KR940009764A - 경사식 습식 식각조를 이용한 산화막 습식식각 방법 - Google Patents

경사식 습식 식각조를 이용한 산화막 습식식각 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 반도체 제조공정중 산화막 습식식각공정에 관한 것으로, 특히 산화막의 습식식각을 방해하는 기포를 제거하여 웨이퍼의 원하는 부분을 정확하게 식각할 수 있도록 한 것이다. 종래의 식각용액조의 캐리어 받침이 수평으로 이루어져 식각용액 순환시 발생된 기포가 웨이퍼에 유착되어 식각을 방해하는 문제점을 극복하기 위해 식각용액조의 캐리어 받침을 15°∼25° 기울이고 발생된 기포가 벽면을 타고 상부로 배출시킬 수 있는 반원구멍을 형성시킨 경사식 식각조를 이용하여 산화막을 식각하므로써 기포발생에 의한 식각 방해를 제거하고 수율향상과 신뢰성있는 제품을 제조할 수 있는 효과가 있다.

Description

경사식 습식 식각조를 이용한 산화막 습식식각 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 따른 식각용액조의 구성도

Claims (1)

  1. 웨이퍼 상에 산화실리콘층을 형성하고 감광액을 도포한 후 마스크와 웨이퍼를 정렬한 다음 자외선(U,V LIGHT)에 노광시킨 웨이퍼를 식각용액조에 정착시키는 방법에 있어서, 식각용액조의 캐리어 받침을 15°∼25° 기울이고 발생된 기포가 벽면을 타고 상부로 배출시킬 수 있는 반원구멍을 형성하고 상기 하단의 캐리어가 용액조벽면과 접촉되지 않도록 캐리어 받침을 형성시켜 식각에 의한 불량을 줄일 수 있는 것을 특징으로 하는 경사식 습식 식각조를 이용한 산화막 습식식각 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920019015A 1992-10-16 1992-10-16 경사식 습식 식각조를 이용한 산화막 습식식각 방법 KR950004973B1 (ko)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030056691A (ko) * 2001-12-28 2003-07-04 삼성전자주식회사 웨이퍼의 경사식각 장치 및 방법
KR20200042525A (ko) * 2017-09-26 2020-04-23 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 후방 산란 입자에 의한 매립된 피쳐의 검출

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