KR940014690A - 디아미노피리딘 계열의 커플링성분을 가지는 아조 염료를 함유하는 염료혼합물 - Google Patents

디아미노피리딘 계열의 커플링성분을 가지는 아조 염료를 함유하는 염료혼합물 Download PDF

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Abstract

본 발명은 하기 일반식의 정색성 염료를 최소한 6개 포함하고 있는 신규한 염료혼합물 및 직물 재료를 염색 또는 인쇄하기 위한 이 염료혼합물의 용도, 및 티에닐아조피리딘 염료와 안트라퀴논 염료를 포함하고 있는 염료 혼합물과 직물 재료를 염색 또는 인쇄하기 위한 이 염료혼합물의 용도에 관한 것이다.
상기식에서, D는 아닐린, 아미노티오펜, 아미노티아졸, 아미노이소티아졸 또는 아미노벤즈 이소티아졸 계열로부터의 디아조 성분의 라디칼이고, X1과 X2라디칼중 하나는 아미노기이고 다른 하나는 하기식의 기이다.
상기식에서, L은 방해되지 않았거나 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해된 C2-C8-알킬렌이고, R1은 수소이거나 또는 비치환 또는 히드록실, C1-C4-알콕시 또는 C1-C8-알칸오일옥시에 의해 치환된 C1-C4-알킬이고, R2는 수소, C1-C4-알킬, 벤질, 페닐 또는 C1-C8-알카노일이다.

Description

디아미노피리딘 계열의 커플링성분을 가지는 아조 염료를 함유하는 염료혼합물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 정색성 염료를 최소한 6개 포함하고 있는 염료 혼합물.
    상기 식에서, D는 아닐린, 아미노티오펜, 아미노티아졸, 아미노이소티아졸 또는 아미노벤즈 이소티아졸 계열로부터의 디아조 성분의 라디칼이고, X1과 X2라디칼중 하나는 아미노기이고 다른 하나는 하기식의 기이다.
    상기식에서, L은 방해되지 않았거나 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해된 C2-C8-알킬렌이고, R1은 수소이거나 또는 비치환 또는 히드록실, C1-C4-알콕시 또는 C1-C8-알칸오일옥시에 의해 치환된 C1-C4-알킬이고, R2는 수소, C1-C4-알킬, 벤질, 페닐 또는 C1-C8-알카노일이다.
  2. 제1항에 있어서, D가 하기 식으로 표시되는 라디칼인 것을 특징으로 하는 염료혼합물:
    상기 식에서, Z1은 수소, 니트로, 시아노, 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐, 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소 원자에 의해 방해될수 있는 C1-C9-알킬아미노카르보닐, 트리플루오로메틸, C1-C4-알킬술포닐, 3-(C1-C4-알킬)-1,2,4-옥시디아졸-5-일 또는 3-페닐-1,2,4-옥사디아졸-5-일이고, Z2는 수소 염소 브롬, 사아노, 메틸, 메톡시, 에톡시, 페닐아조 또는 비치환 또는 메틸, 메톡시 또는 염소로 치환될 수 있는 벤조일이며, Z3은 수소, 시아노, 브롬 또는 에테르 작용기 중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐, 또는 함께 CO-NA1-CO의 라디칼을 형성하는 Z2와 Z3이고, 이때 A1은 수소 또는 C1-C4-알킬이며, Z4는 시아노, 포르밀, 니트로, 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있는 C1-C9알콕시카르보닐, 또는 비치환 또는 치환된 페닐아조 또는 식(A2는 시아노 또는 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소 원자에 의해 방해될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐이다)의 기이고, Z5는 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 비치환 또는 메틸, 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 페닐, 비치환 또는 메틸, 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 페닐, 비치환 또는 메틸, 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 벤질, C1-C4-알킬술포닐, 염소, 브롬 또는 에테르작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 차단될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐이며, Z6은 C1-C4-알킬, 비치환 또는 메틸 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 벤질, 시아노, 니트로, 에테르 작용기중의 하나 또는 산소원자에 의해 방해 될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐, 또는 C1-C4-알킬술포닐이고, Z7은 C1-C4-알킬, 비치환 또는 메틸, 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 페닐, 비치환 또는 메틸, 메톡시 또는 염소에 의해 치환된 벤질, 또는 C1-C4-알킬술포닐이며, Z8은 니트로, 시아노 또는 C1-C4-알킬술포닐이다.
  3. 제1항에 있어서, 6내지 12개의 식(Ⅰ)의 정색성 염료를 포함하는 염료 혼합물.
  4. 제1항에 있어서, D가 식(Ⅱb), (Ⅲc) 또는 (Ⅱd)의 라디칼인 것을 특징으로 하는 염료 혼합물.
  5. 직물재료를 염색 또는 프린트하기 위하여 제1항의 염료혼합물을 사용하는 방법.
  6. 하기 식 (Ⅸ)의 적색 아조 염료를 하나 또는 그 이상의 포함하고 있거나 하기 식(Ⅹ) 및/또는 (ⅩⅠ)의 황색 염료 및/또는 하기식(ⅩⅡ)의 청색 안트라퀴논 염료를 하나 또는 그 이상 포함하고 있는 염료 혼합물, 및 이 염료 혼합물을 포함하는 염료제제.
    상기 식에서, U1과 U2중 하나는 식:의 라디칼이고, 나머지는 식 NH-B-의 라디칼이며, 이중 L은 에테르 작용기중의 1 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있는 C2∼C8-알킬렌이고, R1은 히드록실, C1-C4-알콕시 또는 C1-C8-알카노일옥시에 의해 치환될 수 있는 수소 또는 C1-C4-알킬이며, R2는 수소, C1-C4-알킬, 벤질, 페닐 또는 C1-C8-알카노일이며, B는 수소, 히드록실로 치환될 수 있는 C1-C4-알킬, 식L-O-R2(L과 R2는 상기 정의된 바와같다)의 라디칼이고, U3은 수소 또는 C1-C4-알킬이며, Q1은 시아노, 포르밀, 니트로 또는 C1-C9-알콕시카르보닐로, 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있고, Q2는 수소, C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 메틸- 메톡시-또는 염소-치환될 수 있는 페닐, 메틸-, 메톡시- 또는 염소-치환될 수 있는 벤질, C1-C4-알킬술포닐, 염소, 브롬 또는 에테르 작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐이며, Q3은 시아노, 니트로, 에테르작용기중의 하나 또는 2개의 산소원자에 의해 방해될 수 있는 C1-C9-알콕시카르보닐, 또는 C1-C4-알킬술포닐이다.
    상기식에서, E1,E2,E3,E4및 E5는 독립적으로 각각 수소 C1-C4-알킬, C1-C4-알콕시, 할로겐 또는 페녹시이다.
    상기식에서, G1과 G2라디칼중 하나는 히드록실이고, 다른 하나는 히드록실, C1-C4-알킬 또는 C1-C4-알콕시에 의해 치환될 수 있는 페닐아미노이다.
  7. 제6항에 있어서, U1및 U2중 하나가 아미노 기이고, 다른 하나는 식:(식에서 L,R1및 R2는 각각 제6항에서 정의된 바와같다)의 라디칼의 것을 특징으로 하는 염료혼합물.
  8. 제6항에 있어서, 최소한 6개의 식(Ⅸ)의 아조 염료를 포함하는 염료 혼합물.
  9. 제6항에 있어서, 염료, Ⅸ,Ⅹ,ⅩⅠ 및/또는 ⅩⅡ의 총중량을 토대로 30중량% 까지의 하나 또는 그 이상의 셰이딩 염료를 포함하는 염료혼합물.
  10. 직물 재료를 염색 또는 프린트하기위한 제6항의 염료혼합물의 사용방법.
    ※ 참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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