KR950034486A - 멀티 챔버 처리시스템 - Google Patents

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KR950034486A
KR950034486A KR1019950012843A KR19950012843A KR950034486A KR 950034486 A KR950034486 A KR 950034486A KR 1019950012843 A KR1019950012843 A KR 1019950012843A KR 19950012843 A KR19950012843 A KR 19950012843A KR 950034486 A KR950034486 A KR 950034486A
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데루오 아사카와
히로아키 사에키
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이노우에 아키라
도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤
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Abstract

복수의 프로세스의 종류 또는 순서가 변경될 때, 이 프로세스의 변경에 대응하여 진공처리실의 갯수가 증감되고, 옮겨싣는실은 진공처리실의 갯수의 증감에 대응하여 형상ㆍ크기가 변경되고, 그 이외의 로드록크실과 반송아암은, 어느 것이나 아무런 변결이 되지 않고, 반송아암은, 최소갯수의 진공처리실에 따라서 설치된 최소 형상의 옮겨싣는 실내에서 선회할 수 있는 최소 선희반경과, 최대 갯수의 진공처리실에 따른 최대 형상의 옮겨 싣는실내로부터 각 진공처리실내로 피처리체를 반입 반출할 수 있는 최대 신장거리를 갖추고 있다. 이에 의해, 프로세스 변경에 따라 진공처리실의 갯수가 증감되어도, 옮겨싣는실만 형상ㆍ크기를 변경하는 것만으로 좋으며, 그 이외의 로드록크실과 반송아암 등은 어느 것이나 공통품을 이용할 수 있어, 제작ㆍ조립이 대단히 간단하며, 비용절감을 도모할 수 있다. 또, 감압처리장치와 상압처리장치가 대기-진공 사이에서 분위기를 치환하기 위한 로드록크실에 의해 연결되어 있다.

Description

멀티 챔버 처리시스템
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예를 나타내는 3개의 진공처리실이 배치된 멀티 챔버 처리시스템의 수평단면도, 제4도는 본 발명의 실시예를 나타내는 6개의 진공처리실이 배치된 멀티 챔버 처리시스템의 수평단면도, 제5도는 3개의 진공처리실을 둘레에 배치한 멀티 챔버 처리시스템에 있어서의 반송장치와, 6개의 진공처리실을 둘레에 배치한 멀티 챔버 처리시스템에 있어서의 반송장치를 얻을 때의 설계수법을 나타내는 설명도.

Claims (13)

  1. 복수의 프로세스를 행하기 위하여 고리형상으로 배치된 복수의 진공처리실과, 이들 복수의 진공처리실의 중앙에 배치되고, 각각의 진공처리실에 개페장치를 개재하여 연이어 통하게 된 거의 다각형의 옮겨싣는실과, 이 옮겨싣는실에 개폐장치를 개재하여 연이어 통하게 된 적어도 하나의 로드록실크실과, 상기 옮겨싣는실내에 배치되고, 상기 로드록크실내로부터 피처리체를 수납하여 각각의 진공처리실내로 반입하고 동시에 진공처리실내의 처리가 완료된 피처리체를 꺼내어 로드록크실내로 되돌리기 위하여 선회가 가능하고 또한 신축운동이 가능한 핸드부를 가지는 반송아암을 구비하여, 여기서, 복수의 프로세스의 종류 또는 순서가 변경될 때, 이 프로세스의 변경에 대응하여 진공처리실의 갯수가 증감되고, 옮겨싣는실은 진공처리실의 갯수의 증감에 대응하여 형상ㆍ크기가 변경되며, 반송아암은 필요에 따라서 옮겨싣는실의 형상ㆍ크기에 대응하여 핸드부의 길이가 변경되고, 그 이외의 로드록크실과 핸드부를 제외한 반송아암은 어느 것이나 아무런 변경이 되지 않으며, 상기 반송아암은, 핸드부 길이의 변경에 의해, 최대 갯수의 진공처리실에 대응하여 설치된 최소형상의 옮겨싣는실내에서 선회할 수 있는 최소 선회반경과, 최대 갯수의 진공처리실에 따른 최대형상의 옮겨싣는실내로부터 각진공처리실내로 피처리체를 반입 반출할 수 있는 최대 신장거리를 가지는 멀티 챔버 처리시스템.
  2. 제1항에 있어서, 옮겨싣는실내의 반송아암의 선회ㆍ신축동작에 대하여 간섭하지 않는 정위치에 배치되고, 반송아암으로부터 피처리체를 받아들여서 위치맞춤하는 얼라이먼트기구를 더 구비한 멀티 챔버 처리시스템.
  3. 제2항에 있어서, 2개의 로드록크실은, 각각의 중심선이 반송아암의 선회축 중심을 향하도록 서로 적당한 열린 각도로써 병렬 배치되고, 상기 얼라인먼트기구는, 옮겨싣는실내의 반송아암의 최소 선회반경보다 약간 직경방향의 바깥쪽이며, 또 그 양 로드록크실의 중심선의 중간 위치로 되어 있는 멀티 챔버 처리시스템.
  4. 제3항에 있어서, 피처리체의 반송루트ㆍ거리가 미리 기억된 반송아암의 제어수단을 더 구비하고, 여기서, 복수의 프로세스의 종류 또는 순서가 변경될 때에는, 변경된 진공용기의 갯수의 정보, 변경된 옮겨싣는실의 정보, 핸드부의 길이의 정보가 제어수단으로 입력되는 멀티 챔버 처리시스템.
  5. 제4항에 있어서, 옮겨싣는실은, 그 상면에 옮겨싣는실내를 밀폐하기 위한 커버를 가지며, 이 커버는, 적어도 2개로 분할되어 있고, 옮겨싣는실은 이들의 분할체에 의해 밀폐되는 멀티 챔버 처리시스템.
  6. 제5항에 있어서, 반송아암은, 2개의 피처리체를 얹어 놓기 위한 2개의 핸드부를 가지고 있는 멀티 챔버 처리시스템.
  7. 피처리체를 감압처리하는 복수의 감압 프로세스 처리실과, 상기 복수의 감압 프로세스처리실과 제1개폐장치를 개재하여 접속되고, 감압하에서 상기 피처리체가 반송되는 감암 옮겨삳는실과, 상기 감암 옮겨싣는실과 제2개폐장치를 개재하여 접속되고, 대기와의 사이에 제3개폐장치를 가지는 로드록크실과, 상기 감압 옮겨싣는 살내에 배치되어 상기 각 감압 프로세스처리실 및 상기 로드록크실에 대하여 상기 피처리체를 반입 반출하는 제1반송수단과, 상압 이상의 압력하에서 복수매의 상기 피처리체를 수용하는 용기와, 상압 이상의 압력하에서 상기 로드록크실에 대한 반입전 또는 반입후의 상기 피처리체가 처리되는 상압 프로세스처리부와, 상기 용기, 로드록크실 및 상압 프로세스 처리부에 대하여 상압 이상의 압력하에서 상기 피처리체를 반입 반출하는 제2반 송수단을 구비하는 멀티 챔버 처리시스템.
  8. 제7항에 있어서, 상기 상압 프로세스처리부는, 상기 로드록크실로 반입되기 전의 상기 피처리체를 세정하는 프로세스처리를 실시하는 멀티 챔버 처리시스템.
  9. 제7항에 있어서, 상기 상압 프로세스처리부는, 상기 로드록크실로부터 반출된 상기 피처리체에서, 상기 감압 프로세스처리부에서의 처리시에 발생한 불순물을 제거하는 프로세스처리를 실시하는 멀티 챔버 처리시스템.
  10. 제7항에 있어서, 상기 감압 프로세스처리부 및 상기 상압 프로세스처리부는, 상기 피처리체를 낱장식으로 프로세스처리하는 것이며, 상기 로드록크실은, 복수매의 상기 피처리체를 수용하는 용량을 구비하고 있는 멀티 챔버 처리시스템.
  11. 제7항에 있어서, 상기 제2반송수단에 의해 반송되는 상기 피처리체의 반송분위기는, 대기압보다도 높은 양압으로 되고, 상기 로드록크실은, 상기 제2반송수단에 의해 상기 피처리체가 주고 받았을 때에, 그 내부압력을 상기 반송분위기와 동일압력 또는 그보다 양압으로 설정하는 가스도입수단을 구비하고 있는 멀티 챔버 처리시스템.
  12. 감압하에서 피처리체를 반송하는 제1반송수단의 주의에 복수의 감압 프로세스처리실을 가지는 감압처리장치와, 상압 이상의 압력하에서 상기 피처리체를 반송하는 제2반송수단의 주위에, 상압 이상의 압력하에서 상기 피처리제를 처리하는 상압 프로세스 처리부를 갖는 상압처리장치와, 상기 제1 또는 제2반송수단에 의해 상기 피처리체가 반입되는 공간을 연결하고, 대기-진공 사이에서 분위기를 치환하기 위한 로드록크실을 구비하고 있는 멀티챔버 처리시스템.
  13. 감압하에서 피처리체를 반송하는 제1반송수단의 반송범위내에서 상기 피처리체를 주고 받기가 가능한 복수의 감압 프로세스처리부를 가지는 감압처리장치와, 상압 이상의 압력하에서 상기 피처리체를 반송하는 제2반송수단의 반송범위내에 상기 피처리체를 주고 받게 되고, 상압 이상의 압력하에서 상기 피처리체를 처리하는 상압 프로세스처리부를 포함하는 상압처리장치와, 상기 제1, 제2반송수단의 반송범위가 오버랩하는 위치에 배치되고, 상기 제1 또는 제2반송수단에 의해 상기 피처리체가 반입하는 공간을 연결하여, 대기-진공 사이에서 분위기를 치환하기 위한 로드록크실을 구비하는 멀티 챔버 처리시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950012843A 1994-05-23 1995-05-23 멀티 챔버 처리시스템 KR100274308B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110616406A (zh) * 2018-11-29 2019-12-27 爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司 磁控溅射镀膜机

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4471487B2 (ja) * 2000-11-24 2010-06-02 株式会社アルバック 真空処理装置、真空処理方法
KR101118914B1 (ko) * 2004-03-08 2012-02-27 주성엔지니어링(주) 진공펌핑 시스템 및 방법과 이를 이용하는 공정장치
JP5977720B2 (ja) * 2013-08-27 2016-08-24 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法、基板処理システムおよび記憶媒体
US9929034B2 (en) * 2015-09-03 2018-03-27 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Substrate transfer device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5186718A (en) * 1989-05-19 1993-02-16 Applied Materials, Inc. Staged-vacuum wafer processing system and method
JP3486462B2 (ja) * 1994-06-07 2004-01-13 東京エレクトロン株式会社 減圧・常圧処理装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110616406A (zh) * 2018-11-29 2019-12-27 爱发科豪威光电薄膜科技(深圳)有限公司 磁控溅射镀膜机

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