보철의 표면 처리장치에 의하면, 단일의 양극 전원단자로부터 양극전원을 받아 다수의 지그들에 동시적으로 공급하는 공통단자를 이용 함으로써, 양극 전원공급 배선 수의 축소에 의해 작업대의 사용공간이 증대하여 다수의 지그들을 동시에 배치하고, 따라 일시에 다량의 보철 양극 산화처리를 이루어 작업능률을 높이는 효과가 있다.

또 본 발명은 단일의 양극 전원단자를 이용해 공통단자로 전원이 공급되게 함으로서, 종전 각 지그들에 공정 전ㆍ후 각기의 양극 전원단자를 접속ㆍ이탈시키는 작업이 배제되어 양극 산화처리 작업성을 보다 향상시킬 수 있는 효과도 얻을 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치의 전체적인 구성을 개략적으로 보여 주는 측 단면도.
도 2은 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치에 적용되는 작업대를 발췌하여 보여 주는 분해 사시도.
도 3은 본 발명 인공치아 보철의 표면 처리장치에 적용되는 작업대를 발췌하여 보여 주는 평면도.
도 4의 (a)(b)는 도 3의 A-A선 부분을 따라 절단하여 보여 주는 작업대의 종단면도로서,
(a)는 작업대의 홀더 수용홀에 지그가 설치되기 이전의 모습을 보인 설명도 이고,
(b)는 작업대의 홀더 수용홀에 지그가 설치된 모습을 보인 설명도이다.
도 5는 도 4의 B 부분을 발췌하여 보여 주는 요부 확대 단면도로 지그가 공통단자 접속편과의 전기적 접속을 이룬 모습을 보여 주는 설명도이다.

다음 본 발명의 일 실시 예에 관해 설명하겠다. 도 1 내지 도 3에는 본 발명에 따른 인공치아 보철의 표면 처리장치가 상세하게 도시되어 있다.

본 발명은 본건 출원인이 선등록 받은 특허등록 제10-1498241호 인공 치아 보철의 표면 처리장치의 구조 개선에 관한 것으로, 치과 치공소에서 비교적 소규모로 간편히 시설하여 자연 치아 손실 또는 상실 부분의 회복 시술을 위한 인공치아 보철의 기능적ㆍ심미적 기능 향상을 위하여 그 표면을 양극 산화 처리하는 인공치아 보철의 표면 처리장치를 제공하는 것이다.

도면에서 10은 케이스이다. 케이스(10)는 대기와 격리하여 밀폐된 양극 산화처리 공간을 제공하게 되는데, 케이스(10)는 전면이 도어(12)로 개폐되고, 내부의 바닥에는 양극 산화처리를 위한 산성용액이 저장되는 처리 조(14)가 구비된다.

처리 조(14)는 그 상면에 음극전원 단자(20)와, 인공치아 보철(PR)을 양극전원이 공급되는 봉형의 지그들(30)로 파지하여 산성용액에서의 침수방식에 의한 전기분해로 양극 산화처리를 위해 장전되게 하는 작업대가 복개방식으로 설치되어 있다.

그리고 케이스(10)의 상부에는 산화 처리공정에서 필연적으로 발생하는 발열에 의한 케이스(10) 내에서의 실온 변화를 제어하는 공냉방식의 냉각시스템(16)이 구비된다.

이와 같은 구성은 종전과 동일한 것이고, 본 발명에서의 핵심적인 기술은 작업대(40)에 배치되는 지그들(20)에 양극 전원공급을 보다 효율적으로 이루어 작업성이 향상되게 하는 작업대의 구조개선에 그 특징이 있다.

본 발명 작업대(40)는 크게 나누어 판형으로 이루는 동체(42)와, 도넛형으로 이루는 홀더(44)로 양분되어 구성된다. 이때 작업대(40)는 비도체로 이룬다.

동체(42)는 그 상면에 표면처리 공정을 대기하는 지그들(30)이 좌우 양측으로 진열되게 한 다수의 보관홀들(42a)을 구비하고, 동체(42)의 중앙에는 음극전원 단자(20)가 상하로 관통 설치되어 처리 조(14) 내의 산성용액에 침수되게 하고 있다.

훌더(44)는 지그들(30)이 상하로 관통 설치되게 하는 다수의 수용홀들(44a)을 갖는다. 이때 홀더(44)는 동체(42)의 상면에서 부분적으로 내려앉은 움푹한 부분에 중첩 설치되는데, 이 움푹한 부분에는 홀더(44)의 수용홀들(44a)과 대응 설치되어 지그(30)가 통과하는 통로들(42b)을 갖는다.

또 홀더(44)의 수용홀들(44a)은 동체(42) 중앙에 설치되는 음극전원 단자(20)를 중심으로 한 둘레에서 원주 상으로 배열되어 가능한 다수의 지그들(30)이 배치되고, 따라서 일시에 다수의 보철 양극 산화처리를 이루게 된다.

또한 수용홀들(44a)을 통하여 설치되는 지그들(20)은 그 하단에 파지 된 보철(PR)이 양극 산화 처리를 위해 처리 조(14)의 산성용액에 침수될 것이다.

그리고 작업대(40)의 동체(42)와 홀더(44) 사이에는 홀더(44)를 통해 어느 일 측에서 단일로 삽입 설치되는 양극전원 단자(50)로부터 공급되는 양극 전원을 각기의 지그들(20)에 동시적으로 공급되게 하는 공통단자(60)가 개재방식으로 설치된다. 이때 공통단자(60)는 전도성이 우수한 도체로 이룬다.

공통단자(60)는 홀더(44)와 동일한 도넛형으로 이루고, 작업대(40)의 홀더(44)에 구비되는 수용홀들(44a)과 대응 설치되어 지그들(30)의 삽입경로와 전기적 접속을 위한 통로들(60a)이 구비된다.

또 공통단자(60)의 통로(60a)에는 그 내연에서 부분적으로 하향 연장되어 지그(30)와의 전기적 접속면 증대를 위한 접속편들(60a-1)이 구비되어 있다. 이러한 공통단자(46)의 접속편(60a-1)은 지그(30)와 전기적 접속을 보다 안정되고 확고하게 이루게 될 것이다.

그러면 본 발명 표면 처리장치의 표면 처리과정을 설명하겠다.

도 4의 (a)(b)는 작업대(40)의 홀더(44) 수용홀들(44a)에 양극 산화 표면처리를 위한 보철(PR)이 파지된 다수의 지그들(30)의 설치 전ㆍ후의 모습을 보이고 있는 것으로, (a)는 작업대(40) 홀더(44)의 수용홀(44a)에 지그(30)가 설치되기 이전의 모습이고, (b)는 홀더(44)의 수용홀들(44a) 각기에 각 지그들(30)이 암수의 결합방식으로 삽입되어 공통단자(60)의 통로들(60a) 내연에서 하향으로 연장하여 구비되는 접속편(60a-1)과 전기적 접속을 완료한 모습을 보이고 있다.

이와 같이 작업대(40)에 지그들(30)의 장전이 완료되면, 작업대(40)의 중앙에서 처리 조(14)의 산성용액에 침수되게 설치되는 음극 전원 단(20)으로 음극전원을 공급하고, 작업대(40)의 홀더(44) 일 측에서 단일로 설치되는 양극 전원 단자(50)로 유입된 양극 전원은 공통단자(60)를 통하여 개별로 설치되는 각기의 지그들(30)에 동시적으로 공급되게 하여 통상의 전기 분해방식으로 각기 보철들(PR) 표면이 양극 산화 처리된다.

그리고 양극 산화 처리공정이 완료되면 작업대(40)의 수용홀(44a)에서 새로운 표면 처리를 대기하는 보철(PR)이 파지 된 지그들(30)로 간단히 교체하며 양극 산화 공정을 연속 수행하게 될 것이다.

이상에서와같이 본 발명의 일 실시 예에 관해 설명하였으나, 본 발명은 이에 국한되지 않고 청구범위에 기재된 범위 내에서 변경이 가능 할 것이다.

10: 케이스 12: 도어
14: 처리 주 16: 냉각시스템
20: 음극 전원단자
30: 지그
40: 작업대 42: 동체
44: 홀더
60: 공통단자
50: 양극 전원단자

Claims (4)

1. 전면이 도어로 개폐되는 케이스 내부의 바닥에 양극 산화처리를 위한 산성용액이 저장되고 복개방식의 판형 작업대가 설치되는 처리 조를 가지며, 상기 작업대에는 상하로 관통하여 상기 처리 조의 산성용액에 침수되는 음극전원 단자와 양극전원이 상단으로 공급되고 하단에서 양극 산화처리를 위한 피처리 물인 보철이 탈착방식으로 설치되어 상기 작업대 상하로 관통해 상기 처리 조의 산성용액에 침수하는 파지 단이 구비된 봉형의 지그들을 설치하여 보철 표면의 전기 분해방식 양극 산화처리가 이루도록 한 인공치아 보철의 표면 처리장치로서,
   상기 음극전원 단자가 상기 작업대의 중앙에서 상하로 관통 설치되어 상기 처리 조 내의 산성용액에 침수되게 한 것;
   상기 작업대는 판형으로 이루어 상기 지그들을 좌우 양측으로 진열하는 보관홀들이 구비된 동체와, 상기 지그들이 상하로 관통 설치되게 하는 수용홀들을 구비한 도넛형의 홀더로 이룬 것; 및
   상기 작업대의 동체와 홀더 사이에 개재 설치되고 어느 일 측에서 상기 홀더를 통해 삽입 설치되는 단일의 양극전원 단자로부터 양극 전원이 공급되어 상기 작업대의 홀더에 구비되는 상기 수용홀들을 통하여 설치되는 상기 다수의 지그들 각기에 양극 전원이 동시적으로 공급되게 하는 공통단자를 포함하여서 된 인공치아 보철의 표면 처리장치.
2. 제1항에 있어서,
   상기 홀더의 수용홀들은 상기 음극전원 단자를 중심으로 한 둘레에서 등 간격을 배열되게 한 것을 더 포함하는 인공치아 보철의 표면 처리장치.
3. 제1항에 있어서,
   상기 공통단자는 상기 홀더와 동일한 도넛형으로 이루고, 상기 홀더의 수용홀들과 대응 설치되어 상기 지그들의 삽입경로와 전기적 접속을 위한 통로들로 이룬 인공치아 보철의 표면 처리장치.
4. 제3항에 있어서,
   상기 공통단자의 통로 내연에서 부분적으로 하향 연장되어 상기 지그와의 전기적 접속면 증대를 위한 접속편들이 구비된 것을 더 포함하는 인공치아 보철의 표면 처리장치.
   

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