KR950008553A - 혐기적 불활성의 하이드로실란반응 촉매를 함유하는 경화성 조성물 및 이 조성물의 제조방법 - Google Patents

혐기적 불활성의 하이드로실란반응 촉매를 함유하는 경화성 조성물 및 이 조성물의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 산소분자 부재하에 억제되는 일종의 하이드로실란 반응 촉매를 사용하여 저장 안정적으로 제조되는, 알케닐 라디칼 함유 화합물(1) 및 규소-결합된 수소원자 함우 화합물(2)을 함유하는 일부의 경화성 조성물에 관한 것이다.
당해 조성물은 산소분자에 노출되지 않는 한 안정하고 산소분자에 노출될 경우 이들 성분을 함유하는 통상적인 조성물과 동일한 방법으로 경화된다.

Description

혐기적 불활성의 하이드로실란반응 촉매을 함유하는 경화성 조성물 및 이 조성물의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (11)

  1. A. 분자당 2개 이상의 에틸렌계 불포화 그룹 또는 아세틸렌계 불포화 그룹을 함유하는 제1화합물; B. 활성하이드로실란 반응 촉매의 존재하에 조성물을 경화시키는데 충분한 양의 분자당 2개 이상의 규소-결합된 수소 원자를 함유하는 제2화합물; 및 특징적으로 C. 산소의 존재하에 조성물의 경화를 촉진시키는데 충분한 양의, 배금족 금속을 함유하는 혐기적으로 억제되는 하이드로실란반응 촉매를 포함하는, 산소 부재하에서 경화 억제성을 나타내는 경화성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 혐기적으로 억제되는 촉매가 백금족 금속 및 이의 화합물로부터 선택되는 혐기적 활성의 하이드로실란반응 촉매(1)와 분자당 3개 이하의 규소-결합된 수소 원자를 함유하는 오가노하이드로겐실란, 오가노하이드로겐디실록산, 오가노하이드로겐폴리실란 및 오가노하이드로겐폴리실록산으로부터 선택되는 하나 이상의 유기 규소 화합물(2)과의 반응생성물이며, 이때 유기 규소 화합물의 농도가 산소 부재하에 상기 촉매의 활성을 억제하는데 충분하고, 유기 규소 화합물의 규소원자에 결합된 수소원자 이외의 다른 치환체가 1가 탄화수소 라디칼, 알콕시 그룹 및 실록산 단위로부터 선택되는데, 단 백금족 금속이 0가 상태이고, 유기 규소 화합물의 규소원자가 하나 이상의 규소-결합된 수소원자와 전혀 결합하지 않는 경우에는, 유기 규소 화합물의 수소 -치환된 규소 원자가 일반식(Ⅳ) 또는 (Ⅴ)로 나타내어지는 조성물.
    HSiR3 3(Ⅴ)
    상기식에서, X 및 Y는 각각 알킬 또는 SiR4 3이고, Z는 알킬, 알콕시 또는 OSiR4 3이고, R3는 알킬이고, R4는 각각 수소원자, 비치환되거나 치환된 탄화수소 라디칼, 알콕시 그룹 및 오가노실록산 그룹으로부터 선택되고 단, Z가 알킬인 경우, X 및 Y는 둘다 SiR4 3일 수는 없다.
  3. 제2항에 있어서, 혐기적 활성의 하이드로실란 반응 촉매가 백금, 로듐 및 백금과 로듐의 화합물로부터 선택되고, 유기 규소 화합물이 일반식(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 화합물 및 일반식(Ⅲ)의 단위를 포함하는 오가노하이드로켄폴리실록산으로부터 선택되는 조성물.
    R1 b(OR2)4-a-bSiHa(Ⅰ)
    (SiR1 2H)2O (Ⅱ)
    HcR1 d(OR2)eSiO(4-c-d-e)/2 (Ⅲ)
    상기식에서, R1은 에틸렌계 또는 아세틸렌계 불포화 그룹 비함유의 1가 탄화수소, 페닐 또는 3,3,3-트리플루오로프로필 라디칼이고, R2는 탄소수 1 내지 4의 알킬이고, a는 1, 2 또는 3이고; b는 0, 1, 2 또는 3이고; a와 b의 합은 4를 초과하지 않고; c는 1, 2 또는 3이고; d 및 e는 각각 0. 1 또는 2이고, 단, c, d 및 e의 합은 1, 2 또는 3이고, 하나 이상의 R1또는 R2치환체가 존재하는 경우, 이들 치환체는 동일하거나 상이하다.
  4. 제3항에 있어서,유기 규소 화합물이 에틸실란, n-헥실실란, 디에틸실란, 트리에틸실란, 메틸페닐실란, 메틸디메톡시실란, 트리메톡시실란 및 트리에톡시 실란으로부터 선택되고 혐기적으로 억제되는 하이드로실란반응 촉매중의 백금이 상기 촉매 총 중량의 0.1 내지 1%를 구성하며 백금이 조성물의 백만부당 10 내지 125중량부를 구성하는 조성물.
  5. 제2항에 있어서, 백금족 금속 함유 하이드로실란 반응 촉매에 대한 억제제를 함유하는 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 억제제가 아세틸렌계 탄화수소 및 알콜, 3급 아민, 및 말레산 및 푸마르산의 에스테르로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 조성물.
  7. 제5항에 있어서, 억제제가 산소분자의 존재하에 탈활성화되는 조성물.
  8. 제7항에 있어서, 산소-탈활성화 억제제가 (1) 포스핀옥사이드, 포스핀, 포스파이트, 포스피나이트, 포스폴렌 옥사이드 및 비스(디하이드로카빌포스피노)알칸으로부터 선택되는 유기 인 화합물; (2) 아민 N-옥사이드 및 (3) 설폭사이드로부터 선택되며, 이때 유기 인 호합물, 아민 옥사이드 및 설폭사이드상에 존재하는 유기 그룹이 1가 탄화수소 라디칼이고 촉매중에 존재하는 백금족 금속에 대한 상기 억제제의 몰비가 2 내지 200인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 제1화합물이분자당 둘 이상의 알케닐 라디칼을 함유하는 유기 중합체 및 폴리오가노실록산으로부터 선택되고, 제2화합물이 이 화합물의 규소 원자에 결합된 유기 그룹이 에틸렌계 불포화 그룹 비함유의 치환되거나 비치환된 1가 탄화수소인 유기 중합체 및 오가노하이드로겐폴리실록산으로부터 선택되고, 제1화합물의 분자당 존재하는 알케닐 라디칼의 평균 수와 제2화합물의 분자당 존재하는 규소-결합된 수소원자의 평균수의 합이 4보다 큰 조성물.
  10. 제2항에 있어서, 산소 부재하에 25℃에서 하루 이상 동안 안정한 조성물.
  11. 1) 산소부재하에 제1항의 경화성 조성물의 성분을 배합하는 단계; 및 2) 생성되는 조성물을 산소 분자 부재하에 저장하는 단계를 연속적으로 포함하는, 산소 분자 존재하에서 경화되고 산소 부재하에서는 적어도 부분적으로 경화가 억제되는 혐기적으로 안정한 오가노실록산 조성물의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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