KR950027974A - 저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법 - Google Patents
저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 저압화학기상증착(Low Press Chemical Vapor Deposition; 이하 LPCVD라 칭함)장비를 이용한 공정시 반응실벽에 증착되어 균열, 분해됨으로 인해 오염을 유발시키는 오염원을 제거하는 저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법에 관한 것으로, 반응실 내에 부유하는 오염원이 산호와 반응해 안정화되도록 함으로써 반응실 내의 청정도를 높일 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (1)
- 공정 대기상태에서 반응실 내부를 소정가스를 이용한 정화(purge) 및 펌핑을 통해 안정화시키는 저압화학기상증착(Low Press Chemical Vapor Deposition)장비의 반응실 오염원 제거방법에 있어서, 상기 주입가스에 O2가스가 포함되는 것을 특징으로 하는 저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940004875A KR950027974A (ko) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940004875A KR950027974A (ko) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR950027974A true KR950027974A (ko) | 1995-10-18 |
Family
ID=66689982
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940004875A KR950027974A (ko) | 1994-03-11 | 1994-03-11 | 저압화학기상증착 장비의 반응실 오염원 제거방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR950027974A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980076204A (ko) * | 1997-04-08 | 1998-11-16 | 윤종용 | 저압 기상 증착 장치의 폴리 실리콘 안정화 방법 |
-
1994
- 1994-03-11 KR KR1019940004875A patent/KR950027974A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR19980076204A (ko) * | 1997-04-08 | 1998-11-16 | 윤종용 | 저압 기상 증착 장치의 폴리 실리콘 안정화 방법 |
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