KR930703379A - 방사선-활성화된 하이드로실릴화 반응 - Google Patents

방사선-활성화된 하이드로실릴화 반응

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KR930703379A
KR930703379A KR1019930701778A KR930701778A KR930703379A KR 930703379 A KR930703379 A KR 930703379A KR 1019930701778 A KR1019930701778 A KR 1019930701778A KR 930701778 A KR930701778 A KR 930701778A KR 930703379 A KR930703379 A KR 930703379A
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디. 보드만 래리
디. 옥스만 조엘
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게리 리 그리스울드
미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 캄파니
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Abstract

본 발명은 실리콘-결합된 수소를 함유하는 화합물과 지방족 불포화기를 함유하는 화합물을 부가 반응시키는 방법 및 상기 방법에 적합한 조성물을 제공한다. 상기 공정은 화학선에 의해 활성화되며, 백금 원자에 에타-결합된 1개의 디올레핀 그룹과 백금 원자에 시그마-결합된 2개의 아릴 그룹을 갖는 백금 촉매 및 화학선에 노출시 하이드로실릴화 반응이 개시되도록 화학선을 흡수할 수 있는 유리-라디칼 광개시제의 존재하에 수행한다. 본 발명은 또한 전술한 공정에 사용하기 위한 조성물을 제공한다.

Description

방사선-활성화된 하이드로실릴화 반응
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (64)

  1. 지방족 불포화기를 갖는 화합물 및 적어도 하나의 실리콘-결합된 수소원자를 함유하고 임의의 1개의 실리콘 원자에 결합된 3개 이하의 수소원자를 갖는 화합물을 포함하는 조성물을 (η-디올레핀)(σ-아릴)백금 착체 및 화학선에 노출시 하이드로실릴화 반응이 개시되도록 화학선을 흡수할 수 있는 유리-라디칼 광개시제의 존재하에서 반응시킴을 포함하는 하이드로실릴화 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 반응을 200 내지 800nm의 파장을 갖는 화학선에 상기 조성물을 노출시킴으로써 수행하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 유리-라디칼 광개시제가 α-디케톤 또는 α-케토알다하이드의 모노케탈인 방법.
  4. 제3항에 있어서, 상기 광개시제가 하기 일반식을 갖는 방법.
  6. [상기 식에서 R6는 치환되지 않은 아릴 그룹이거나, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹을 나타내고, R7,R8및 R9는 각각 독립적으로 치환되지 않은 아릴 그룹, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹, 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 지방족 그룹 및 수소로 이루어진 그룹 중에서 선택된 일원을 나타낸다.]
  7. 제1항에 있어서, 상기 유리-라디칼 광개시제가 아실로인 또는 그의 에테르인 방법.
  8. 제5항에 있어서, 상기 광개시제가 하기 일반식을 갖는 방법.
  10. [상기 식에서 R10는 치환되지 않은 아릴 그룹이거나, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹을 나타내고, R11,R12및 R13는 각각 독립적으로 치환되지 않은 아릴 그룹, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹, 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 지방족 그룹 및 수소로 이루어진 그룹 중에서 선택된 일원을 나타낸다.]
  11. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 증감제를 또한 포함하는 방법.
  12. 제7항에 있어서, 상기 증감제가 폴리사이클릭 방향족 화합물인 방법.
  13. 제8항에 있어서, 상기 폴리사이클릭 방향족 화합물이 3 내지 5개의 고리를 갖는 방법.
  14. 제9항에 있어서, 상기 폴리사이클릭 방향족 화합물이 9,10-디메틸안트라센 및 9,10-디클로로안트라센으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 방법.
  15. 제7항에 있어서, 상기 증감제가 케톤 발색단을 함유하는 방향족 화합물인 방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 방향족 화합물이 티오크산톤인 방법.
  17. 제12항에 있어서, 상기 티오크산톤이 2-클로로티오크산톤 및 2-이소프로필티오크산톤으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 방법.
  18. 제1항에 있어서, 상기 백금 착체가 하기 일반식을 갖는 방법.
  20. [상기 식에서 R1은 백금 π-결합되고 비치환되거나 하이드로실릴화 반응에 불활성인 하나 이상의 그룹으로 치환된, 바람직하게는 C4-C12직쇄 또는 분지쇄 알카디엔 또는 바람직하게는 C5-C12카보사이클릭 6 내지 8원 고리를 나타내고, R2및 R3는 백금에 σ-결합되고 독립적으로 바람직하게는 C6-C18모노사이클릭 및 폴리사이클릭 아릴 라디칼중에서 선택되며 비치환되거나 하이드실릴화 반응에 불활성인 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 라디칼을 나타내며, R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 또는 바람직하게는 C4-C12직쇄 또는 분지쇄 알케닐 라디칼, 또는 5 또는 6개의 고리 탄소원자를 함유하는 사이클로알케닐 라디칼이며, 상기 알케닐 또는 사이클로알케닐 라디칼의 불포화 결합은 σ-결합위치에 대해 2-또는 3-위치에 존재하고, a는 0 또는 1을 나타내지며, R4및 R5는 둘다 상기 알케닐 라디칼인 경우에만 0이며, R4및 R5가 알케닐 라디칼이 아닌 경우에는 1 이다.]
  21. 제14항에 있어서, 상기 백금 착체가 (COD)[t(p-C6H4CH3)2및 (COD)[t(p-C6H4OCH3)2(여기서, (COD)는 (η4-1,5-사이클로 옥타디엔)그룹을 나타낸다)로 이루어진 그룹중에서 선택되는 방법.
  22. 제1항에 있어서, 상기 조성물이 지방족 불포화기를 갖는 화합물 당량당 실리콘-결합된 수소를 갖는 화합물 약 0.1 내지 약 10.0당량을 포함하고, 또한 총 조성물 1,000,000중량부당 약 5 내지 약 1,000중량부의 백금 촉매 및 약 50 내지 약 50,000중량부의 유리-라디칼 광개시제를 포함하는 방법.
  23. 제7항에 있어서, 상기 조성물이 지방족 불포화기를 갖는 화합물 당량당 실리콘-결합된 수소를 갖는 화합물 약 0.1 내지 약 10.0당량을 포함하고, 또한 총 조성물 1,000,000중량부당 약 5 내지 약 1,000중량부의 백금 촉매 및 약 50 내지 약 50,000중량부의 유리-라디칼 광개시제 및 약 50 내지 약 50,000중량부의 증감제를 포함하는 방법.
  24. 제1항에 있어서, 상기 지방족 불포화기를 함유하는 화합물이 하기 일반식의 폴리유기실록산인 방법.
  26. [상기 식에서 R16은 각각 같거나 다를 수 있으며, 비-할로겐화 또는 할로겐화 에틸렌형 불포화 그룹, 비-할로겐화 또는 할로겐화 알킬 그룹 또는 사이클로알킬 그룹, 또는 페닐 그룹을 나타내고, 모든 R16그룹의 적어도 70%가 메틸 그룹이고, 모든 R16그룹의 단지 10%만이 비닐 또는 기타 알케닐이지만 R16그룹의 적어도 2개는 비닐 또는 기타 알케닐이며 h는 1 내지 약 3,000의 수를 나타내고 g는 0,1,2 또는 3을 나타낸다.]
  27. 제1항에 있어서, 상기 실리콘-결합된 수소를 함유하는 화합물이 하기 일반식의 폴리유기하이드로실록산인 방법.
  29. 상기 식에서, R16은 각각 같거나 다를 수 있으며, 알킬 그룹, 사이클로알킬 그룹, 페닐 그룹 또는 수소를 나타내고, 실록산에서 모든 R16그룹중 2개 이상 1/2이하가 수소이며, m은 0,1,2 또는 3을 나타내고, n은 1 내지 약 3,000의 평균치를 갖는 수를 나타낸다.
  30. 제1항에 있어서, 상기 지방족 불포화기를 갖는 화합물이 올레핀형 불포화기를 갖는 화합물인 방법.
  31. (a)분자당 실리콘에 결합된 수소 원자를 적어도 하나 함유하며 3개 이하의 수소 원자가 임의의 1개의 실리콘 원자에 결합된 실리콘 화합물, (b) 지방족 불포화기를 함유하는 화합물, (c) (η-디올레핀)(σ-디올레핀)-아릴)백금 착체 및 (d) 화학선을 흡수할 수 있는 유리-라디칼 광개시제를 포함하는 방사선-경회가능한 조성물.
  32. 제21항에 있어서, 상기 유리-라디칼 광개시제가 α-디케톤 또는 α-케토알데하이드의 모노케탈인 조성물.
  33. 제22항에 있어서, 상기 광개시제가 하기 일반식을 갖는 조성물.
  35. [상기 식에서 R6는 치환되지 않은 아릴 그룹이거나, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹을 나타내고, R7,R8및 R9는 각각 독립적으로 치환되지 않은 아릴 그룹, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹, 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 지방족 그룹 및 수소로 이루어진 그룹 중에서 선택된 일원을 나타낸다.]
  36. 제21항에 있어서, 상기 유리-라디칼 광개시제가 아실로인 또는 그의 에테르인 조성물.
  37. 제24항에 있어서, 상기 광개시제가 하기 일반식을 갖는 조성물.
  39. [상기 식에서 R10는 치환되지 않은 아릴 그룹이거나, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹을 나타내고, R11,R12및 R13는 각각 독립적으로 치환되지 않은 아릴 그룹, 하이드로실릴화 반응을 저해하지 않는 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 그룹, 1 내지 18개의 탄소원자를 갖는 지방족 그룹 및 수소로 이루어진 그룹 중에서 선택된 일원을 나타낸다.]
  40. 제21항에 있어서, 증감제를 또한 포함하는 조성물.
  41. 제26항에 있어서, 상기 증감제가 폴리사이클릭 방향족 화합물인 조성물.
  42. 제27항에 있어서, 상기 폴리사이클릭 방향족 화합물이 3 내지 5개의 고리를 갖는 조성물.
  43. 제28항에 있어서, 상기 폴리사이클릭 방향족 화합물이 9,10-디메틸안트라센 및 9,10-디클로로안트라센으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  44. 제26항에 있어서, 상기 증감제가 케톤 발색단을 함유하는 방향족 화합물인 조성물.
  45. 제30항에 있어서, 상기 방향족 화합물이 티오크산톤인 조성물.
  46. 제31항에 있어서, 상기 티오크산톤이 2-클로로티오크산톤 및 2-이소프로필티오크산톤으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 조성물.
  47. 제21항에 있어서, 상기 백금 착체가 하기 일반식을 갖는 조성물.
  49. [상기 식에서 R1은 백금 π-결합되고 비치환되거나 하이드로실릴화 반응에 불활성인 하나 이상의 그룹으로 치환된, 바람직하게는 C4-C12직쇄 또는 분지쇄 알카디엔 또는 바람직하게는 C5-C12카보사이클릭 6 내지 8원 고리를 나타내고, R2및 R3는 백금에 σ-결합되고 독립적으로 바람직하게는 C6-C18모노사이클릭 및 폴리사이클릭 아릴 라디칼중에서 선택되며 비치환되거나 하이드실릴화 반응에 불활성인 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 라디칼을 나타내며, R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 또는 바람직하게는 C4-C12직쇄 또는 분지쇄 알케닐 라디칼, 또는 5 또는 6개의 고리 탄소원자를 함유하는 사이클로알케닐 라디칼이며, 상기 알케닐 또는 사이클로알케닐 라디칼의 불포화 결합은 σ-결합위치에 대해 2-또는 3-위치에 존재하고, a는 0 또는 1을 나타내지며, R4및 R5는 둘다 상기 알케닐 라디칼인 경우에만 0이며, R4및 R5가 알케닐 라디칼이 아닌 경우에는 1 이다.]
  50. 제33항에 있어서, 상기 백금 착체가 (COD)[Pt(p-C6H4CH3)2및 (COD)[Pt-(p-C6H4OCH3)2(여기서, (COD)는 (η4-1,5-사이클로 옥타디엔)그룹을 나타낸다)로 이루어진 그룹중에서 선택되는 방법.
  51. 제21항에 있어서, 상기 조성물이 지방족 불포화기를 갖는 화합물 당량당 실리콘-결합된 수소를 갖는 화합물 약 0.1 내지 약 10.0당량을 포함하고, 또한 총 조성물 1,000,000중량부당 약 5 내지 약 1,000중량부의 백금 촉매 및 약 50 내지 약 50,000중량부의 유리-라디칼 광개시제를 포함하는 방법.
  52. 제26항에 있어서, 상기 조성물이 지방족 불포화기를 갖는 화합물 당량당 실리콘-결합된 수소를 갖는 화합물 약 0.1 내지 약 10.0당량을 포함하고, 또한 총 조성물 1,000,000중량부당 약 5 내지 약 1,000중량부의 백금 촉매 및 약 50 내지 약 50,000중량부의 유리-라디칼 광개시제 및 약 50 내지 약 50,000중량부의 증감제를 포함하는 방법.
  53. 제21항의 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 치과 인상재(dental impression)
  54. 적어도 1개의 주 표면상에, 제21항의 조성물을 상기 표면에 적용한 후 상기 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 층을 갖는 기재.
  55. 1개의 주 표면상에 통상적인 점착성을 갖는 감압성 접착체층을 가지며 다른 주 표면상에 제21항의 조성물을 상기 표면에 적용한 후 상기 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 이형표면을 갖는 배면을 포함하는 감압성 접착 테이프.
  56. 적어도 1개의 주 표면상에, 제21항의 조성물을 상기 표면에 적용한 후 상기 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 실리콘 접착제를 갖는 배면을 포함하는 접착 테이프.
  57. 제40항에 있어서, 상기 실리콘 접착제가 감압성 접착제인 테이프.
  58. 제21항의 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 가스켓.
  59. 제21항의 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 접착제.
  60. 제21항의 조성물을 화학선에 노출시켜 제조한 상사 피막(conformal coation).
  61. (a)하기 일반식(Ⅸ)의 폴리유기하이드로실록산 (b) 하기 일반식(Ⅴ)의 폴리유기실록산, (c) 하기 일반식(Ⅰ)의 백금착체 및 (d) 화학선을 흡수할 수 있는 유리-라디칼 광개시제를 포함하는 방사선-경화가능한 조성물
  63. 상기 식에서, R16은 각각 같거나 다를 수 있으며, 알킬 그룹, 사이클로알킬 그룹, 페닐 그룹 또는 수소를 나타내고, 실록산에서 모든 R16그룹중 2개 이상 1/2이하가 수소이며, m은 0,1,2 또는 3을 나타내고, n은 1 내지 약 3,000의 평균치를 갖는 수를 나타내며, R16은 각각 같거나 다를 수 있으며, 비-할로겐화 또는 할로겐화 에틸렌형 불포화 그룹, 비-할로겐화 또는 할로겐화 알킬 그룹 또는 사이클로알킬 그룹, 또는 페닐 그룹을 나타내고, 모든 R16그룹의 적어도 70%가 메틸 그룹이고, 모든 R16그룹의 단지 10%만이 비닐 또는 기타 알케닐이지만 R16그룹의 적어도 2개는 비닐 또는 기타 알케닐이며 h는 1 내지 약 3,000의 수를 나타내고 g는 0,1,2 또는 3을 나타내고, R1은 백금 π-결합되고 비치환되거나 하이드로실릴화 반응에 불활성인 하나 이상의 그룹으로 치환된, 바람직하게는 C4-C12직쇄 또는 분지쇄 알카디엔 또는 바람직하게는 C5-C12카보사이클릭 6 내지 8원 고리를 나타내고, R2및 R3는 백금에 σ-결합되고 독립적으로 바람직하게는 C6-C18모노사이클릭 및 폴리사이클릭 아릴 라디칼중에서 선택되며 비치환되거나 하이드실릴화 반응에 불활성인 하나 이상의 그룹으로 치환된 아릴 라디칼을 나타내며, R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 또는 바람직하게는 C2-C6직쇄 또는 분지쇄 알케닐 라디칼, 또는 5 또는 6개의 고리 탄소원자를 함유하는 사이클로알케닐 라디칼이며, 상기 알케닐 또는 사이클로알케닐 라디칼의 불포화 결합은 σ-결합위치에 대해 2-또는 3-위치에 존재하고, a는 0 또는 1을 나타내지며, R4및 R5는 둘다 상기 알케닐 라디칼이 아닐 경우에는 1이다.
  64. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930701778A 1990-12-13 1991-11-18 방사선-활성화된 하이드로실릴화 반응 KR930703379A (ko)

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