KR950019838A - 칼러 액정 디스프레이용 레지스트 조성물 및 이를 이용한 색필터층 제조방법 - Google Patents

칼러 액정 디스프레이용 레지스트 조성물 및 이를 이용한 색필터층 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 TN-LCD나 TFT-LCD등의 액정디스프레이의 칼러화에 필요한 필요한 색필터 제조에 사용되는 감광성 레지스트 조성물 및 이를 이용한 색필터층의 제조 방법에 관한 것으로, 본 발명의 감광성 레지스트 조성물은 글리시딜형의 에폭시기를 함유하며, 카르복시기를 지닌 아크릴 모노머를 함유하며, 산가가 75-90 사이에 아크릴 공중합체 수지에 3개 이상의 관능기를 지닌 아크릴모노머를 광가교제로 사용하며, 트리아진 유도체에 광개시제를 일반의 광개시제에 5-40 중량% 혼합한 것을 아크릴공중합체 1중량부에 대하여 0.1-0.5중량부 사용하며, 기타 유기안료를 중감제, 분산제와 같은 첨가제와 함께 유기용매에 미세분산시켜서 제조된 것으로서, 이러한 감광성 레지스트 조성물은 포토리소그라피공법 등에 의해 색필터층 제조에 이용된다.

Description

칼러 액정 디스프레이용 레지스트 조성물 및 이를 이용한 색필터층 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 적,녹,청색 칼라의 UV분광 특성도,
제2도는 적,녹,청색 칼라의 CIE분광 특성도,
제3도는 TN형 칼라 액정 모듈 단면구조도,
제4도는 색필터층 제조 공정도,
제5도는 TET형 칼라 액정 모듈 단면구조도.

Claims (6)

  1. 글리시딜형의 에폭시기를 함유하고, 카르복시기를 지닌아크릴 모노머를 함유하며, 산가 75-90사이에 있는 하기 일반식(Ⅱ)으로 표현되는 아크릴 공중합수지에
    3 또는 4이상의 관능기를 지닌 아크릴 모노머를 광가교제로 사용하며, 하기 일반식(Ⅰ)로 표현되는 트리아진 유도체의 광개시제를 일반의 광개시제에
    5-40중량% 혼합한 것을 아크릴공중합체 1중량부에 대하여 0.1-0.5중량부 사용하고, 유기안료를 증감제, 분산제와 같은 첨가제가 함께 유기용매에 미세분산시켜서 제조됨을 특징으로 하는 칼라액정 디스프레이용 레지스트 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 아크릴 공중합수지는 중량평균분자량이 15000-50000 사이에 있는 것을 사용함을 특징으로 하는 칼라액정 디스프레이용 레지스트 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 유기안료 분산액은 0.05-0.3μ의 크기로 필터링하여 사용됨을 특징으로 하는 칼라액정 디스프레이용 레지스트 조성물.
  4. 글리시딜형의 에폭시기를 함유하고, 카르복시기를 지닌 아크릴 모노머를 함유하며, 산가 75-90사이에 있는 하기 일반식(Ⅱ)으로 표현되는 아크릴 공중합수지에
    3 또는 4이상의 관능기를 지닌 아크릴 모노머를 광가교제로 사용하며, 하기 일반식(Ⅰ)로 표현되는 트리아진 유도체의 광개시제를 일반의 광개시제에
    5-40중량% 혼합한 것을 아크릴공중합체 1중량부에 대하여 0.1-0.5중량부 사용하고, 유기안료를 증감제, 분산제와 같은 첨가제가 함께 유기용매에 미세분산시켜서 제조된 레지스트 조성물을 유리기판에 1-2㎛두께로 스핀코팅한 후, 80-90℃에서 5-10분 동안 프리베이킹하고 UV노광기에서 광량을 20-80mJ/cm2으로 하여 노광시킨후, 알카리 현상액으로 60-120초 동안 현상시키고 포스트 베이킹하여 제조됨을 특징으로 하는 칼라액정 디스프레이용 색필터층 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 유리기판은 이미 일정한 규격의 흑색매트릭스가 작성되어 있는 유리기판임을 특징으로 하는 칼라액정 디스프레이용 색필터층 제조방법.
  6. 제4항 및 제5항에 있어서, 색필터층은 TN-LCD 및 TFT-LCD에 사용되는 것임을 특징으로 하는 칼라액정 디스프레이용 색필터층 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930027254A 1993-12-10 1993-12-10 칼라 액정 디스프레이용 레지스트 조성물 및 이를 이용한 색필터층 제조방법 KR970002980B1 (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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