KR940002233A - 신규 제초제 - Google Patents

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KR940002233A
KR940002233A KR1019930013918A KR930013918A KR940002233A KR 940002233 A KR940002233 A KR 940002233A KR 1019930013918 A KR1019930013918 A KR 1019930013918A KR 930013918 A KR930013918 A KR 930013918A KR 940002233 A KR940002233 A KR 940002233A
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isoxazole
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메어리 크램프 스잔
람베르뜨 클라우드
모리스 존
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샤를르 브라쇼뜨
롱-쁠랑 아그리컬쳐 리미티드
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Abstract

하기식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체, 이들 유도체의 제초적 성질 및 작물을 보호하기 위한 그들의 이용이 기재된다.
[식중 : R은 수소원자 또는 기-CO2R4를 나타내고; R1은 알킬기, 할로알킬 또는 임의로 치환된 시클로알킬을 나타내며; R2는 할로겐원자, 알킬기, 할로알킬기 또는 -OR5로 치환된 알킬기, 또는 니트로, 시아노, CO2R4, -S(O)pR6, -O(CH2)rOR5및 -OR5에서 선택된 기를 나타내고; R3는 임의로 치환된 페닐기를 나타내며; X는 산소원자 또는 -S(O)q-를 나타내고; n은 0 또는 1~4의 정수를 나타내며; R4및 R5는 각기 알킬 또는 할로알킬을 나타내며; R6는 알킬, 할로알킬 또는 임의로 치환된 페닐을 나타내고; R7은 할로겐, 알킬 또는 할로알킬 또는 니트로, 시아노, OR5및 -S(O)pR6에서 선택된 기를 나타내며; p는 0,1 또는 2를 나타내고; q는 0,1 또는 2를 나타내며; r는 1,2 또는 3를 나타낸다.]

Description

신규 제초제
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (17)

  1. 하기식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체.
    [식중 : R은 수소원자 또는 기-CO2R4를 나타내고; R1은 하나 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄알킬기; 또는 하나이상의 기 R5또는 하나 이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 3~6의 시클로알킬기를 나타내며; R2는 할로겐원자; 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 하나이상의 기 OR5로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는 니트로, 시아노, CO2R4, -S(O)pR6, -O(CH2)rOR5및 -OR5에서 선택된 기를 나타내고; R3는 동일하거나 상이할 수 있는 1~5의 기 R7으로 임의로 치환된 페닐을 나타내며; X는 산소원자 또는 -S(O)q-를 나타내고; n은 0 또는 1~4의 정수를 나타내며; n이 1보다 클때 기 R2는 동일하거나 상이하고; 동일하거나 상이할 수 있는 R4및 R5는 각기 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄알킬기; 또는 동일하거나 상이할 수 있는 하나이상의 기 R7으로 임의로 치환된 페닐을 나타내고; R7은 할로겐원자; 또는 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 3이하의 직쇄 또는 측쇄알킬기; 또는 니트로, 시아노, OR5및 -S(O)pR6에서 선택기를 나타내며; p는 0,1 또는 2를 나타내고; q는 0,1 또는 2를 나타내며; 및 r은 1,2 또는 3를 나타낸다.]
  2. 제1항에 있어서, R6는 하나 이상의 할로겐 원자로 임의로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내는 화합물.
  3. 제1 또는 2항에 있어서, 치환기 -XR3또는 R2중의 하나가 벤조일 고리의 2-위치에 있는 화합물.
  4. 제1 또는 2항에 있어서, R1은 탄소수 1~3의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는 기 R5로 임의로 치환된 시클로프로필기를 나타내며; R2는 할로겐 원자; 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 하나이상의 기 OR5로 치환된 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는 시아노, CO2R4, -S(O)pR6, -O(CH2)rOR5및 -OR5에서 선택된 기를 나타내고; n은 0,1 또는 2를 나타내며; R4는 탄소수 6이하의 직쇄 또는 측쇄알킬기를 나타내고; R5는 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 1∼3의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내며; R6는 탄소수 1~3의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내는 화합물.
  5. 제1 또는 2항에 있어서, R2는 -S(O)pR6를 나타내고; p는 q중의 하나는 0를 나타내는 화합물.
  6. 제1 또는 2항에 있어서, R1은 메틸, 이소프로필, 1-메틸시클로프로필 또는 시클로프로필을 나타내고; R2는 할로겐원자; 또는 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 탄소수 3이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는 하나이상의 기 -OR5로 임의로 치환된 탄소수 1~3의 직쇄 또는 측쇄 알킬기; 또는 OR5및 -S(O)pR6에서 선택된 기를 나타내며; X는 -S(O)q-를 나타내고; n은 1 또는 2를 나타내며; R5는 하나이상의 할로겐원자로 임의로 치환된 메틸 또는 에틸기를 나타내고; 및 R6는 메틸 또는 에틸기를 나타내는 화합물.
  7. 제1 또는 2항에 있어서, 벤조일 고리의 5-, 6-, 또는 5- 및 6-위치가 비치환된 화합물.
  8. 제1 또는 2항에 있어서, R1은 시클로프로필기를 나타내고; R1은 시클로프로필기를 나타내고; R2은 할로겐원자 또는 메틸, 트리플루오로메틸, 메톡시 및 -S(O)pR6에서 선택된 기를 나타내며; n은 1 또는 2를 나타내고; X는 -S(O)q-를 나타내며; R4는 탄소수 3이하의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 나타내고; R7은 할로겐 원자 또는 메틸, 트리플루오로메틸, 니트로 및 -OR5에서 선택된 기를 나타내며; R5는 메틸 또는 에틸을 나타내고; 및 R6은 메틸을 나타내는 화합물.
  9. 제1항에 있어서, 5-시클로프로필-4-(2-페닐술페닐-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(2-페닐술포닐-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(2-펜옥시-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2-(3-클로로페닐술페닐)-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2-(2-클로로페닐술페닐)-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2-(4-클로로페닐술페닐)-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2-(3-클로로페닐술포닐)-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2-(4-클로로페닐술포닐)-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2-(4-클로로페닐술피닐)-4-트리플루오로메틸벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(4-클로로-2-페닐술페닐벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(4-클로로-2-페닐술페닐벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[4-클로로-2-(3-클로로페닐술페닐)벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[4-클로로-2-(3-클로페닐술페닐)벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[4-클로로-2-(3-클로페닐술페닐)벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[4-클로로-2-(3-메톡시페닐술페닐)벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[4-클로로-2-(3-메톡시페닐술피닐)벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[4-클로로-2-(3-메톡시페닐술포닐)벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-[2,4-비스(페닐술페닐)벤조일]이속사졸; 5-시클로프로필-4-(3,4-디클로로-2-페닐술페닐벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(3,4-디클로로-2-페닐술포닐벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(4-클로로-2-메틸술포닐-3-펜옥시벤조일)이속사졸; 5-시클로프로필-4-(4-클로로-2-메틸술포닐-3-페닐술페닐벤조일)이속사졸; 또는 5-시클로프로필-4-(2-메틸술포닐-3-페닐술페닐-벤조일)이속사졸인 화합물.
  10. 하기식(Ⅱ)의 화합물을 히드록실아민 또는 히드록시아민의 염과 반응시켜 R이 수소원자를 나타내는 것을 특징으로 하는 제1항에 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체의 제조방법.
    [식중, L은 이탈기이고 R1, R2, R3, X 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같다.]
  11. 하기식(Ⅲ)의 화합물을 적당한 유기금속 시약과 반응시켜 R이 수소원자를 나타내는 특징으로 하는 제1항에서 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체의 제조방법.
    [식중, Y는 카르복시기 또는 그의 반응성 유도체를 나타내고 R1은 제1항에서 정의된 바와 같다.]
  12. 하기식(Ⅳ)의 화합물을 식 R4O2CC(Z)=NOH(식중 Z은 할로겐 원자이고 R4는 제1항에서 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 R이 -CO2R4를 나타내는 것을 특징으로 하는 제1항에서 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체의 제조방법.
    [식중, P은 이탈기를 나타내고 R1, R2, R3, X 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같다.]
  13. 하기식(Ⅴ)의 화합물을 식 R4O2CC(Z)=NOH(식중 Z은 할로겐 원자이고 R4는 제1항에서 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 R이 -CO2R4를 나타내는 것을 특징으로 하는 제1항에서 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체의 제조방법.
    [식중, R1, R2, R3, X 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같다.]
  14. 하기식(Ⅳ)의 화합물을 식 R4O2CC(Z)=NOH(식중 Z은 할로겐 원자이고 R4는 제1항에서 정의한 바와 같다.)의 화합물과 반응시켜 R이 -CO2R4를 나타내는 것을 특징으로 하는 제1항에서 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체의 제조방법.
    [식중, R1, R2, R3, X 및 n은 제1항에서 정의한 바와 같다.]
  15. 농업적으로 허용 가능한 희석제, 또는 담체, 계면활성제 또는 그의 혼합물과 함께, 활성 성분으로 제초적 유효량의 제1항에서 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조일이속사졸 유도체를 함유함을 특징으로 하는 제초 조성물.
  16. 잡초가 번식하는 장소에 제1항에서 정의한 식(Ⅰ)의 4-벤조이속사졸 유도체의 제초적 유효량을 살포함을 특징으로 하는, 특정 장소에서 잡초의 성장을 억제하는 유도체.
  17. 제16항에 있어서, 장소가 작물의 성장을 위하여 사용된 지역 또는 사용될 지역이고 화합물이 1헥타아르당 0.01kg 내지 4.0kg의 살포율로 살포하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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