KR940002232A - 모노- 및 디아릴트리아진의 제조방법 - Google Patents

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바그너 마르쿠스
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베르너 발데크
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Abstract

하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 테트라히드로푸란중에서 마그네슘 금속과 반응시켜 상응하는 그리나드 시약을 형성하고, 또 생성한 용액을 Z가 -Cl이면 염화 시아누르 1몰당 1.05몰 이상의 그리나드 시약을, 또 Z가 일반식(Ⅰb)의 라디칼이면 2.1몰 이상의 그리나드 시약을 사용하여 하기 일반식(Ⅲ)의 염화 시아누르와 반응시키는 것을 포함하는 2,4-디클로로-6-아릴- 또는 2-클로로-4,6-디아릴-1,3,5-트리아진의 선택적 제조방법이 기재되어 있다.
상기식에서 R1및 R2는 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이고, X는 브롬 또는 염소 원자임.
일반식(Ⅰ)의 화합물은 유기 물질에 대한 광 안정화제로 공지된 2-(o-히드록시페닐)-4,6-디아릴-s-트리아진을 제조하는데 유리하게 사용될 수 있다.

Description

모노-및 디아릴트리아진의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 테트라히드로푸란중에서 마그네슘 금속과 반응시켜 상응하는 그리나드 시약을 형성하고, 또 생성한 용액을 Z가 -Cl이염 염화 시아누르 1몰 이상의 그리나드 시약을, 또 Z가 일반식(Ⅰb)의 라디칼이면 2.1몰 이상의 그리나드 시약을 사용하여 하기 일반식(Ⅲ)의 염화 시아누르와 반응시키는 것을 포함하는 하기 일반식(Ⅰa)의 단일 화합물의 제조방법:
    상기식에서 R1및 R2는 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이고, Z는 (Ⅰb)일반식(Ⅰb)의 라디칼 또는 -Cl이며, X는 브롬 또는 염소 원자임.
  2. 제1항에 있어서, R1이 수소 또는 메틸이고 또 R2가 수소 또는 C1-C4알킬인 방법.
  3. 제2항에 있어서, R1및 R2가 서로 독립해서 수소 또는 메틸인 방법.
  4. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 화합물이 클로로벤젠, 브로모벤젠, 4-클로로톨루엔, 4-브로모톨루엔, 2,4-디메틸브로모벤젠 및 2,4-디메틸클로로벤젠으로 구성된 군으로 부터 선정되는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 정제가 증류없이 실행되는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 테트라히드로푸란 이외에 다른 용매가 염화 시아노르와의 반응에 사용되는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 테트라히드로푸란 이외에 다른 용매가 염화 시아노르와의 반응에 사용되는 방법.
  8. 제7항에 있어서, 추가의 용매가 에테르 또는 지방족 또는 방향족 탄화수소 또는 상기 용매의 혼합물인 방법.
  9. 제8항에 있어서, 추가의 용매가 디옥산, 톨루엔, 크실렌, 헥산, 시클로헥산, 석유 에테르 또는 상기 용매의 혼합물로 구성된 군으로 부터 선정되는 방법.
  10. 제7항에 있어서, 염화 시아누르 용액에 테트라히드로푸란중의 그리나드 시약용액을 추가의 용매로 부가하는 것을 포잠하는 방법.
  11. 제1항에 있어서, 염화 시아누르 1몰에 대하여, Z이 -Cl이며, 1.1 내지 2몰, 또는 Z이 일반식(Ⅰb)의 라디칼이면 2.2 내지 4몰의 그리나드 시약이 사용되는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 염화 시아누르 1몰에 대하여, Z이 -Cl이며, 1.25 내지 1.5몰, 또는 Z이 일반식(Ⅰb)의 라디칼이면 2.5 내지 3몰의 그리나드 시약이 사용되는 방법.
  13. 제1항에 있어서, 염화 시아누르를 테트라히드로푸란, 톨루엔 또는 톨루엔과 테트라히드로푸란의 혼합물중의 용액으로 반응기에 도입하고, 또 테트라히드로푸란중의 그리나드 시약 용액을 부가하는 방법.
  14. 제1항에 있어서, 염화 시아누르와 반응하는 동안 반응 혼합물을 -5℃ 내지 +45℃의 온도 범위로 유지시키는 방법.
  15. 제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 테트라히드로푸란중에서 마그네숨 금속과 반응시켜 상응하는 그리나드 시약을 형성하고, 또 생성한 용액을 염화 시아누르 1몰당 2.1몰 이상의 그리나드 시약을 사용하여 하기 일반식(Ⅲ)의 염화 시아누르와 반응시키는 것을 포함하는 하기 일반식(Ⅰ)의 2-클로로-4,6-디아릴-1,3,5-트리아진의 제조방법.
    상기식에서 R1및 R2는 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이고, 또 X는 브롬 또는 염소 원자임.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930012322A 1992-07-02 1993-06-29 모노- 및 디아릴트리아진의 제조방법 KR940002232A (ko)

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