KR950030226A - 포토마스크 제작방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 반도체 제조공정 완료후 웨이퍼에 패턴이 형성된 소정칩의 비저항을 측정하기 위한 탐침의 정확한 정렬위치를 설정하여 주는 시험용 탐침의 정렬위치를 설정하기 위한 포토마스크 제작방법에 관한 것으로, 상기 금속패드(1)상의 소정위치에 소정크기를 갖는 다수의 포토마스크(2)를 형성하여 그의 중심으로부터 인출된 연장선의 교차점으로 상기 탐침의 정렬위치(3)를 설정하는 단계를 형성하여 포토마스크 패턴을 금속패드에 형성하므로서 탐침의 정확한 정렬위치를 쉽게 알 수 있을 뿐만 아니라, 특정탐침의 비정렬위치도 쉽게 인지할 수 있는 효과가 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2C도는 본 발명에 의한 시험용 탐침의 정렬 위치를 설정하기 위한 포토마스크의 제작방법의 일실시예시도.
Claims (1)
- 제조공정이 완료된 반도체 칩의 비저항을 측정하기 위하여 상기 반도체 칩의 면에 부착된 소정형상으로 형성된 금속패드(1)상의 접점위치에 탐침을 정확히 정렬시키도록 하는 시험용 탐침의 정렬위치를 설정하기 위한 포토마스크의 제작방법에 있어서, 상기 금속패드(1)상의 소정위치에 소정크기를 갖는 다수의 포토마스크(2)를 형성하여 그의 중심으로부터 인출된 연장선의 교차점으로 상기 탐침의 정렬위치(3)를 설정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 시험용 탐침의 정렬위치를 설정하기 위한 포토마스크 제작방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940007102A KR950030226A (ko) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 포토마스크 제작방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940007102A KR950030226A (ko) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 포토마스크 제작방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950030226A true KR950030226A (ko) | 1995-11-24 |
Family
ID=66677397
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940007102A KR950030226A (ko) | 1994-04-04 | 1994-04-04 | 포토마스크 제작방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950030226A (ko) |
-
1994
- 1994-04-04 KR KR1019940007102A patent/KR950030226A/ko not_active Application Discontinuation
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Legal Events
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| WITN | Withdrawal due to no request for examination |