KR940010997A - 저혈당증제 - Google Patents

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미쯔야 혼구
노부유끼 후나미
마사노리 이나마스
겐지 아라까와
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지바따 이찌로
다나베세이야꾸 가부시끼가이샤
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Abstract

활성 성분으로서 하기 일반식 [I]의 디히드로칼론 유도체 또는 그와 약학적으로 허용되는 염을 함유하는 저혈당증제;
[식중, Ar은 아릴기이고, R1은 수소원자 또는 아실기이며, R2는 수소원자, 아실기 또는 α-D-글루코피라노실기이거나 R1및 R2는 함께 결합하여 치환 메틸렌기를 형성할 수 있고, R3및 R4는 각각 수소원자 또는 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]

Description

저혈당증제
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (40)

  1. 활성 성분으로서 하기 일반식(I)의 디히드로칼콘 유도체 또는 그의 약학적으로 허용되는 염을 함유하는 저혈당증제;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R1은 수소원자 또는 아실기이며, R2는 수소원자, 아실기 또는 α-D-글루코피라노실기이거나 R1및 R2는 함께 결합하여 치환 메틸렌기를 형성할 수 있고, R3및 R4는 각각 수소원자 또는 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  2. 제1항에 있어서, 아릴기가 탄화수소 아릴기 또는 헤테로고리 아릴기이고, 아실기가 지방족 아실기 또는 방향족 아실기인 저혈당증제.
  3. 제2항에 있어서, 탄화수소 아릴기가 치환체를 임의로 갖는 페닐기 또는 치환체를 임의로 갖는 나프틸기이고, 헤테로고리 아릴기가, 임의로 치환체를 가질 수 있으며 헤테로원자로서 산소원자, 질소원자 또는 황원자를 함유하는 케테로고리기이고, 지방족 아실기가 치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일기 또는 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시카르보닐기이고, 방향족 아실기가 치환체를 임의로 갖는 벤조일기 또는 치환체를 임의로 갖는 페녹시카르보닐기인 저혈당증제.
  4. 제3항에 있어서, Ar이 치환체를 임의로 갖는 페닐기, 헤테로원자로서 산소원자, 질소원자 또는 황원자를 함유하는 혜테로고리기 또는 나프틸기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R1,R2,R3및 R4가 각각 수소원자인 저혈당증제.
  5. 제3항에 있어서, Ar이 치환체를 임의로 갖는 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R1,R3및 R4가 각각 수소원자이며 R2가 α-D-글루코피라노실기인 저혈당증제.
  6. 제3항에 있어서, Ar이 치환체를 임의로 갖는 페닐기이고, OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R1및 R2가 모두 수소원자이거나 함께 결합하여 치환 메틸렌기를 형성할 수 있고, R3및 R4가 각각 수소원자, 치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일기, 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시카르보닐기, 아릴카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기이며 단, Rl,R2,R3및 R4가 동시에 수소원자가 아닌 저혈당증제.
  7. 제3항에 있어서, Ar이 치환제를 임의로 갖는 페닐기이고, 식 OR5의 기가보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R1이 치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일기, 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시카르보닐기, 아릴카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기이고, R2,R3및 R4가 동일하거나 상이하며 각각 수소원자, 치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일기, 치환체를 임의로 갖는 저급 알록시카르보닐기, 아릴카르보닐기 또는 아릴옥시카르보닐기인 저혈당증제.
  8. 제3항 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 치환체가, 히드록시 치환체 또는 할로겐 치환체를 임의로 갖는 저급 알킬기; 저급 알콕시 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시기; 저급 알콕시 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시카르보닐옥시기; 저급 알킬 치환체를 갖는 아미노기; 보호 또는 비보호 아미노기; 저급 알콕시기, 저급 알콕시카르보닐기, 아미노기 및 페닐기로부터 선택된 1~2치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일옥시기; 할로겐원자; 히드록시기; 카르바모일기; 저급 알키티오기; 저급 알킬술피닐기; 저급 알킬술포닐기; 카르욕실기; 포르밀기; 시아노기; 디-저급 알킬카르바모일옥시기; 페녹시카르보닐옥시기; 페닐기; 페녹시기; 옥소기; 저급 알킬렌디옥시기; 또는 저급 알콕시 치환체를 임의로 갖는 벤조일옥시기인 저혈당증제.
  9. 제8항에 있어서, Ar이 페닐기, 저급알킬-치환 페닐기, 저급 알콕시-치환 페닐기, 저급 알콕시카르보닐옥시-치환 페닐기 또는 할로게노페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 이고, R1,R2,R3및 R4가 각각 수소원자인 저혈당증세.
  10. 제8항에 있어서, Ar이 할로겐원자, 히드록시기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알카노일옥시기 및 저급 알콕시카르보닐옥시기로부 선택된 기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R1및 R2가 모두 수소원자이고, R3및 R4가 각각, 히드록시기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시-저급 알콕시기, 벤질옥시카르보닐아미노기 및 아미노기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기, 벤조일기 또는 페녹시카르보닐기인 저혈당증제.
  11. 제10항에 있어서, Ar이 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 히드록시기, 또는 저급 알카노일기로 보호된 히드록시기이고, R1및 R2가 모두 수소원자이고, R3및 R4가 각각 저급 알카노일기, 저급 알콕시-치환 저급 알카노일기, 아미노-치환 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기인 저혈당증제.
  12. 제11항에 있어서, Ar이 저급 알콕시-치환페닐기이고, R3및 R4가 각각 저급 알콕시-치환저급 알카노일기의 저혈당증제.
  13. 하기 일반식 [I-A]의 디히드로칼콘 유도체 또는 그의 약학적으로 허용되는 염;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R1은 수소원자 또는 아실기이며, R2는 수소원자, 아실기 또는 α-D-글루코피라노실기이거나 R1및 R2는 함께 결합하여 치환 메틸렌기를 형성할 수 있고, R3및 R4는 각각 수소원자 또는 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이며, 단 Rl,R2,R3및 R4가 수소원자이고 OR5가 히드록시기일 경우, Ar1은 4-히드록시페닐기, 4-메톡시페닐기 및 페닐기를 제외한 기이다]
  14. 제13항에 있어서, 아릴기가 탄화수소 아릴기 또는 헤테로고리 아릴기이고, 아실기가 지방족 아실기 또는 방향족 아실기인 화합물.
  15. 제14항에 있어서, 탄화수소 아릴기가 치환체를 임의로 갖는 페닐기 또는 치환체를 임의로 갖는 나프틸기이고, 헤테로고리 아릴기가, 임의로 치환체를 가질 수 있으며 헤테로원자로서 산소원자, 질소원자 또는 황원자를 함유하는 헤테로고리기이고, 지방족 아실기가 치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일기 또는 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시카르보닐기이고, 방향족 아실기가 치환체를 임의로 갖는 벤조일기 또는 치환체를 임의로 갖는 페녹시카르보닐기인 화합물.
  16. 제15항에 있어서, 치환체가, 히드록시기 또는 할로겐 원자로 임의로 치환된 저급 알킬기; 저급 알콕시 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시기; 저급 알콕시 치환체를 임의로 갖는 저급 알콕시르보닐옥시기; 저급 알킬 치환체를 갖는 아미노기; 보호 또는 비보호 아미노기; 저급 알콕시기, 저급 알콕시카르보닐기, 아미노기 및 페닐기로 부터 선택된 1∼2치환체를 임의로 갖는 저급 알카노일옥시기; 할로겐원자; 히드록시기; 카르바모일기; 저급 알킬티오기; 저급 알킬술피닐기; 저급 알킬술포닐기 ; 카르복실기; 포르밀기; 시아노기; 디-저급 알킬카르바모일옥시기; 페녹시카르보닐옥시기; 페닐기; 페녹시기; 옥소기; 저급 알킬렌디옥시기; 또는 저급 알콕시 치환체를 임의로 갖는 벤조일옥시기인 화합물.
  17. 하기 일반식 [I-a]의 화합물;
    [식중, Ar1는 페닐기, 4-히드록시페닐기 및 4-메톡시페닐기를 제외한 아릴기이고; 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  18. 하기 일반식 [I-c]의 화합물;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R12는 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  19. 하기 일반식 [I-d]의 화합물;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R12는 아실기이고, R22는 아실기이며, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  20. 하기 일반식 [I-e]의 화합물;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R32및 R42는 각각 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  21. 하기 일반식 [I-f]의 화합물;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R14,R24,R34및R44는 동일하거나 상이하며 각각 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  22. 하기 일반식 [I-g]의 화합물;
    [식중, Ar은 아릴기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
  23. 제17항에 있어서, Ar2가 할로겐원자 또는 히드록시기에 의해 임의로 치환된 저급 알킬기; 탄소수 2~6의 저급 알콕시기; 저급 알콕시기로 치환된 저급 알콕시기; 저급 알콕시기로 임의로 치환된 저급 알콕시카르보닐옥시기; 저급 알킬기 또는 저급 알카노일기에 의해 치환된 아미노기; 저급 알콕시기, 저급 알콕시카르보닐기, 아미노기 및 페닐기로부터 선택된 1~2종의 기로 임의로 치환된 저급 알카노일옥시기; 할로겐 원자; 히드록시기; 카르바모일기; 저급 알킬티오기; 저급 알킬술피닐기; 저급 알킬술포닐기; 카르복실기; 포르밀기; 시아노기; 디-저급 알킬카르바모일옥시기; 폐녹시카르보닐옥시기; 저급 알킬렌디옥시기; 및 저급 알콕시기로 임의로 치환된 벤조일옥시기로부터 선택된 1~2종의 기로 치환된 페닐기; 푸릴기; 티에닐기; 피리딜기; 또는 나프틸기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기인 화합물.
  24. 제18항에 있어서, Ar이 할로겐원자, 히드록시기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알카노일옥시기 및 저급 알콕시카르보닐옥시기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R12가 히드록시기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시-저급 알콕시기, 카르복실기, 알카노일아미노기, 페녹시기, 폐닐기, 및 보호 또는 비보호 아미노기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알카노일기; 저급 알콕시기 및 페닐기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시카르보닐기; 벤조일기; 또는 폐녹시카르보닐기인 화합물.
  25. 제19항에 있어서, Ar이 할로겐원자, 히드록시기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알카노일옥시기 및 저급 알콕시카르보닐옥시기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R12및 R22가 각각, 히드록시기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시-저급 알콕시기, 카르복실기, 알카노일아미노기, 폐녹시기, 페닐기 및 보호 또는 비보호 아미노기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알카노일기; 저급 알콕시기 또는 페닐기로 임의로 치환된 저급 알콕시카르보닐기; 벤조일기; 또는 패녹시카르보닐기인 화합물.
  26. 제20항에 있어서, Ar이 할로겐원자, 히드록시기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알카노일옥시기 및 저급 알콕시카르보닐옥시기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R32및 R42가 각각, 히드록시기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시-저급 알콕시기, 카르복실기, 알카노일아미노기, 패녹시기, 페닐기 및 보호 또는 비보호 아미노기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시카르보닐기; 벤조일기; 또는 페녹시카르보닐기인 화합물.
  27. 제21항에 있어서, Ar이 할로겐원자, 히드록시기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알카노일옥시기 및 저급 알콕시카르보닐옥시기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R14,R24,R34및 R44가 각각, 히드록시기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시-저급 알콕시기, 카르복실기, 알카노일아미노기, 페녹시기, 페닐기 및 보호 또는 비보호 아미노기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알카노일기; 저급 알콕시기 및 페닐기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알콕시카르보닐기; 벤조일기; 또는 페녹시카르보닐기인 화합물.
  28. 제22항에 있어서, Ar이 페닐기, 저급 알킬페닐기, 할로게노페닐기, 히드록시페닐기 또는 저급 알콕시페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기인 화합물.
  29. 제23항에 있어서, Ar2가 C1-3알킬-페닐기, C2-3알콕시-페닐기, Cl-6알콕시-카르보닐옥시-페닐기 또는 할로게노페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기인 화합물.
  30. 제26항에 있어서, Ar이 할로겐원자, 히드록시기, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 저급 알카노일옥시기 및 저급 알콕시카르보닐옥시기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 보호 또는 비보호 히드록시기이고, R32및 R42가 각각, 히드록시기, 저급 알콕시기, 저급 알콕시-저급 알콕시기, 벤질옥시카르보닐아미노기 및 아미노기로부터 선택된 기에 의해 임의로 치환된 저급 알카노일기; 저급 알콕시카르보닐기; 벤조일기; 또는 페녹시카르보닐기인 화합물.
  31. 제30항에 있어서, Ar이 저급 알킬기 또는 저급 알콕시기로 임의로 치환된 페닐기이고, 식 OR5의 기가 히드록시기, 또는 저급 알카노일기에 의해 보호된 히드록시기이고, R32및 R42가 각각 저급 알카노일기, 저급 알콕시-치환 저급 알카노일기, 아미노-치환 저급 알카노일기, 저급 알콕시카르보닐기 또는 페녹시카르보닐기인 화합물.
  32. 제31항에 있어서, Ar이 저급 알콕시-치환 페닐기이고, R32및 R42가 각각 저급 알콕시-치환 저급 알카노일기인 화합물.
  33. 하기 일반식 [II]의 화합물을 환원 반응시킨 다음, 필요에 따라 보호기를 제거함을 특징으로 하는 하기 일반식 [I-A]의 디하이드로칼콘 유도체의 제조방법;
    [식중, Ar1은 아릴기이고, Rl은 수소원자 또는 아실기이고, R2는 수소원자, 아실기 또는 α-D-글루코피라노실기이거나 Rl및 R2가 함께 결합하여 치환 메틸렌기를 형성할 수 있고, R3및 R4는 각자 수소원자 또는 아실기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이며, 단 R1,R2,R3및 R4가 수소원자이고, 식 OR5의 기가 히드록시기일 경우, Ar1은 4-히드록시페닐기, 4-메톡시페닐기 및 페닐기를 제외한 기이다]
    [식중, Arl은 R1,R2,R3,R4및 OR5는 상기 정의한 바와 동일하다]
  34. 하기 일반식 [I-i]의 화합물을 아실화함을 특징으로 하는 하기 일반식[I-C]의 디히드로칼콘 유도체의 제조방법;
    [식중, Ar은 아릴기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R12는 아실기다]
    [식중, Ar 및 OR5는 상기 정의한 바와 동일하다]
  35. 하기 일반식 [I-j]의 화합물을 아실화한 다음 보호기를 제거함을 특징으로 하는 하기 일반식 [I-d]의 디히드로칼콘 유도체의 제조방법;
    [식중, Ar은 아릴기이고, R12및 R22는 각각 아실기이며, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이다]
    [식중, R33및 R43은 각각 히드록시기의 보호기이고, Ar 및 OR5는 상기 정의한 바와 동일하다]
  36. 하기 일반식 [I-k]의 화합물을 아실화한 다음 보호기를 제거함을 특징으로 하는 하기 일반식 [I-e]의 디히드로칼콘 유도체의 제조방법;
    [식중, Ar은 아릴기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R32및 R42는 각각 아실기이다]
    [식중, R13및 R23은 각각 히드록시기의 보호기이고, Ar 및 OR5는 상기 정의한 바와 동일하다]
  37. 하기 일반식 [I-1]의 화함물을 아실화함을 특징으로 하는 하기 일반식 (I-f)의 디히드로칼콘 유도체의 제조방법;
    [식중, Ar은 아릴기이고, 식 OR5의 기는 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, R14,R24,R34및 R44는 동일하거나 상이하며 각각 아실기이다]
    [식중, R15,R25R35및 R45의 1종 이상은 수소원자이고 나머지는 아릴기이며, Ar 및 OR5는 상기 정의한 바와 동일하다]
  38. 하기 일반식 [I-i]의 화합물을 하기 일반식 [III-a]의 화합물 또는 하기 일반식 [III-b]의 화합물과 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식 [I-h]의 디히드로칼콘 유도체의 제조방법;
    [식중, Ar은 아릴기이고, 식 OR5의 보호 또는 비보호 히드록시기 또는 저급 알콕시기이고, Bl및 B2는 동일하거나 상이하며 각각 수소원자, 페닐기, 저급 알카노일옥시기 또는 저급 알콕시기이거나 B1및 B2는 함께 결합하여 식=0의 기를 형성할 수 있다]
    [식중, Ar 및 OR5는 상기 정의한 바와 동일하다]
    [식중, X는 반응성 잔기이고, B1및 B2는 상기 정의한 바와 동일하다]
    [식중, B1는 상기 정의한 바와 동일하다]
  39. 당뇨병의 예방 또는 치료용 제13항의 화합물 또는 그의 약학적으로 허용되는 염.
  40. 약학적으로 허용되는 통상적인 담체 또는 희석제와 혼합하여 치료학적 유효량의 제13항의 화합물을 함유하는 약학적 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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