KR950013329A - 플라즈마 발생열 제거방법 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 플라즈마 발생열 제거방법에 관한 것으로, 플라즈마 공정장치를 이용한 반도체공정중 플라즈마 발생열에의해 샘플이 대미지를 입어 공정의 실폐를 가져오는 문제점을 해결하기 위해 반응로의 내,외부에 걸쳐 히트튜브를 일체형으로 설치하여, 히트튜브의 일부분은 플라즈마 발생열에 노출되도록 하고, 일부분은 반응로 외부에 위치하게 함으로써, 히트튜브의 열평형특성에 의해 반응로내의 플라즈마 발생열이 제거되도록 한 방법이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명의 플라즈마 반도체 공정장비의 개략적인 구성도,
제3도는 본 발명에 의한 열이동 경로도,
제4도는 히트튜브 구조도.
Claims (2)
- 플라즈마 공정장치의 반응로(1)내부 하분전극(4)의 테두리에 접촉되고, 반응로(1) 내,외부에 걸쳐 일체형으로 설치되는 히트튜브(6)의 외부온도를 조절하여 플라즈마에의해 발생되는 반응로(1) 내부의 온도를 제거함을 특징으로 하는 플라즈마 발생열 제거방법.
- 제1항에 있어서, 히트튜브(6)는 반응로(1)의 내벽에 접하여 설치함을 특징으로 하는 플라즈마 발생열 제거방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930022134A KR950013329A (ko) | 1993-10-23 | 1993-10-23 | 플라즈마 발생열 제거방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019930022134A KR950013329A (ko) | 1993-10-23 | 1993-10-23 | 플라즈마 발생열 제거방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950013329A true KR950013329A (ko) | 1995-05-17 |
Family
ID=66824746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019930022134A KR950013329A (ko) | 1993-10-23 | 1993-10-23 | 플라즈마 발생열 제거방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950013329A (ko) |
-
1993
- 1993-10-23 KR KR1019930022134A patent/KR950013329A/ko not_active Application Discontinuation
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