KR940001568B1

KR940001568B1 - 자기 소거 헤드 및 그의 제조방법

Info

Publication number: KR940001568B1
Application number: KR1019910013374A
Authority: KR
Inventors: 송호섭
Original assignee: 삼성전기 주식회사; 황선두
Priority date: 1991-07-31
Filing date: 1991-07-31
Publication date: 1994-02-24
Also published as: KR930004934A

Abstract

내용 없음.

Description

자기 소거 헤드 및 그의 제조방법

제1a도는 종래의 자기 소거 헤드를 나타낸 사시도, 제1b도는 제1a도의 A부 확대 평면도.

제2a도는 이 발명에 따른 자기 소거 헤드의 사시도, 제2b도는 제2a도의 B부 확대 평면도.

제3a∼e도는 이 발명에 따른 자기 소거 헤드의 제조방법이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

1, 2, 11, 12 : 코어 2a, 12a : 가공홈

3, 13 : 자성박막 4 : 비자성막

5, 16 : 글래스 6, 17 : 코일

11a, 12b : 트랙홈 14 : 제1비자성막

18 : 제2비자성막 20 : 자기 소거 헤드

이 발명은 자기 소거 헤드에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 자기 기록 재생장치의 고밀도 추세에 따라 기록매체로 고항자력을 갖는 메탈 테이프등이 사용됨으로써 이 고항자력에 대응하여 기록된 신호를 소거하기 위한 자기 소거 헤드 및 그의 제조방법에 관한 것이다.

최근에, 각종 정보기록 및 재생장치에 정보를 기록하는 기록매체(예를들어, 자기테이프 및 디스크)가 장시간 사용할 수 있도록 고밀도 기록방식이 채택되고 있으며, 이에 따라 매개체의 항자력(Hc)은 450∼800 에르스테드(Oe)에서 1200∼2000 에르스테드로 증가되어 포화자속 밀도가 4500∼5000 가우스(G)인 페라이트계 재료로 이루어진 자기 소거 헤드로서는 기록된 정보를 완전하게 소거할 수 없었다.

따라서, 금속산화물 코어의 자기 갭(Gap) 형성면에 스퍼터링(Sputtering) 공정으로 고포화 자속 밀도재의 금속박막을 부착시킨 자기 소거 헤드가 개발되었고, 센더스트(Sendust) 금속을 금속박막으로 사용하였다.

이와 같은 종래의 자기 소거 헤드는 제1a도, 제1b도에 나타낸 바와 같이, 한쌍의 망간(Mn)-아연(Zn)계의 단결정 페라이트 코어(1), (2) 사이에 소정의 갭(공극)이 형성되고, 이 갭의 대향면에 고포화 자속밀도재의 자성박막(3)이 스퍼터링으로 형성되며, 상기 자성박막(3) 사이에 산화실리콘(SiO₂) 또는 산화알루미늄(Al₂O₃) 등의 비자성막(4)이 형성되어 갭(공극) 역할을 하게된다.

그후 글래스(5) 융착으로 한쌍의 코어(1), (2)가 접합되고, 일측코어(2)에는 가공홈(2a)이 형성되어 코일(6)이 권선된다. 그러나, 이와 같은 종래의 자기 소거 헤드는, 글래스(5)의 융착시 갭역할을 하고 있는 비자성막(4)과 접착되는 부위에서 반응하여 글래스(5)가 침투됨에 따라 갭의 길이가 변화되어 자기특성의 열화문제를 발생시켰다.

또한, 용융된 글래스(5)가 센더스트(Fe-Si-Al) 제질로 된 자성박막(3)의 접촉부와 반응하여 침투됨에 따라 자속밀도에 영향을 미치게 되므로 소거 효율을 급격히 감소시키는 문제가 발생되었으며, 이로인하여 소거 주파수 신호가 자기 테이프에 재 기록되는 현상으로 노이즈를 유발하는 등 품질을 저하시키는 문제점이 있었던 것이다.

이 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 이 발명의 목적은, 자기 소거 헤드의 갭 역할을 하는 비자성막이나 고포화 자속밀도제인 자성박막으로 접합물인 글래스가 침투하지 못하게 하여 자기특성 열화 및 소거 효율저하등의 문제를 해소함으로써 품질을 향상시킬 수 있는 자기 소거 헤드 및 그의 제조방법을 제공하는데 있다.

상기의 목적을 달성하기 위한 이 발명의 특징은, 한쌍의 코어 대향면에 자성박막이 각각 형성되고, 이들의 자성박막사이에 비자성막이 개재되어 갭을 이루게되며, 글래스 융착으로 한쌍의 코어가 접착되는 자기소거 헤드에 있어서, 상기 한쌍의 코어중 어느 일측의 코어에만 자성박막, 제1비자성막, 보호막을 순차적으로 형성하여 글래스 융착시 자성박막 및 제1비자성막으로 글래스가 침투하는 것을 차단하는 자기 소거헤드에 있는 것이다.

이 발명의 다른 특징은, 트랙홈들이 대향되게 형성된 한쌍의 페라이트 코어를 구비하고 상기 코어중 어느 하나의 코어에 코어의 길이방향으로 가공홈을 형성하는 단계와, 상기 코어중 가공홈이 형성되지 않은 쪽의 코어에 자성박막, 제1비자성막, 보호막을 순차적으로 형성하는 단계와, 그후 트랙홈과 가공홈에 용융된 글래스를 채워 한쌍의 코어를 접합시키는 단계와, 트랙홈들의 중심부를 절단하여 하나의 자기 소거 헤드로 분리하는 단계와, 그후 글래스가 채워진 가공홈을 재가공하여 코일을 권신하는 단계로 이루어진 자기 소거 헤드의 제조방법에 있는 것이다.

이하, 이 발명에 따른 자기 소거 헤드 및 그의 제조방법을 첨부도면에 의하여 상세하게 설명한다.

제2a도, 제2b도는 이 발명에 따른 자기 소거 헤드의 실시예를 나타낸 것으로서, 한쌍의 코어(11), (12)중 가공홈(12a)이 형성되지 않은 쪽의 코어(11)의 대향면에 고포화 자속 밀도재로 된 자성박막(13)과 갭 역할을 하는 산화실리콘(SiO₂)재의 제1비자성막(14)이 스퍼트링(Sputtering)에 의해 순차적으로 형성되고, 상기 비자성막(14)위에 크롬(Cr) 재의 보호막(15)이 형성되어 자성박막(13)및 제1비자성막(14)이 보호되며, 이 보호막(15)도 제1비자성막(14)과 함께 갭을 이루게 된다.

또한, 한쌍의 코어(11), (12)는 글래스(16) 융착으로 접합되고, 가공홈(12a)으로는 코일(17)이 권선되며, 코어(11)에 자성박막(13)을 스퍼트링으로 형성할때 이들사이에 산화 실리콘(SiO₂)재의 제2비자성막(18)을 개재하여 코어(11)와 자성박막(13)의 접착강도를 높히도록 한다.

이와 같은 이 발명은, 고포화 자속밀도재인 자성박막(13)과 비자성막(14)이 보호막(15)에 의해 글래스(16)와 차단됨으로써 글래스(16) 융착으로 한쌍의 코어(11), (12)를 접합시킬때 글래스(16)가 비자성막(14)으로 침투되지 않게 되므로 갭의 길이가 변화되지 않아 자기특성의 열화문제가 해결되는 것이고, 글래스(16)가 자성박막(13)으로도 침투되지 않게 되므로, 자성박막(13)에서 발생되는 자속밀도에 영향을 주지 않게 되어 소거효율이 높아지게 된다.

이와 같은 자기 소거 헤드의 제조방법을 제3a도~제3e도에 나타내었다.

제3a도와 같이, 트랙홈(11a), (12b)이 형성된 한쌍의 페라이트 코어(11), (12)를 구비하고 한쌍의 코어(11), (12)중 하나의 코어(12)에는 가공홈(12a)을 형성한다. 그후 제3b도와 같이, 가공홈(12a)이 형성되지 않은 쪽의 코어(11)에 제 2비자성막(18), 자성박막(13), 제1비자성막(14), 보호막(15)을 순차적으로 스퍼터링으로 형성하되, 제2비자성막(18)은 산화실리콘(SiO₂)를 사용하고 코어(11)와 자성박막(13)의 접착강도를 높이기 위해 형성되는 것이므로 100∼200Å 두께로 형성하여 갭 역할율 할 수 없도록 하고, 자성박막(13)은 고포화 자속밀도를 갖는 센더스트재료를 사용하며 두께는 3㎛로 한다.

또한, 갭의 역할을 하는 제1비자성막(14)의 두께는 1∼2㎛로 하고, 재질은 산화실리콘(SiO₂)를 사용한다.

또한, 보호막(15)은 크롬(Cr)을 사용하여 1∼2㎛ 두께로 형성하고, 상기 자성박막(13)및 제 1비자성막(14)에 글래스(16)가 침투하는 것을 방지하며, 이 보호막(15)과 제1비자성막(14)으로써 갭이 이루어진다. 그후 제3c도와 같이 트랙홈(11a), (12b)과 가공홈(12a)에 용융된 글래스(16)를 채워 제3d도와 같이 접착시키고, 그후 트랙홈(11a), (12b)의 중심부를 절단하여 제3e도와 같이 하나의 자기 소거 헤드(20)를 분리한 다음 글래스(16)가 채워진 가공홈(12a)을 재가공하여 코일(17)을 설치한다.

이와 같은 자기 소거 헤드의 제조방법은, 한쌍의 코어(11), (12)에 형성한 트랙홈(11a), (12b)과 가공홈(12a)으로 글래스(16)가 채워짐에 따라 코어(11), (12)의 접착면적이 커지게 되므로 코어(11), (12)의 접착력이 향상되는 것이고, 코어(11)에 자성박막(13)을 형성함에 있어서, 이들사이에 제2비자성막(18)이 개재되는 것에 의해 코어(11)와 자성박막(13)의 접합 강도가 향상됨과 동시에 자성박막(13)의 형성시 코어(11)에 가해지는 내부응력등의 영향을 감소시키게 된다.

또한, 코어(11)에 형성된 자성박막(13)및 제1비자성막(14)을 보호막(15)이 보호하게 되므로 글래스(16)융착시 글래스(16)가 자성박막(13) 및 제1비자성막(14)으로 침투하는 것이 차단되어 각각의 특성이 유지되는 것이다.

이상에서와 같이 이 발명에 따른 자기 소거 헤드 및 그의 제조방법에 의하면, 자기 소거 헤드의 갭역할을하는 제1비자성막과 고포화 자속밀도재의 자성박막을 한쌍의 코어중 일측 코어에만 형성하고, 이를 보호막으로 보호되게 함으로써 글래스 융착시 글래스가 자성박막 및 제1비자성막으로 침투되는 것이 방지되어 각각의 특성이 유지되므로 갭에 의한 자기특성이 열화되는 것이 방지되는 것이고, 소거효율이 증가됨에 따라 기록테이프에 소거 주파수가 재기록되어 노이즈가 발생되는 것이 방지되므로 제품의 품질이 향상되는 것이다.

Claims

한쌍의 코어 대향면에 자성박막이 각각 형성되고, 이들의 자성박막사이에 비자성막이 개재되어 갭을이루게 되며, 글래스 융착으로 한쌍의 코어가 접착되는 자기 소거 헤드에 있어서, 상기 한쌍의 코어(11), (12)중 어느 일측의 코어(11)에만 자성박막(13), 제l비자성막(14), 보호막(15)을 순차적으로 형성하여 글래스 융착시 자성박막(13) 및 제1비자성막(14)으로 글래스(16)가 침투하는 것을 보호막(15)이 차단하게 됨을 특징으로 하는 자기 소거 헤드.
제1항에 있어서, 상기 코어(11)와 자성박막(13) 사이에 이들의 접착강도를 높이기 위해 형성된 제2비자성막(18)이 더 포함되는 자기 소거 헤드.
제1항에 있어서, 상기 제1비자성막(14)과 보호막(15)이 갭(공극)으로 되는 자기 소거 헤드.
트랙홈(11a), (12b)들이 대향되게 형성된 한쌍의 페라이트코어(11), (12)를 구비하고 상기 코어(11), (12)중 어느 하나의 코어(12)에 코어(12)의 길이방향으로 가공홈(12a)을 형성하는 단계와, 상기 코어(11), (12)중 가공홈(12a)이 형성되지 않은 쪽의 코어(11)에 제2비자성막(18), 자성박막(13), 제1비자성막(14), 보호막(15)을 순차적으로 형성하는 단계와, 그후 트랙홈(11a), (12b)과 가공홈(12a)에 용융된 글래스(16)를 채워 한쌍의 코어(11), (12)를 접합시키는 단계와, 트랙홈(11a), (12b)들의 중심부를 절단하여 하나의 자기 소거 헤드(20)를 분리하는 단계와, 그후 글래스(16)가 채워진 가공홈(12a)을 재가공하여 코일(11)을 권선하는 단계로 이루어짐을 특징으로 하는 자기 소거 헤드의 제조방법.
제4항에 있어서, 상기 제2비자성막(18)이 산화실리콘(SiO₂)으로 이루어지는 자기 소거 헤드의 제조방법.
제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 제2비자성막(18)이, 100∼200Å의 두께로 이루어지는 자기 소거헤드의 제조방법.
제4항에 있어서, 상기 보호막(15)이, 크롬(Cr)으로 이루어지는 자기 소거 헤드의 제조방법.
제4항 또는 제7항에 있어서, 상기 보호막(15)이, 1∼2㎛ 두께로 이루어지는 자기 소거 헤드의 제조방법.