KR930009985B1 - 납-안티몬 합금의 강화방법 - Google Patents

납-안티몬 합금의 강화방법 Download PDF

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마이어즈 마이클
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아사르코 인코포레이팃드
에이 킨솔빙
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    • C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/12—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of lead or alloys based thereon
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    • C22C11/00—Alloys based on lead
    • C22C11/08—Alloys based on lead with antimony or bismuth as the next major constituent

Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
납-안티몬 합금의 강화방법
[도면의 간단한 설명]
제 1 도는 압연은 되고, 열처리는 되지 않는 합금을 200배로 한 현미경 사진이다.
제 2 도는 본 발명에 따라서 제조된 합금을 200배로 한 현미경 사진이다.
제 3 도는 종래의 용체화 처리(solution heat treation) 절차에 따라서 열처리되고 압연된 합금을 200배로 한 현미경 사진이다.
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 납-안티몬 합금들의 강화방법에 관한 것이며, 더욱 구체적으로는, 특수하게 상호관계가 있는 합금들을 강화시켜 그 합금들이 연속적인 생산 라인에서 축전지 그리드(grids)로 처리될 수 있게하는 급속도의 열처리 방법에 관한 것이다.
납-산 축전지는 여러해동안 내연기관용 시동기 전지로서 이용되어왔다. 순수납은 연질 재료이지만, 광범위한 연구 결과 전지 제조업자들이 요구하는 특수한 물리적 성질을 제공하는 다수의 합금들이 개발되어 왔다. 안티몬은 흔히 쓰이는 합금물질이며, 약 11%까지의 양이 이용되어 납의 강도 및 주조성을 개선시킨다. 공료롭게도 안티몬은, 상대적으로 비싸다는 사실외에, 전지의 수분 손실을 크게하여, 유지가 자유로운 전지에 제한 사용되며, 납 전지 합금들내의 안티몬 수준을 감소시키려는 시도가 행해져 왔다.
미합중국 특허 제 3,993,480호에서는, 0.5-3.5중량% 안티몬, 0.01-0.1중량% 동, 0.025-0.3중량% 비소, 0.005-0.1중량% 셀레늄, 0.002-0.05중량% 주석, 나머지는 납을 함유하는 저(低)안티몬-납 합금에 대하여 기재하고 있다. 기타 저 안티몬-납합금들도 그 명세서내에 기재되어 있으며, 일반적으로 합금의 성질들에 대한 상이한 합금원소들의 효과에 대해 나타내고 있다. 미합중국 특허 제 3,912,537 호에서는 0.002-0.5% 셀레늄 0.25-0.5% 비소 및 4.0%까지의 안티몬을 함유하는 축전지 그리드를 생산하기 위한 고주조성 납합금을 보여주고 있다. 유지가 자유로운 축전지를 위한 그리드를 제조하는데 이용되는 개선된 저 안티몬-납합금이 미합중국 특허 제 4,158,563 호에 기재되어 있으며, 약 1.3-1.9% 안티몬, 0.05-0.45% 비소, 0.02-0.5% 주석, 0.02-0.09%등 및 0.003-0.012% 황을 함유한다. 이들 합금들은 충분한 경도, 양호한 주조성 및 페이스트성(paste-ability) 우수한 내식성, 양호한 그리드 성장특성 및 저드로싱(drossing) 속도를 갖는 것으로 기재되어 있다.
선행 기술의 합금들은 주조된 그리드내에 저 안티몬-납 합금들로 다수의 문제들을 해결하는 반면에, 현대 그리드 기술은 새로운 문제점을 나타내고 있다. 종래의 주조에 의한 그리드 제조 방법은 상대적으로 비효율적이다. 효율적인 자동화된 연속 방법이 현재 바람직한데, 이것은 미합중국 특허 제 4,443,918 호에서 기재된 단련한 납합금 스트립을 확장(expanding) 또는 펀칭(punching)에 의해서 그리드들을 생산해낸다. 예를들면, 확장된 판은 납합금 스트립을 연속적으로 공급하고, 그것을 확장하고, 그렇게 생산된 망사모양의 스트립을 페이스팅(pasting)하고, 그것을 건조시키고 절단시켜서 각각의 그리드를 형성시킴으로써 얻어질 수 있다. 미합중국 특허 제 3,945,097 호 및 제 4,271,586 호에서는 확장된 전지판을 제조하는 방법들 및 기계들에 대하여 기재하고 있다. 전술한 특허들의 개시내용은 본 명세서에 참고로 결합되어 있다.
여러 가지 양상의 전지 그리드의 거동에 있어서 성능이 우수하다 하더라도, 단련한 안티몬-함유납은 연속적인 그리드 생산 수단에서는 배제되어 왔다. 제이.일렉트로케미칼 소사이어티, 128권 파트 Ⅱ, No. 8, 1981년 7월-12원, 1641-1647면에서는, 그러한 합금들로부터 제조된 그리드들은, 가공되었을 때, 본래 연질하고, 결국에는, 그리드가 매우 단기간의 열처리로써 6000psi를 초과하는 인장강도로 경화될 수 있음을 나타내긴 하지만, 수명이 짧은 전지가 된다.
예를들면, 1970년 베를린 하이델베르그, 스프링거-베르락 뉴욕의 더블유, 호프만 저"납 및 납합금"의 89면에서는, 단련 안티몬-납합금을 250℃에서 10분 정도의 짧은 시간동안 열처리하면 경화반응이 이루어진다고 기재하고 있다. 호프만(각주 239)은 기름욕(oil bath)내에서 1분 정도의 짧은 시간동안의 열처리에 대해서 기재하고 있는 "납-안티몬 시스템 및 납합금의 경화"라는 제목하의 딘 일행의 논문을 인용하고 있다. 공교롭게도, 단기간의 열처리는 그것만으로는, 충분한 경화를 제공하지 않으며, 여전히 연속적인 생산공정의 시간구속하에서 경화된 물질을 제공할 열처리 방법 및 합금에 대해 요구되는 것이 존재한다.
본 발명의 목적은 고강도 안티몬-납 스트립 또는 전지 그리드들을 제공하는 연속적인 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 고강도 안티몬-납 합금들을 제공하는 것이다.
기타목적들은 하기 설명으로부터 명백해질 것이다.
[발명의 요약]
저 안티몬-납합금들의 강도는 상호관련된 유효량의 비소를 함유하는 합금을 특수하게 처리함으로써 증대될 수 있음이 예기치 않게 밝혀졌으며, 그 방법은 합금을 가공하고, 충분한 시간동안 상승된 온도에서 급속히 열처리(담금질을 포함)하여 합금내의 강화기구를 활성화시키는 것으로 구성되고, 이때 열처리단계의 시간은 실질적으로 종래에 납-안티몬 합금들을 열처리하는데 이용되는 시간보다 작다. 대체로, 합금은, 약 0.5-6중량% 안티몬 및 약 0.002-1중량% 비소, 나머지는 필수적으로 납으로 구성된다. 합금은 가공, 예를들면, 압하(壓下)될 수 있는데, 약 15%이상의 양, 바람직하게는 약 50% 이상의 양, 가장 바람직하게는 80% 또는 90% 이상의 양으로 하며, 실질적으로 동일한 백분율의 압하로된 여러번의 연속적인 단계들로 압연함으써 바람직하게 압하된다.
[발명의 상세한 설명]
본 발명의 방법에 의해 강화될 수 있는 납-안티몬 합금들은 이들 형식의 합금들에서 보통 이용되는 많은 원소들, 예를들면, 주석, 동, 은, 카드륨, 셀레늄 및 텔루륨등을 함유할 수 있는데, 이는 안티몬이 약 0.5% 이상의 양, 예를들면, 약 0.5%-6%, 바람직하게는 약 0.75-3%, 가장 바람직하게는 1-2.5%의 양으로 존재하고, 비소가 약 0.002%-1%의 양, 바람직하게는 0.05-0.25%, 가장 바람직하게는 0.1%-0.2%의 양으로 존재한다는 것을 조건부로 하는 것이다. 비소는 안티몬과 결합하면 필수적으로 본 발명의 신규 열처리방법을 이용할 때 합금의 강화를 제공하는 것으로 밝혀졌다. 특별한 사항은 24시간동안의 시효화후 극한 인장강도(UTS)의 상당한 차이뿐만 아니라, 예를들면 약 1-2% 수준의 안티몬을 함유하였지만 본 발명의 범위를 넘어서 저수준의 비소를 함유한 합금과 비교하여 실질적으로 UTS가 계속하여 증가한다는 사실이다.
종래의 열처리, 예를들면, 전형적으로 상(相)도의 단일상 구역내의 합금을 약 1시간 또는 그 이상 동안 가열하고 담금질하는 것으로 구성되는 용체화 처리가 합금을 강화시킨다는 사실은 알려져 있는 반면에, 그러한 용체화처리는, 만일 합금이 특수하게 상호관련된 양의 비소 및 안티몬을 함유하고, 가공되고, 신속하게 소요온도까지 가열되고, 그리고 담금질되어, 이러한 절차들이 합금내의 강화기구를 활성화시킨다면, 반드시 필요한 것은 아님이 밝혀졌다. 합금의 강화는 경화상(hardening phase)의 석출에 의해서 발생하고, 경화상의 핵생성은 상호관련된 양의 안티몬 및 비소의 존재 및 열처리단계에 의해 촉진된다는 사실이 가정되었다. 이 기구는 종래의 용체화 처리와는 별개의 것인데, 종래의 용체화 처리는 고온에서 안티몬의 확산 조절용해 및 실온에서 과포화된 용액의 석출에 소요되는 시간동안 합금을 강화시키는 것이다. 본 발명의 신규한 급속 열처리하는 저수준의 비소에서의 강화를 거의 또는 전혀 제공치 않는다.
합금들의 가공은 당해 기술분야에 알려져 있는 종래의 절차를 이용하여 수행될수 있으며, 가공, 또는 압연, 압출등에 의한 것은 금속의 기계적 소성변형을 의미하며, 냉간 및 열간 가공을 포함한다.
일반적으로, 합금은 빌렛으로 주조되고, 그것을 연속 로울을 통과하게 함으로써 소요 크기의 스트립으로 압하시키는데, 여기서 각각의 연속적인 로울은 합금의 두께를 더욱 감소시킨다. 동일한 압연 방향으로 일정한 압하량이 바람직하며, 이것에 의해 예를들면, 연속적으로 각각의 로울이 빌렛의 두께를 약 25% 감소시키는 11개의 로울을 통과하게 함으로써 19.05㎜(0.75인치) 두께의 빌렛이 1.016㎜(0.04인치) 두께의 스트립으로 압하된다. 기타 압연 일정은 적합하게 채용될 수 있다.
합금의 열처리는 종래의 용체와 처리효과를 초래하지 않는 시간 및 온도조건하에서 수행된다. 용체화처리는 이미 석출된 안티몬이 풍부한 상이 확산 조절 용해되는 것을 요구한다. 이러한 방법들은 하나의 결정체 부위에서 다른 부위로 각각의 원자들의 고체 이동에 좌우되어 느리게 된다. 강화는, 과포화용액이 합금 결정격자를 변형시키고, 전위 운동을 억제시키는 형태로 석출될 때 담금질 후에 일어난다.
본 발명의 열처리는, 담금질 단계를 포함하며, 상호 관련된 양의 비소 및 안티몬을 함유하는 가공된 납-안티몬 합금의 적용될 때, 아직 명백히 밝혀지지 않는 수단에 의해 강화반응을 활성화시킨다.
이론에 얽매이지 않고, 저 또는 비소가 함유되지 않은 납-안티몬 합금은 석출이 곤란하며, 따라서 실질적으로 주조, 가공처리 및 시효화기간을 통하여 용액으로 존재하게 된다. 사실상 가공된 합금들은 상호관련된 양의 비소 및 안티몬을 함유하였다 하더라도 시효화 또는 스탠딩(standing)될 때 감지할 수 있을 정도로 강화되지 않는다. 합금들이 본 발명에 따라서 열처리될때에만 합금들이 시효화중에 강화되며, 열처리하는 안티몬 석출과정을 촉진시키는 준 안정 비소 함유핵을 형성한다고 가정되었다.
제 1 도, 제 2 도 및 제 3 도에 대하여 언급하면, 3가지 모두의 현미경사진들은 동일한 냉간압연합금의 시이트로부터의 견본이며, 두께가 대략 2.032㎜(0.08인치)이고, 약 2중량% 안티몬, 0.2중량% 비소, 0.2중량% 주석, 나머지는 필수적으로 납으로 구성된다.
제 1 도는 주조합금을 각각 약 25%의 9회의 연속압하를 통하여 약 90% 압하로 냉간압연 시킴으로써 제조된 합금시이트를 나타낸다. 제 2 도는 용융염욕에서 230℃에서 30초 동안 가열되고 수냉된 냉간압연합금의 미세조직을 나타내며, 제 3 도는 용융염욕에서 230℃에서 1시간 동안 가열되고 수냉된 냉간압연합금을 나타낸다. 모든 견본들은 수지내에 장치되고, 표준 기계 금속조직학적 절차를 이용하여 담금질 직후 연마되었다. 이들은 아세트산 및 H2O2의 혼합물을 이용하여 부식되었다. 현미경 사진들은 담금질 후 대략 24시간에서 200배의 세로 압연방향을 나타내며 금속현미경에 장치된 카메라의 폴라로이드형 55 필름을 이용하여 찍은 것이었다.
제 1 도는 실온에서 진행(불완전하지만) 되는 납기재의 재결정을 보여준다. 흑색띠들은, 그로부터 시이트가 압연되는 주조 블록의 비평형 응고의 결과로서 존재하는 안티몬이 풍부한 공융상(共融相)이다. 제 1 도에서 특징지워진 바와같이 압연된 그대로의 합금은 실온에서 시효화중에 설혹 있다손치더라도 거의 강화가 되지 않았음을 나타내고 있다는 사실을 주목하여야 한다. 그러나 본 발명에 따라서 제조된 합금을 나타내는 제 2 도는 안티몬이 풍부한 띠들이 여전히 존재하고, 안티몬이 풍부한 구역의 부피분율이 제 1 도의 압연된 그대로의 합금과 대략 동일한, 완전히 재결정화된 조직을 보여준다. 대조적으로, 용체화처리된 미세조직을 나타내는 제 3 도는 증대된 결정립성장과 더불어 재결정화된 조직을 가지며, 안티몬이 풍부한 띠들은 거의 완전히 용액으로되어 있음을 보여준다. 모든 도면들에서 가시적인 백색점들은 비화주석(tin arsenide) 상인데, 이것은 경화과정에서 중요한 역할을 하지는 않는 것으로 보인다.
ASTM 명칭 44-83으로 정의된 용체화 처리는 합금을 적합한 온도로 가열하고, 그 온도에서 하나 또는 그 이상의 구성물들이 고용체내로 들어가게 하는데 충분할 정도로 오랫동안 유지시키고, 그리고나서 이들 구성물들이 용액으로 유지되게 충분한 정도로 급속히 냉각시키는 것을 의미한다. 본 발명의 열처리는 단지 합금을 소요온도로 가열되게 하는 것만을 필요로 하는 것이다. 일반적으로, 소요의 온도에서 합금을 가열하는 것은 임의의 감지할 수 있는 양의 가용성 안티몬, 예를들면, 50%이하, 보통은 25%이하, 전형적으로는 약 10%이하, 예를들면 5% 또는 1% 또는 그 이하를 용해시키지 않는다. 예를들면, 도면들에서 볼 수 있듯이, 제 1 도의 압연된 그대로의 합금은 제 2 도의 본 발명의 열처리된 합금에서와 대략 동일한 양의 석출된 조 안티몬(흑색띠들에 의해 도시됨)을 함유한다. 이것은, 제 3 도에 도시된 바와같이 석출된 조 안티몬이 거의 남아있지 않는 것으로 종래의 용체와 처리와 대비되는 것이다. 가용성 안티몬은 도면에서 흑색구역(띠들)으로 도시되었으며, 정량 금속학기술을 이용하여 측정될 수 있다. 안티몬은 약 3.5중량%까지 납속에 용해가능하며, 안티몬이 본 발명의 방법에 따라서 얼마만큼 용해될 수 있는가를 결정하기 위해서 3.5%를 초과하는 양은 가용성 안티몬으로 볼 수 없다.
일반적으로, 열처리의 온도는 약 180℃에서 합금의 액상선온도, 바람직하게는 200℃-252℃, 가장 바람직하게는 220℃-245℃이다. 합금을 소요의 온도로 가져가는데 요구되는 시간은 합금의 두께, 가열온도 및 가열방법에 따라서 변화되는데 합금의 스트립이 얇아질수록, 온도가 높아질수록 및/또는 열전달 가열수단이 고도일수록 필요한 시간은 짧아진다. 합금의 실질적으로 완전히 소요의 온도로 되게 하여 합금의 강화에 대한 열처리의 충분한 효과가 이루어지도록 하는 것이 바람직하다. 바람직한 구체예에 있어서, 약 230℃ 온도에서 약 30초동안 용융염욕을 채용하면 1.016㎜(0.040인치) 두께의 합금스트립에 대하여 결과적으로 우수한 강화를 제공하였다. 머플로에대한 동등한 가열시간은 약 2.5분이 된다. 약 6.35㎜(약 0.25인치) 두께의 합금에 대하여 광범위한 가열온도에서, 염욕을 이용한 가열시간은 약 2분 이하이며, 심지어 1분 이하이며 머플로에 대하여는 약 8분 이하이다.
전술한 바와같이, 가열시간은 합금의 두께 및 온도에 따라서 변화될 것이며, 일반적으로 약 0.635㎜-2.54㎜(약 0.025인치-0.1인치) 두께의 합금스트립에 대하여 염욕을 이용하는 가열시간은 약 1-3초, 바람직하게는 5초 또는 30초 내지 약 1분 이하이며 머플로에 대하여는, 약 1분, 바람직하게는 2분 및 가장 바람직하게는 약 5분 이하이다. 더욱 긴 시간이 필요하다면 채용될 수도 있으나, 길어진 시간이 보통은 작업효율을 실질적으로 증대시키지는 않는다. 기타 가열수단은 적합하게 채용될 수 있는데, 예를들면, 기름, 유도가열, 저항가열, 적외선 및 이와 유사한 것들이다.
저항가열은, 예를들면, 거의 동시적인 가열을 제공하므로 5초 또는 그 이하의 매우 짧은 가열시간을 필요로 하는데, 필요하면, 보다 더 긴 시간이 채용될 수도 있기는 하다.
임의의 방법 및 기계가 가공된 합금 및/또는 전자판들을 제조하기 위하여 채용될 수 있으며, 미합중국 특허 제 3,310,438 호, 제 3,621,543 호, 제 3,945,097 호, 제 4,035,556 호, 제 4,271,586 호, 제 4,358,518 호, 및 제 4,443,918 호는 대표적인 방법들 및 기계들을 보여주고 있는데, 이들 특허들의 개시내용은 참조하기 위하여 본 명세서에 결합되어 있다. 미합중국 특허 제 4,271,586 호는, 예를 들면, 가늘고 긴 조각(ribbon)의 납이 인타인 확장기내로 공급되고, 이어서 페이스팅, 건조, 절단 및 적재된다. 미합중국 특허 제 4,035,556 호에서는, (a) 슬릿팅(slitting) 및 확장처리를 하여 오픈(open) 그리드를 성형하고, (b) 오픈 그리드를 펀칭하고, (c) 맞물러 연결된 형태의 그리드를 성형하고, (d) (a) 또는 (b)를 (c)와 결합시킴으로써 압연시이트물질로부터 마무리 처리된 축전지 그리드를 성형하는 것에 대하여 기재하고 있다.
당해 기술분야의 기술자들은 합금의 열처리가 합금 또는 축전지 그리드를 제조 또는 준비되는 동안 임의의 편리한 간격으로 수행될 수 있음을 인식할 것이다. 예를들면, 합금은 연속적으로 주조, 가공, 열처리 및 그리드로 확장 또는 펀칭되고, 직접적으로 축전지로 조립될 수 있다. 필요하다면, 스트립은 저장하기 위하여 둘둘 가고나서 처리될 수 있으며, 또는 처리되고나서 둘둘 감고 나중에 사용하기 위하여 저장될 수 있다. 또한 합금은 그리드 제조후 열처리될수 있다. 그리드의 열처리 및 제조방법에도 불구하고, 합금은 열처리전에 가공되는 것이 중요하다.
하기 실시예들은 본 발명을 더욱 예시할 것이다. 달리 언급하지 않는한, 본 명세서 전반에 걸쳐서 모든 부 및 백분율은 중량기준이며 모든 온도는 섭씨이다.
[실시예 Ⅰ]
표Ⅰ에 기록된 합금들은 가열된 흑연 도가니내에서 부식납(corroding grade lead)에 원소 안티몬, 비소 및 주석을 첨가함으로써 제조되었다. 용융물은 흑연 부크 모울드로 400℃에서 주조되어 대략 127㎜×101.6㎜×19.5㎜(대략 5인치×4인치×0.75인치)의 주조블록을 생산해냈다.
주조물은 가공되어 표면결함을 제거시키고 패스당 약 25-30% 압하가 되게하는 11회의 패스로 실온에서 1.143㎜(0.045인치)까지 압연되었다. 화학분석을 위한 견본들의 결과형성된 스트립으로부터 절단되었다. 시험봉으로 기계가공되기 위한 101.6㎜×12.7㎜(4인치×0.5인치)의 불탱크가 압연(세로)방향으로 스트립으로부터 절단되었다. 텐실쿠트 머신(Tensilkut Machine)이 이용되어 시험봉이 25.4㎜(1인치) 게이지 길이 및 6.35㎜(0.25인치) 나비로 절단되었다. 표 Ⅰ의 견본에 대한 열처리는 용융염욕에서 230℃로 지정된 시간동안 수행되고 염욕에서 제거하여 실온의 물속에 넣어 담금질되었다. 견본들은 실온에서 시효화를 위해 저장되었다.
인장실험이 인스트론머신(Instron Machine)으로 5.08㎜(0.2인치)/분의 크로스헤드 속도를 이용하여 수행되었다.
[표Ⅰ]
Figure kpo00001
( )=압연된 그대로의 재료와 비교되는 증가율.
*실온에서 약 6주간의 시효화후 4140(4)
표 Ⅰ에 데이타는, 상호관련된 양의 안티몬 및 비소를 함유하는 납합금들에 대하여 본 발명의 열처리 방법을 채용할 때, 극한 인장강도(UTS)의 증가를 명백히 보여주고 있다. 따라서, 합금 1,2 및 3과 합금 C, D 및 E의 비교는 30초 열처리기간동안 UTS의 증가를 제공하는 비소의 중요성을 보여주고 있다.
합금 A 및 B는 안티몬의 수준이 약 0.5% 이상일 필요가 있고 바람직한 합금은 약 1.8-2% 안티몬을 함유하는 것임을 보여주고 있다.

Claims (10)

  1. 합금을 가공하여 안티몬이 풍부한 공융상(共融相) 띠들의 형태로 고체 안티몬을 함유하는 조직을 생성하고 시효화(aging)중에 강화되는 재결정조직을 갖는 합금을 제공하는데 충분한 시간동안, 그러나 50%이상의 가용성 안티몬이 용해되는데 필요한 시간보다, 적은 시간동안 상승된 온도에서 합금을 가열하고, 그리고 합금을 담금질하는 것을 특징으로 하는, 0.5-6중량% 안티몬, 0.002-1중량% 비소, 나머지는 필수적으로 납으로 구성되는 납-안티몬 합금의 강화 방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 합금을 15%이상의 양만큼 압하(壓下)시킴으로써 합금을 가공하는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 용해된 가용성 안티몬의 양이 25%이하이도록 하는 시간동안 합금을 가열하는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항중 어느 한 항에 있어서, 180℃와 합금 액상선 온도 사이의 온도에서 2.5분 이하 동안 합금을 가열하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 띠 형태의 안티몬이 풍부한 공융상으로, 50%이상의 가용성 안티몬을 함유하는 재결정 조직을 갖는 것을 특징으로 하는, 0.5-6중량% 안티몬, 0.002-1중량% 비소, 나머지는 필수적으로 납으로 구성되는 전지 그리드용 합금.
  6. 제 5 항에 있어서, 75% 이상의 가용성 안티몬이 안티몬이-풍부한 공융상 띠들의 형태인 것을 특징으로 하는 합금.
  7. (a) 안티몬이-풍부한 공융상띠들의 형태로 가용성 안티몬을 함유하는 조직을 갖는 것을 특징으로 하는 합금을 소요 크기의 스트립으로 가공하고, (b) 시효화중에 강화되는 재결정조직을 갖는 합금을 제공하는데 충분한 시간동안, 그러나 50% 이상의 가용성 안티몬이 용해되는데 필요한 시간보다 적은 시간동안 상승된 온도에서 스트립을 가열하고, 그리고 (c) 스트립을 담금질하는 것으로 구성되며, 이때 (b)단계 전이나 (c)단계 후에 상기 스트립을 전지 그리드로 성형하는 것을 포함하는, 0.5-6중량% 안티몬, 0.002-1중량% 비소, 나머지는 필수적으로 납으로 구성되는 납-안티몬 합금으로부터 전지 그리드를 제조하는 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 합금을 50% 이상의 양만큼 압하시킴으로써 (a)단계에서 합금을 가공하는 방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 스트립을 180℃와 합금액 상선온도 사이의 온도에서 (b)단계에서 가열하는 방법.
  10. 제 9 항에 있어서, (b)단계에서의 가열시간이 1분 이하인 방법.
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