KR950008616A - 열가소성 수지조성물 - Google Patents

열가소성 수지조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR950008616A
KR950008616A KR1019940022031A KR19940022031A KR950008616A KR 950008616 A KR950008616 A KR 950008616A KR 1019940022031 A KR1019940022031 A KR 1019940022031A KR 19940022031 A KR19940022031 A KR 19940022031A KR 950008616 A KR950008616 A KR 950008616A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
hydrogen
carbon atoms
alkyl group
formula
Prior art date
Application number
KR1019940022031A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100324087B1 (ko
Inventor
타카시 사나다
히로시 하기모리
테쭈오 야마구치
모토히코 사미조
Original Assignee
수다 히데아키
수미토모카가쿠코오교오 카부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP21779393A external-priority patent/JP3324216B2/ja
Priority claimed from JP14967294A external-priority patent/JP3412259B2/ja
Application filed by 수다 히데아키, 수미토모카가쿠코오교오 카부시키가이샤 filed Critical 수다 히데아키
Publication of KR950008616A publication Critical patent/KR950008616A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100324087B1 publication Critical patent/KR100324087B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L71/08—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives
    • C08L71/10—Polyethers derived from hydroxy compounds or from their metallic derivatives from phenols
    • C08L71/12—Polyphenylene oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432—Six-membered rings
    • C08K5/3435—Piperidines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477—Six-membered rings
    • C08K5/3492—Triazines

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Hydrogenated Pyridines (AREA)

Abstract

본 발명은 a) 폴리페닐렌에테르수지 100중량부에, b) 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)로 표시되는 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페니딜화합물의 적어도 1종을 0.001∼15중량부로 첨가하여 이루어지는,
(식중, R1은 수소원자, 산소원자(옥시라디칼), 수산기, 알킬기, 시클로알킬기, 알릴기, 벤질기, 아릴기, 알카노일기, 알케노일기, 알킬옥시기, 시클로알킬옥시기를 표시한다.
R2은 수소, 알킬기 또는를 표시한다. 여기서 X는 직접결합, -0- 또는 -NH-를 표시하며, R4는 직접결합, 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 아킬리덴기, 알리렌기를 표시하며, R5은 수소원자, 알킬기, 이릴기,
를 표시한다. n은 1∼4의 정수, p는 2∼6의 정수, R3은 n값의 유기기를 표시한다)가공시 안정성을 향상한 열가소성수지조성물을 제공한다.

Description

열가소성 수지조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 실시예1에 있어서의 혼련시 토오크의 시간변화를 나타내는 도면.
제2도는 비교예1에 있어서의 혼련시 토오크의 시간변화를 나타내는 도면.

Claims (23)

  1. a) 폴리페닐렌에테르수지 100중량부에, b) 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)로 표시되는 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페니딜화합물의 적어도 1종을 0.001∼15중량부로 첨가하여 이루어지는 열가소성수지조성물.
    (식중, R1은 수소원자, 산소원자(옥시라디칼), 수산기, 알킬기, 시클로알킬기, 알릴기, 벤질기, 아릴기, 알카노일기, 알케노일기, 알킬옥시기, 시클로알킬옥시기를 표시한다.
    R2은 수소, 알킬기 또는를 표시한다. 여기서 X는 직접결합, -0- 또는 -NH-를 표시하며, R4는 직접결합, 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 아킬리덴기, 알리렌기를 표시하며, R5은 수소원자, 알킬기, 이릴기,
    를 표시한다. n은 1∼4의 정수, p는 2∼6의 정수, R3은 n값의 유기기를 표시한다)
  2. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)에 있어서, n=1이며, R3은 수소원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케본기 벤질기, 아릴기 또는R7를 표시하며, 여기서 Y는 직접결합, -O- 또는 -NH8-를 표시하며, R6는 직접결합, 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 알킬리덴기, 아릴렌기를 표시하며, R7, R8은 서로 독립하여 수소원자, 수산기, 알킬기, 아릴기
    인 열가소성 수지조성물.
  3. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)에 있어서, n=2이며, R3은 알킬렌기, 또는이며, 여기서 R9는 직접결합, 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 알킬리덴기, 아릴렌기인 열가소성 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)에 있어서, n=3이며, R3은 다음식
    으로 표시되는 기인 열가소성 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 성분 b)의 일반식(Ⅰ) 또는 (Ⅱ)에 있어서, n=4이며, R3는
    으로 표시되는 기인 열가소성수지조성물.
  6. 제1항에 있어서, 성분 b)의 화합물이 일반식(Ⅰ)에서 R1, R2은 수소 또는 탄소수 1∼8의 알킬기이며, n은 1 또는 2로 표시되며, (1) n=1인 경우 R3은 수소원자, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기 또는를 나타내며, Y는 직접결합, -O- 또는 -NH8-를 표시하며, R6는 직접결합, 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 알킬리덴기, 아릴렌기를 표시하며, R7, R8은 서로 독립하여 수소원자, 탄소수 1∼18의 알킬기, 탄소수 6∼21의 아릴기.
    를 나타내며, (2) n=2인 경우 R3은를 나타내며, R9는 직접결합, 탄소원자수 1∼10의 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 알킬리덴기, 아릴렌기를 표시하는 열가소성수지조성물.
  7. 제1항에 있어서, 성분 b)의 일반식(Ⅰ)로 표시되는 적어도 1개의 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피레리딜화합물이 n=2이고, R3은 알킬렌기인 열사소성수지조성물.
  8. 제1항에 있어서, 성분 b)의 일반식(Ⅰ)로 표시되는 적어도 1개의 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피레리딜화합물이 n=2이고, R2은 수소이고, R3은 알킬렌기인 열사소성수지조성물.
  9. 제1항에 있어서, 성분 b)의 일반식(Ⅰ)로 표시되는 적어도 1개의 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피레리딜화합물이 n=2이고, R1은 수소 또는 메틸기이고, R2은 수소이고, R3은 헥사메틸렌기인 열사소성수지조성물.
  10. 제1항에 있어서, 성분 b)의 일반식(Ⅰ)로 표시되는 적어도 1개의 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피레리딜화합물이 n=2이고, R2은 알킬기이고, R3은 알킬렌기인 열사소성수지조성물.
  11. 제1항에 있어서, 성분 b) 일반식(Ⅰ)로 표시되는 적어도 1개의 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜화합물이 n=2이며, R2는로 표시되며 여기서 X는 직접결합, -O- 또는 -NH-를 표시하며, R4는 직접결합, 직쇄 또는 분지알킬렌기 또는 알킬리덴기, 아릴렌기를 표시하며, R5은 수소원자, 알킬기, 아릴기,
    이며, R3은 알킬렌기인 열가소성수지조성물.
  12. a) 폴리페닐렌에트르수지 100중량부 및 b) N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-α, ω-알킬렌디아민화합물 0.001∼15중량부로 이루어지는 열가소성수지조성물.
  13. 제12항에 있어서, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-α, ω-알킬렌디아민화합물이 일반식(ⅰ)∼(ⅳ)로 표시되는 적어도 1개의 화합물인 열가소성수지조성물.
    (식중, R10은 수소, 알킬기 또는 알킬옥시기이며, R11은 알킬렌기, R12은 알킬기 또는 알콕시기, R13은 수소알킬기이며, Z는 O 또는 NH 및 m은 1 또는 2의 정수를 나타낸다.)
  14. 제13항에 있어서, 일반식(ⅰ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소 또는 메틸기, 및 R11은 헥사메틸렌기인 열가소성수지조성물.
  15. 제13항에 있어서, 일반식(ⅰ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소 또는 메틸기, 및 R11은 헥사메틸렌기인 열가소성수지조성물.
  16. 제13항에 있어서, 일반식(ⅱ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소, 수산기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 탄소수 1∼10의 알킬옥시기 및 R11은 탄소수 2∼8의 알킬렌기인 열가소성수지조성물.
  17. 제13항에 있어서, 일반식(ⅱ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소 또는 메틸기인 열가소성수지조성물.
  18. 제13항에 있어서, 일반식(ⅲ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소, 수산기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 탄소수 1∼10의 알킬옥시기 및 R11은 탄소수 2∼8의 알킬렌기, R12탄소수 1∼17의 알킬기 또는 탄소수 1∼18의 알킬옥시기 및 R13은 수소 또는 탄소수 1∼17의 알킬기인 열가소성수지조성물.
  19. 제13항에 있어서, 일반식(ⅲ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소 또는 메틸기이며, m이 2인 열가소성수지조성물.
  20. 제13항에 있어서, 일반식(ⅳ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소, 수산기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 탄소수 1∼10의 알킬옥시기 및 R11은 탄소수 2∼8의 알킬렌기, R14은 수소, 수산기, 탄소수 1∼10의 알킬기 또는 1∼10의 알킬옥시기인 열가소성수지조성물.
  21. 제13항에 있어서, 일반식(ⅳ)로 표시되는 화합물이 R10은 수소 또는 메틸기이며, m이 2인 열가소성수지조성물
  22. 제1항에 있어서, 하기일반식(Ⅲ)으로 표시되는 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜화합물에 있어서,
    (식중 R1및 m은 상기한 정의와같고, R15은 수소 또는 알킬기이며, (1) n=1인
    경우 R16은 수소, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기, 벤질기, 알릴기 또는식중 R4Y 및 R6은 상기한 정의와 같고, (2) n=2인 경우 R16은식중 R4은 상기한 정의와 같고, (3) n=3인 경우 R16은
    및 (4) n=4인 경우 R16은
    를 나타내는 열가소성수지조성물.
  23. 제22항에 있어서, 하기 일반식(Ⅲ)으로 표시되는 4-아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜화합물에 있어서, R1은 수소 또는 탄소수 1∼8의 알킬기, R15은 수소 또는 탄소수 1∼18의 알킬기, n-1 또는 2이며, n=1인 경우 R16은 수소, 알킬기, 시클로알킬기, 알케닐기 또는식중 Y는 직접결합, -O- 또는 -NH8-를 표시하며, R4는 직접결합, 탄소수 1∼10의 직쇄 또는 분지알킬렌기, 탄소수 1∼10의 알킬리덴기 또는 아릴렌기를 표시하며 R8은 독립적으로 수소원자, 탄소수 1∼18의 알킬기, 탄소수 6∼21의 아릴기,
    및 n=2인 경우 R16은식중 R4는 직접결합, 탄소수 1∼10의 직쇄 또는 분지알킬렌기, 탄소수 1∼10의 알킬리덴기 또는 아릴렌기를 표시하는 화합물인 열가소성수지조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940022031A 1993-09-01 1994-09-01 열가소성수지조성물 KR100324087B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21779393A JP3324216B2 (ja) 1993-09-01 1993-09-01 熱可塑性樹脂組成物
JP93-217793 1993-09-01
JP14967294A JP3412259B2 (ja) 1994-06-30 1994-06-30 熱可塑性樹脂組成物
JP94-149672 1994-06-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR950008616A true KR950008616A (ko) 1995-04-19
KR100324087B1 KR100324087B1 (ko) 2002-11-08

Family

ID=26479484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940022031A KR100324087B1 (ko) 1993-09-01 1994-09-01 열가소성수지조성물

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5478873A (ko)
EP (1) EP0641822B1 (ko)
KR (1) KR100324087B1 (ko)
CA (1) CA2131047A1 (ko)
DE (1) DE69421863T2 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2730240A1 (fr) * 1995-02-07 1996-08-09 Atochem Elf Sa Stabilisation d'un polymere par un radical libre stable
FR2730241B1 (fr) 1995-02-07 1997-02-28 Atofina Procede de fabrication d'une composition comprenant un polymere vinylaromatique et un caoutchouc par polymerisation en presence d'un radical libre stable
NL1002433C2 (nl) * 1995-02-27 1996-11-20 Sumitomo Chemical Co Thermoplastische harssamenstelling.
NL1002434C2 (nl) * 1995-02-28 1996-11-20 Sumitomo Chemical Co Thermoplastische harssamenstelling.
DE69701824T2 (de) * 1996-02-27 2000-10-12 Harima Chemicals, Inc. Stabilisator und diesen enthaltende Kunstharzmassen
ATE504937T1 (de) * 1999-04-27 2011-04-15 Bio Rad Laboratories Probenhalter für ein gasphaseionenspektrometer
KR20060013632A (ko) 2002-05-17 2006-02-13 오쎄라 파마슈티걸즈, 인크. 백내장 및 다른 안질환 발병의 개선
ES2301819T3 (es) * 2002-05-30 2008-07-01 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Articulos estabilizados.
US7825134B2 (en) 2003-05-19 2010-11-02 Othera Holding, Inc. Amelioration of cataracts, macular degeneration and other ophthalmic diseases
US20060184771A1 (en) * 2005-02-11 2006-08-17 International Business Machines Mini-refresh processor recovery as bug workaround method using existing recovery hardware
CN110283116B (zh) * 2019-06-27 2022-09-09 绍兴瑞康生物科技有限公司 一种受阻胺类光稳定剂及制备与应用

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH626109A5 (ko) * 1976-05-11 1981-10-30 Ciba Geigy Ag
US4601839A (en) * 1978-06-19 1986-07-22 The B. F. Goodrich Company Stabilized polymers, novel stabilizers, and synthesis thereof
US4234699A (en) * 1978-11-29 1980-11-18 Ciba-Geigy Corporation Polymeric light stabilizers for plastics
US4500662A (en) * 1981-04-03 1985-02-19 The B. F. Goodrich Company Polysubstituted α-aminoacetamides
JPS58194931A (ja) * 1982-05-07 1983-11-14 Adeka Argus Chem Co Ltd 合成樹脂組成物
DE3408948C2 (de) * 1983-03-21 1995-07-27 Sandoz Ag 4-Amino-polyalkylpiperidinverbindungen
EP0134523A1 (en) * 1983-08-04 1985-03-20 General Electric Company Absorption of additives into polymer surfaces from solution
US4555538A (en) * 1983-12-22 1985-11-26 General Electric Company Compositions of polyphenylene ether resin and high impact polystyrene resin having improved ultraviolet light resistance
EP0146879A3 (en) * 1983-12-22 1986-01-02 General Electric Company Polyphenylene ether resin blends having improved ultraviolet light stability
DE3566897D1 (en) * 1984-01-13 1989-01-26 Gen Electric Compositions of polyphenylene ether resin and high impact polystyrene resin having improved ultraviolet light resistance
JPS60149646A (ja) * 1984-01-18 1985-08-07 Eng Plast Kk 耐光性を改良された熱可塑性樹脂組成物
AU573647B2 (en) * 1984-01-30 1988-06-16 General Electric Company Uv-stabilised polymer compositions
CA1279738C (en) * 1984-07-24 1991-01-29 Yuzo Maegawa Resin compositions stabilized with piperidine derivatives
JPH0678456B2 (ja) * 1985-03-04 1994-10-05 三菱瓦斯化学株式会社 安定化されたポリフエニレンエ−テル系樹脂組成物
JPH0618927B2 (ja) * 1985-04-17 1994-03-16 住友化学工業株式会社 合成樹脂用安定剤
US4665112A (en) * 1986-01-02 1987-05-12 General Electric Company Ultraviolet radiation stabilized polyphenylene ether resins
EP0233153B1 (de) * 1986-02-14 1995-12-06 Ciba-Geigy Ag Stabilisierung von Polyphenylenethern mit makrocyclischen Polyalkylpiperidinverbindungen
US4843116A (en) * 1986-03-17 1989-06-27 General Electric Company UV light stabilizer composition comprising cyclic aliphatic epoxy, UV screener, and polyalkyldipiperidine (HALS) compounds
NL8702473A (nl) * 1987-10-16 1989-05-16 Gen Electric Polymeermengsel met polyfenyleenether, sterisch gehinder amine en epoxyverbinding en daaruit gevormde voorwerpen.
US5306495A (en) * 1988-08-04 1994-04-26 Ciba-Geigy Corporation Compounds containing substituted piperidine groups for use as stabilizers for organic materials
JP2952707B2 (ja) * 1990-10-29 1999-09-27 共同薬品株式会社 イソシアヌル酸誘導体、その製造法および用途
US5141975A (en) * 1991-06-07 1992-08-25 General Electric Company Thermoplastic compositions containing hydrolytically stable phosphites
JP3218771B2 (ja) * 1992-05-13 2001-10-15 住友化学工業株式会社 ヒンダードピペリジン化合物による有機材料の安定化および該化合物の製造

Also Published As

Publication number Publication date
EP0641822B1 (en) 1999-12-01
EP0641822A1 (en) 1995-03-08
KR100324087B1 (ko) 2002-11-08
DE69421863D1 (de) 2000-01-05
CA2131047A1 (en) 1995-03-02
US5478873A (en) 1995-12-26
DE69421863T2 (de) 2000-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910020163A (ko) 표백 조성물
KR950008616A (ko) 열가소성 수지조성물
KR870005035A (ko) 안정제로서 유용한 치환된 페놀
KR900007965A (ko) 자기 윤활성(Self-Lubricating)열경화성 실리콘 고무 조성물
KR900009935A (ko) 액정 조성물
KR910003078A (ko) 윤활제 조성물
KR920005968A (ko) 모발 처리 조성물
MX9704449A (es) Compuestos de aminosilano en composiciones de caucho cargadas con silice.
KR930010125A (ko) 실리콘 고무조성물 및 실리콘 고무가공직물
KR890002198A (ko) 유기 규소 화합물
EP0764635A4 (en) DIPHENYLESULFONE DERIVATIVE AND RECORDING MATERIALS PRODUCED THEREFROM
KR900016388A (ko) 실온 경화성 오르가노폴리실록산 조성물
KR950003307A (ko) 포스파이트
KR920004503A (ko) 제진재료용 점탄성 수지조성물
KR900004820A (ko) 안정화된 합성수지조성물
KR890016074A (ko) 표면처리된 폴리오르가노시르세스키옥산 미분말
KR940011606A (ko) α,ω-알칸디페놀, 이를 함유하는 조성물 및 이들의 안정화제로서의 용도
KR890008589A (ko) 액정 조성물
KR910000947A (ko) 금속 안료 조성물
KR960014189A (ko) 안정화제로서 장애아민 측쇄를 함유하는 폴리에테르
GB2378952A (en) Stabiliser mixtures
KR910009837A (ko) 탄성중합체용 안정화제 혼합물
KR960017660A (ko) 광, 열 및 산화로부터 유기물질을 안정화시키기 위한 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 유도체
KR950032243A (ko) 올리고머성 지방족 hals 포스파이트 및 hals 포스포나이트, 이들을 함유하는 조성물 및 안정화제로서의 이들의 용도
KR890014692A (ko) 폴리오가노실록산 함유-올레핀 중합체 조성물 및 필름물질의 제조에 있어서 이의 용도 및 폴리오가노실록산

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20060126

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee