KR930009741B1 - 패턴 매칭 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

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Description

패턴 매칭 방법 및 장치
제 1 도는 본 발명의 1 실시예에 따른 패턴 매칭(Pattern Matching)방법을 실시하는 장치의 블럭회로도.
제 2 도는 결여성(缺如性)의 결함정보를 인식하는 결여성 결함 인식부의 구성과 각종 패턴과의 관계 표시도.
제 3 도는 비산성(飛散性)의 결함정보를 인식하는 비산성 결함 인식부의 구성과 각종 패턴과의 관계 표시도.
제 4 도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 패턴매칭 장치의 블럭 회로도이다.
[발명이 속하는 기술분야]
본 발명은 예컨대 옵셋 매엽(枚葉) 인쇄나 성형품에 행한 스크린 인쇄등의 좋고 나쁨을 판정하는 검사장치등에 있어서 사용되는 패턴 매칭 방법 및 장치에 관한 것이다.
[종래의 기술]
제품에 붙여진 인쇄등의 좋고 나쁨을 패턴 매칭에 의해 판정하는 기술은 종래 알려져 있으며, 이 기술은 아래와 같이 행하여진다. 우선, 눈으로 보는 등에 의해 우량품으로 판정된 제품이 준비되며, 이 제품에 붙여진 인쇄등의 검사대상이 텔레비젼 카메라로 촬상(撮像)된다.
카메라의 촬상신호는 신호 처리되며, 검사대상의 윤곽(輪郭) 데이터가 추출된다. 이 윤곽이 종횡 방향으로 확대처리되어서 얻어진 확대 윤곽 데이터가 마스터(MASTER) 패턴 데이터로서 메모리에 수납된다.
이 확대처리에 의해 검사대상의 흐트러짐이나 제품의 송달 정밀도에 의거한 다소의 오차는 허용된다. 그후 텔레비젼 카메라에 의해 검사할 제품의 검사대상이 촬영된다. 이 검사대상에 대응하는 촬영신호로부터 윤곽 추출회로에 의해 윤곽 데이터가 추출되며, 이 윤곽데이타가 메모리에 수납된 마스터 패턴 데이터와 동기시켜서 비교되며, 이들 패턴의 매칭이 행하여진다.
종래에는 이와같은 패턴 매칭 방법에 의해 인쇄등의 검사대상의 좋고 나쁨을 판정하는 정보가 얻어지고 있었다.
(발명이 해결하려고 하는 기술적 과제)
그런데, 인쇄에서의 결함은 결여성의 결함과 비산성의 결함으로 대별할 수 있다. 결여성의 결함은 인쇄의 일부가 빠지고 있거나 흰잔줄이 생기게 하는 결함이며, 비산성 결함은 튄 잉크나 오점, 이물등이 소정의 인쇄 개소 이외의 부분에 부착하고 있는 결함이다.
상기 종래의 기술은 비산성의 결함정보의 걸출에는 적합하나 윤곽 패턴으로 확대처리한 마스터 패턴을 기준으로 하고 있으므로, 확대처리에 의해 인쇄의 빠진 부분이 마스터 패턴내에 거두어 들여지는 일이 있다. 그로므로, 종래의 방법은 결여성의 결함정보를 인식하는데는 부적당하였다.
[발명의 해결방법의 요지]
본 발명의 목적은 결여성의 결함 또는 결여성 및 비산성의 결함의 어느것도 인식할 수 있는 패턴 매칭 방법 및 장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 패턴 매칭 방법에 의하면 준비된 마스터의 화상데이터가 윤곽 추출회로에 거두어 들여져서 화상의 윤곽데이터가 추출된다. 이 추출에 의해 얻어진 마스터 윤곽데이터는 메모리에 수납된후 피인식물의 화상의 윤곽데이터가 윤곽추출회로에 의해 추출된다. 이 추출된 윤곽데이터에 패턴확대처리가 행하여져서 피인식 패턴이 형성된다. 이 피인식 패턴데이터와 마스터 윤곽데이터가 비교대로 된다.
본 발명에 의하면, 결여성 및 비산성의 결함정보를 모두 검출할 수 있도록 하기 위하여 준비된 마스터의 화상데이터가 윤곽 추출회로에 거두어 들여져서 화상의 윤곽데이터가 추출된다. 이 추출에 의해서 얻은 마스터 윤곽데이터는 메모리에 수납된후 피인식물의 화상의 윤곽데이터가 윤곽 추출회로에 의해 추출되며, 이 추출된 윤곽데이터가 확대 처리되어 제 1 피인식 패턴이 형성된다.
윤곽 추출회로에 의해 추출된 마스터 화상의 마스터 윤곽데이터를 확대처리 함으로써 얻어진 마스터 확대패턴 데이터가 제 2 메모리에 수납된 후 피인식물의 화상의 윤곽데이터가 윤곽 추출회로에 의해 추출되어 제 2 피인식 패턴이 형성된다. 제 1 피인식패턴과 마스터 윤곽데이터와를 비교 대조하는 제 1 패턴 매칭 처리와 제 2 피인식패턴 데이터와 마스터확대 패턴 데이터와를 비교 대조하는 제 2 패턴 매칭 처리가 병렬적으로 행하여진다.
본 발명의 패턴매칭 장치에 의하면, 준비된 마스터의 화상데이터 및 피인식물의 화상데이터를 따로따로 거두어 들여서 이들 화상의 윤곽데이터를 추출하는 윤곽추출회로와 이 윤곽추출회로의 출력단에 접속되며, 추출된 윤곽데이터를 확대처리하는 패턴확대 처리회로와 윤곽 추출회로의 출력단에 접속되며, 마스터 화상에 대해서 추출된 윤곽데이터를 마스터 윤곽데이터로서 수납하는 제 1 메모리와 이 제 1 메모리의 출력단과 패턴 확대 처리회로의 출력단에 접속되며, 마스터 윤곽데이터와 패턴확대 처리회로에 의해 얻어진 피인식물에 관한 제 1 피인식 패턴데이터와를 비교 대조하는 제 1 패턴매칭 회로와 패턴확대 처리회로의 출력단에 접속되며, 패턴확대회로에 의해 얻어진 마스터 화상에 관한 마스터 확대패턴 데이터를 수납하는 제 2 메모리와 이 제 2 메모리의 출력단과 윤곽 추출회로의 출력단에 접속되며, 마스터 화상에 관한 마스터확대 데이터와 윤곽 추출회로에 의해 얻어진 피인식물에 관한 제 2 패턴매칭 회로가 마련되어 있다.
본 발명에서는 비교의 기준이 되는 마스터 윤곽데이터는 준비된 마스터 화상데이티로부터 추출된 윤곽데이터이며, 이 마스터 윤곽데이터는 확대처리되지 않은채로 메모리에 수납된다. 다음에 이 마스터 윤곽데이터와 비교되는 피인식패턴 데이터가 피인식물의 윤곽데이터를 확대처리하여 형성된다. 이들 양 패턴데이터가 비교 대조되며, 이 대조에 있어서 피인식 패턴으로부터 비어져 나온 마스터윤곽 패턴의 부분이 결여성이 결함정보로서 인식된다.
본 발명에서는 패턴매칭을 실행할때에 결여성의 결함정보를 인식하는 것과 병행하여 비산성의 결함정보가 인식된다. 비산성의 결함정보의 인식에서는 마스터 화상데이터로부터 추출된 마스터 윤곽데이터를 확대처리하여 형성되며, 메모리에 수납된 마스터 확대패턴 데이터와 피인식물의 윤곽패턴(피인식 패턴) 데이터가 비교 대조된다. 이 대조에 있어서는 마스터 확대패턴으로부터 비어져 나온 피인식 패턴의 부분이 비산성의 결함정보로서 인식된다.
본 발명에서는 윤곽패턴 데이터를 추출한 후 패턴확대 처리회로가 이 윤곽데이터를 확대 처리하여 마스터 확대패턴 데이터를 형성한다. 이 확대패턴 데이터는 제 2 메모리에 수납된다. 이 패턴데이터 수납에 병행하여 마스터 화상의 윤곽데이터는 확대 처리되지 않는데로 제 1 메모리에 공급됨으로 이 제 1 메모리는 마스터 화상의 윤곽데이터가 마스터 윤곽데이터로서 제 1 메모리에 수납된다. 이와같은 기억뒤에 윤곽 추출회로는 피인식물의 화상의 윤곽데이터를 추출한다.
이 윤곽데이터는 패턴확대 처리회로에 의해 확대되는 일 없이 제 2 패턴 매칭 회로에 공급된다. 이 매칭회로는 피인식 윤곽데이터와 제 2 메모리로부터 판독된 마스터 확대패턴 데이터와의 비교 대조를 하여, 비산성의 결함정보의 유무를 인식한다. 또한, 이 비교 대조와 병행하여 피인식물의 화상의 윤곽데이터는 패턴확대 처리회로에 의해 확대처리된 후 제 1 패턴매칭 회로에 공급됨으로 이 매칭회로는 피인식 윤곽데이터와 제 1 메모리로부터 판독된 마스터 화상의 윤곽데이터와의 비교 대조를 하여 결여성의 결함정보의 유무를 인식한다.
[실시예]
제 1 도에서 피인식물의 송달기구(1)는 예컨대 표면에 스크린 인쇄가 행하여진 피인식물(2)을 화살표 방향으로 이송한다. 송달기구(1)의 일부에 대향하여 텔레비젼 카메라(3)가 마련되며, 이 카메라(3)의 시야는 필요에 의하여 마련되는 조명장치(4)에 의해 조명된다.
텔레비젼 카메라(3)로서는 리니어리 이메지센서가 내장된 전자 카메라가 사용되며, 이 카메라(3)는 송달기구(1)의 송달방향과 직교하는 방향에 따라서 피인식물(2)상의 인쇄를 주사(走査)한다. 이 카메라(3)로부터 출력되는 영상정보(화상)는 제 1 도시 결함 검출장치(5)에 의해 처리되며, 그것으로 피인식물(2)의 인쇄의 좋고 나쁨이 판정된다.
결함검출장치(5)는 AGC 장지(AGC CIRCUTI)(6), 윤곽 추출회로(OUTLINE EXTRACTION CIRCUIT)(7), 결여성 결함인식부(SHORT DEFECT RECOGNIZING UNIT)(8), 결여성 결함판정회로(SHORT-DEFECT DETERMINING CIRCUIT)(9), 비산성 결함인식부(SPLASHING DEFECT RECOGNIZING UNIT)(10), 비산성 결함판정회로(SPLASHING DEFECT DETERMING CIRCUIT)(11), 및 제어회로(CONTROL CIRCUIT)(12)를 구비하고 있다.
AGC 장치(6)는 텔레비젼 카메라(3)의 출력단에 접속되며, 결함 검출장치(5) 전체의 이득(gain) 변동에 대하여 송신출력의 일정화를 도모하기 위하여 사용되고 있다. 윤곽추출회로(7)는 AGC 장치(6)의 출력단에 접속되어 있다. 이 윤곽 추출회로(6)는 미분회로도이며, 텔레비젼 카메라(3)로부터 출력되는 신호의 전부를 거두어 들여서 이 신호의 변화를 강조하며, 그것으로 화상의 윤곽데이터를 추출한다.
결여성 결함인식부(8)는 제 1 도 및 제 2 도시와 같이 제 1 패턴 확대처리회로(FIRST PATTERN ENLARGEMENT CIRCUIT)(15), 제 1 마스터 패턴메모리(FIRST MASTER PATTERN MEMORY)(16) 및 제 1 패턴매칭회로(FIRST PATTERN MATCHING CIRCUIT)(17) 로서 형성되고 있다. 제 1 패턴확대 처리회로(15)는 윤곽 추출회로(7)의 출력단에 접속하여 마련되어 있다. 이 패턴확대처리회로(15)는 피인식물(2)의 인쇄의 흐트러짐 및 송달기구(1)의 정밀도에 의거한 오차를 허용하기 때문에 화상의 윤곽에 관계되는 데이터를 세로 방향 및 가로 방향으로 확대 처리하기 위한 회로이며, 그 확대치수는 초기의 흐트러짐이나 제품의 송달정밀도에 의거한 다소의 오차를 허용할 수 있다. 이 확대치수는 초기 설정시에 지정된다. 이 패턴확대 처리회로(15)에 의해 윤곽 패턴이 확대처리되어 피인식패턴이 형성된다. 또한, 윤곽 추출회로 및 패턴 확대처리 회로등은 허가된 미국특허출원 번호 07/208,097에 설명되어 있다.
제 1 마스터 패턴메모리(16)는 윤곽 추출회로(7)의 출력단에 접속되며, 기입 및 판독이 된 메모리이다. 이 패턴메모리(16)에는 눈으로 보거나 다른 적당한 검사에 의해 우량품으로 판단된 제품에서 윤곽 추출회로(7)에 의해 추출된 마스터 윤곽데이터가 수납된다. 메모리(16)는 같은 종류의 피인식물(2)에 관한 검사가 행하여지고 있는 사이에는 수납된 마스터 윤고가데이터를 변경하지 않도록 유지한다.
제 1 패턴 매칭회로(17)는 제 1 패턴 확대처리회로(15)의 출력단자 제 1 마스터 패턴 메모리(16)의 출력단에 접속되어 있다. 이 매칭회로(17)는 제 1 마스터(16)으로부터 판독된 마스터 윤곽데이터와 제 1 패턴 확대처리 회로(15)에서 얻은 피인식 패턴 데이터와를 비교 대조하여 이들이 패턴이 일치하고 있는지 여부를 판정한다.
결여성 판정회로(9)는 제 1 패턴매칭 회로(17)의 출력단에 접속된다. 결여성 결함판정회로(9)는 결여성 결함인식부(8)에 의해 인식된 결함정보에 관계되는 사이즈를 확인하여서 그것이 결함인지 여부를 판정한다. 또한, 결함의 사이즈는 초기 설정시에 있어서 판정회로(9)에 설정된다.
비산성 결함 인식부(10)는 제 1 도 및 제 3 도시와 같이 제 2 패턴 확대처리회로(21), 제 2 마스터 패턴 메모리(22) 및 제 2 패턴 매칭회로(23)로서 구성되어 있다.
제 2 패턴 확대처리회로(SECOND PATTERN ENLARGEMENT CIRCUIT)(21)는 윤곽 추출회로(7)의 출력단에 접속되어 있다. 이 제 2 패턴 확대처리회로(21)는 제 1 패턴확대처리 회로(15)와 같은 구성이며, 윤곽을 확대하기 위하여 윤곽데이터를 확대처리하여 마스터 패턴데이터를 형성한다.
제 2 마스터 패턴 메모리(SECOND MASTER PATTERN MEMOPR)(22)는 제 2 패턴 확대처리회로(21)의 출력단에 접속되어 있다. 이 메모리(22)도 기입 및 판독이 되는 메모리이며, 이 메모리(22)로 눈으로 보거나 다른 적당한 검사에 의해 우량품으로 판단되 제품에서 추출되며, 처리회로(21)에 의해 처리될 수 있는 마스터 확대 패턴 데이터가 수납된다. 이 메모리(22)에 수납된 마스터 확대 데이터도 같은 종류의 피인식물(2)에 관한 검사가 행하여지고 있는 사이는 변경되지 않도록 유지된다.
제 2 패턴 매칭 회로(SECOND PATTERN MATCHING CIRCUIT)(23)는 윤곽 추출회로(7)의 출력단과 제 2 마스터 패턴 메모리(22)의 출력단에 접속되어 있다. 이 매칭회로(23)는 제 2 마스터 패턴 메모리(22)로부터 판독된 마스터 확대패턴데이터와 윤곽 추출회로(7)에 의해 얻어진 피인식물(2)에 관계되는 윤곽데이터와를 비교 대조하여 이들 패턴 데이터가 일치하고 있는지 여부를 결정한다.
비산성 결함판정회로(11)는 제 2 패턴매칭회로(23)의 출력단에 접속되어 있다. 이 제 2 패턴매칭회로(23)는 비산성 결함인식부(10)에 의해 인식된 결함정보에 관계되는 사이즈를 확인하여서 이 사이즈가 결함인지 여부를 판정한다. 또한, 결함의 사이즈는 초기 설정시에 있어서 판정회로(11)에 설정된다.
제어회로(12)는 AGC장치(6), 윤곽 추출회로(7), 결여성 결함인식부(8), 결여성 결함 판정회로(9), 비산성 결함 인식부(10) 및 비산성 결함 판정회로(11)의 전반에 대해서 동작을 제어한다.
다음에 상기 구성의 장치를 사용하여 결함검출을 하는 경우를 설명한다.
우선, 필요한 초기 설정조작이 이루어진 후에 눈으로 보거나 다른 적당한 검사에 의해 우량품으로 판단된 제품의 인쇄가 텔레비젼 카메라(3)에 의해 촬상되며, 이 우량품(마스터)에 관계되는 화상데이터로부터 윤곽추출회로(7)에 의해 윤곽데이터가 추출된다. 추출된 윤곽데이터는 제 2 도 및 제 3 도시와 같이 결여성 결함인식부(8) 및 비산성 결함인식부(10)에 수납된다.
즉, 결여성 결함인식부(8)에 있어서는 윤곽 추출회로(7)로부터 추출되며, 제 2 도에 부호(a)에 의해 표시되는 마스터 화상데이터, 예컨대 문자 A의 윤곽(b)데이터가 마스터 윤곽데이터로서 제 1 마스터 패턴 메모리(16)에 수납되어 이 메모리(16)에 기억된다. 비산성 결함 인식부(10)에서는 윤곽 추출회로(7)로부터 출력되며, 제 3 도에 부호(a)에 의해 표시되는 마스터 화상 A 의 윤곽(b)데이터가 제 2 패턴 처러회로(21)에 의해 확대 처리되며, 이 확대 처리에 의해 얻어진 마스터 확대 패턴(c) 데이터가 제 2 마스터 패턴 메모리(22)에 수납되어, 이 메모리(22)에 기억된다.
이와같은 마스터 화상에 관계되는 패턴 설정뒤에 송달기구(1)에 의해 피인식부(2)가 차례차레 텔레비젼 카메라(3)의 시야에 보내져서 촬영된다. 텔레비젼 카메라(3)에서 출력되는 결함화상(d) 데이터가 AGC 자치(6)를 경유하여 윤곽 추출회로(7)에 입력되면 윤곽 추출회로(7)에 의해 화상(d)데이터에서 윤곽(e)데이터가 추출되며, 이 윤곽(d)데이터는 결여성 결함 인식부(8) 및 비산성 결함 인식부(10)에 공급된다. 그러므로, 결여성 결함인식부(8)에서는 제 2 도시와 같이 윤곽 추출회로(7)로부터 출력되는 피인식물(2)에 관계되는 윤곽(e)데이터는 제 1 패턴 확대처리회로(15)에서 확대 처리된다. 이 확대처리에 의해 얻어진 피인식패턴(f) 데이터는 제 1 패턴 매칭회로(17)에 공급된다. 이 회로(17)로의 피인식 패턴(f) 데이터의 입력과 제 1 마스터 패턴 메모리(16)로부터 제 1 패턴 매칭회로(17)로의 마스터 화상 A에 관계되는 마스터 윤곽(b)데이터의 판독은 타이밍을 일치시켜서 행하여지며, 그것으로 두 패턴이 비교 대조된다. 그러면, 화상(d)가 제 2 도시와 같이 결여성의 결함(X)(이 결함 X는 확대처리회로(15)에 마련되어 있는 확대치수보다 크다)를 보유하고 있는 경우에는 마스터화상에 관계되는 윤곽(b)의 일부가 확대된 피인식 패턴(f)로부터 비어져나와 있다. 제 1 패턴 매칭회로(17)는 이 비어져 나와 있는 부분을 결여성의 결함정보로서 인식한다.
다음에 이 결함정보는 결여성 결함판정 회로(9)에 공급됨으로 이 결여성 결함판정회로(9)에서 결함정보가 진짜 결함인지 여부가 판정된다. 이 판정은 입력된 결함정보가 소정 사이즈 이상의 사이즈를 표시하는지 여부에 의해 행하여진다.
비산성의 결함인식부(10)에 공급된 피인식물(2)에 관계되는 화상(d)의 윤곽(e) 데이터는 확대처리되는 일 없이 그대로 제 2 패턴 매칭회로(23)로 공급된다. 이 회로(23)로의 피인식물(2)에 관계되는 윤곽(e)데이터의 입력과 제 2 마스터 패턴 메모리(22)에서 제 2 패턴 매칭회로(23)로의 마스터 화상 A에 관계되는 마스터 확대 패턴(e) 데이터의 판독은 타이밍을 일치시켜서 행하여지며, 그것으로 두 패턴이 비교 대조된다. 그러므로, 화상(d)가 제 3 도시와 같이 비산성의 결함(Y)를 보유하고 있는 경우에는 피인식물(2)에 관계되는 윤곽(e') 의 일부가 마스터 확대 패턴(e)로부터 비어져나온다. 제 2 패턴 매칭 회로(23)는 이 비어져 나온 부분을 비산성의 결함정보로하여 인식한다. 이 결함정보는 비산성 결함 판정회로(11)에 공급됨으로, 이 회로(11)에 의해 결함정보가 진짜 결함인지 여부가 판정된다. 이 판정은 상기 결여성 결함 정보와 똑같이 입력된 결함정보가 소정 사이즈 이상의 사이즈를 표시하는지 여부에 따라 행하여진다.
상기 실시예에서는 각 결함에 따른 인식부의 각각에 전용 패턴 확대처리 회로가 마련되어 있는데, 제 4 도시와 같이 하나의 패턴 확대 처리회로가 두 인식부(8) 및 (10)에 공용 되어도 가하다. 이 실시예에 의하면, 하나의 패턴 확대 처리회로(15)가 선택 스윗치(25)에 접속된다. 선택 스위치(25) 의 접점(a) 및 (b)는 결여성 결함인식부(8)의 제 1 패턴 매칭 회로(17) 및 비산성 결함 인식부(10)의 제 2 마스터 패턴 메모리 (22)에 각각 접속된다.
이 패턴 매칭장치에 있어서, 최초에 선택 스췻치(25)가 접점(b)으로 전환되며, 마스터화상의 윤곽(b)데이터가 패턴 확대 처리회로(15)에 의해 확대처리된다. 패턴 확대처리회로(15)에서 출력되는 확대 마스터 패턴(c)은 선택 스위치(25)를 통하여 제 2 패턴 메모리(22)에 기억된다. 기억된 마스터 패턴(c) 데이터는 윤곽추출회로(7)로부터 축차 입력되는 피인식 패턴(e')의 각각과 대조하기 위하여 사용된다.
확대 마스터 패턴(c) 데이터가 제 2 마스터 패턴 메모리(22)에 기억된 후에 선택 스위치(25)가 접점(a)으로 전환된다. 이때 패턴 확대처리회로(15)는 윤곽 추출회로(7)로부터 축차 입력되는 피인식 패턴(e) 데이터를 확대처리 한다. 확대처리된 피인식패턴(f) 데이터는 스윗치(25)를 통하여 제 1 패턴 매칭 회로(17)에 입력되며, 제 1 패턴 메모리(16)에 기억된 제 1 마스터 패턴(b) 데이터와 대조된다.
상기와 같이 제 4 도의 실시예에 의하면, 만일 패턴확대 처리회로(15)가 제 2 마스터 패턴 메모리(22)에 기억하기 위한 마스터 윤곽(b) 데이터를 한번 확대 처리하고, 또한, 윤곽 추출회로(7)에서 축차 발생되는 피인식 화상데이터의 윤곽(e)데이터를 확대 처리하기 위하여 사용된다.
이상 설명한 본 발명의 패턴 매칭방법에 의하면, 준비된 마스터 화상으로부터 추출된 윤곽패턴을 마스터 윤곽으로서 기억하고, 이 마스터 윤곽과 피인식물에 관계해서 얻은 윤곽 데이터를 비교 대조하는 구성에 의해 이 대조에서 피인식 패턴에으로부터 비어져나온 마스터 윤곽의 부분을 결함정보로서 인식함으로 결여성 결함을 인식할 수 있다. 준비된 마스터 화상으로부터 추출된 윤곽을 마스터 윤곽으로서 기억하며, 이 패턴과 피인식물의 윤곽을 확대함으로서 형성한 피인식패턴을 비교 대조함으로서 이 대조에서 피인식 패턴으로부터 비어져나온 마스터 윤곽의 부분을 결함정보로서 인식할 뿐만 아니라, 이 처리와 병열적으로 마스터 화상으로부터 추출된 윤곽을 확대하여 형성한 마스터 확대 패턴을 기억하며, 피인식물의 윤곽을 그대로 기억된 마스터 확대패턴과 비교 대조하는 구성에 의해 이 대조에서 마스터 확대패턴으로부터 비어져나온 피인식 패턴의 부분을 결함정보로서 인식할 수가 있으며, 따라서 결여성 및 비산성 결함정보를 병열적으로 인식할 수 있다.
윤곽 추출회로, 패턴 확대 처리회로, 제 1, 2 메모리, 제 1, 2 패턴 매칭 회로를 구비함으로 결여성 및 비산성의 결함정보를 병열적으로 인식하는 매칭장치를 제공할 수 있다.

Claims (16)

  1. 기준화상 및 피인식화상을 광학적으로 주사하며, 마스터 화상 데이터 및 피인식 화상데이터를 출력하는 스텝과 마스터 화상 데이터로부터 상기 기준화상의 윤곽을 나타내는 마스터 윤곽 데이터를 추출하는 스텝과 피인식화상 데이터로부터 상기 피인식화상의 윤곽을 나타내는 피인식 윤곽 데이터를 추출하는 스텝과 피인식 윤곽을 확대하기 위한 상기 피인식 윤곽 데이터를 확대 처리하며, 피인식 윤곽 데이터를 생성하는 스텝과 상기 마스터 윤곽 데이터와 상기 피인식 윤곽 데이터와를 대조하며, 상기 마스터 윤곽의 일부가 상기 피인식 윤곽에서 비어져 나왔을 때 상기 피인식 화상이 결함이라고 판정하고, 결함정보를 출력하는 판정 스텝으로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  2. 제 1 항 기재에 있어서, 상기 판정 스텝은 상기 결함정보가 진짜 결함정보인지 여부를 판정하는 스텝을 포함하는 패턴 매칭 방법.
  3. 제 1 항 기재에 있어서, 상기 판정 스텝은 상기 마스터 윤곽 데이터 및 상기 피인식 윤곽 데이터를 상호 동기하여 거두어 들이며, 이들 양 데이터를 비교하는 스텝으로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  4. 기준화상 및 피인식화상을 광학적으로 주사하며, 마스터 화상 데이터 및 피인식 화상데이터를 출력하는 스텝과 마스터 화상 데이터로부터 상기 기준화상의 윤곽을 나타내는 마스터 윤곽 데이터를 추출하며, 마스터 윤곽 데이터를 생성하는 스텝과 상기 피인식화상 데이터로부터 상기 피인식 화상의 윤곽을 나타내는 피인식 윤곽 데이터를 추출하는 스텝과 상기 마스터 윤곽 및 상기 피인식 윤곽을 확대하기 위하여 상기 마스터 윤곽 데이터 및 상기 피인식 윤곽 데이터를 확대 처리하며, 확대 마스터 윤곽 데이터 및 확대 피인식 윤곽 데이터를 생성하는 스텝과 상기 마스터 윤곽데이터와 상기 확대 피인식 윤곽 데이터와를 대조하며, 상기 마스터 윤곽의 일부가 상기 피인식 윤곽으로부터 비어져 나왔을 때 상기 피인식 화상이 화상의 결여를 표시하는 결여성 결함을 보유한다고 판정하며, 제 1 결함정보를 출력하는 제 1 판정 스텝과 상기 확대 마스터 윤곽 데이터와 상기 피인식 화상 데이터와를 대조하며, 상기 피인식 화상의 일부가 상기 확대 마스터 윤곽으로부터 비어져 나왔을 때 상기 피인식 화상이 다른 종류의 화상을 포함한 비산성 결함이라고 판정하며, 제 2 결함 정보를 출력하는 제 2 판정 스텝으로서 구성되는 패턴 매칭 방법.
  5. 제 4 항 기재에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 판정 스텝은 상기 제 1 및 제 2 결함정보가 진짜 결함정보인지 여부를 판정하는 스텝을 포함하는 패턴 매칭 방법.
  6. 제 4 항 기재에 있어서, 상기 제 1 판정 스텝은 상기 마스터 윤곽 데이터 및 상기 확대 피인식 윤곽 데이터를 상호 동기하여 거둬 들이며, 이들 양 데이터를 비교하는 스텝으로 구성되며, 상기 제 2 판정은 스텝은 상기 확대 마스터 윤곽 데이터 및 상기 피인식 윤곽 데이터를 상호 동기하여 거둬들이며, 이들 양 데이터를 비교하는 스텝으로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  7. 기준화상 및 피인식화상을 광학적으로 주사하며, 마스터 화상 데이터 및 피인식 화상데이터를 출력하는 수단과 상기 마스터 화상 데이터로부터 상기 기준 화상의 윤곽을 나타내는 마스터 윤곽 데이터를 추출하며, 상기 피인식화상 데이터로부터 상기 피인식 화상의 윤곽을 나타내는 피인식 윤곽 데이터를 추출하며, 출력하는 윤곽데이터 출력 수단과 상기 피인식 윤곽을 확대하기 위하여 상기 피인식 윤곽 데이터를 확대 처리하며, 피인식 윤곽 데이터를 생성하는 확대 윤곽 데이터 출력 수단과 상기 마스터 윤곽데이터와 상기 확대 피인식 윤곽 데이터와를 대조하며, 상기 마스터 윤곽의 일부가 상기 피인식 윤곽으로부터 비어져 나와 있을때 상기 피인식 화상이 결함이라고 판정하며, 결함정보를 출력하는 화상 판정 수단으로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  8. 제 7 항 기재에 있어서, 상기 화상 판정 수단은 상기 결함정보가 진짜 결함정보인지 여부를 판정하는 판정회로를 포함하는 패턴 매칭 방법.
  9. 제 7 항 기재에 있어서, 상기 화상 판정 수단은 상기 마스터 윤곽데이터 및 상기 확대 피인식 윤곽 데이터를 상호 동기하여 거둬들이며, 이들 양 데이터를 비교하는 패턴 매칭 회로로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  10. 제 7 항 기재에 있어서, 상기 윤곽 데이터 출력수단은 상기 마스터 윤곽데이터를 기억하는 메모리 수단을 보유하며, 상기 화상 판정수단은 상기 메모리 수단으로부터 판독하는 상기 마스터 윤곽데이터와 이 판독에 동기하여 상기 확대 윤곽데이터 출력수단으로부터 입력되는 상기 확대 피인식 윤곽 데이터와를 비교하는 패턴 매칭 회로로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  11. 제 7 항 기재에 있어서, 상기 윤곽 데이터 출력수단은 상기 피인식 화상에 대응하는 소정의 패턴이 인쇄된 복수의 피검사 대상을 광학적으로 주사하는 이메지센서 수단으로 구성되는 패턴 매칭 장치.
  12. 기준화상 및 피인식화상을 광학적으로 주사하며, 마스터 화상 데이터 및 피인식 화상데이터를 출력하는 수단과 상기 마스터 화상 데이터로부터 상기 기준화상의 윤곽을 나타내는 마스터 윤곽 데이터를 추출하며, 상기 피인식화상 데이터로부터 상기 피인식 화상의 윤곽을 나타내는 피인식 윤곽 데이터를 추출하며, 출력하는 윤곽데이터 출력 수단과 상기 마스터 윤곽 및 상기 피인식 윤곽을 확대하기 위하여 상기 마스터 윤곽 데이터 및 상기 피인식 윤곽 데이터를 확대 처리하며, 확대 마스터 윤곽 데이터 및 확대 피인식 윤곽데이타를 생성하는 확대데이터 출력수단과 상기 마스터 윤곽데이터와 상기 확대 피인식 윤곽 데이터와를 대조하며, 상기 마스터 윤곽의 일부가 상기 피인식 윤곽으로부터 비어져나와 있을때, 상기 피인식 화상이 화상의 결여를 표시하는 결여성 결함을 보유한다고 판정하며, 제 1 결함정보를 출력하는 제 1 판정수단과 상기 확대 마스터 윤곽데이터와 상기 피인식 화상 윤곽데이터와를 대조하며, 상기 피인식화상의 일부가 상기 확대 마스터 윤곽으로부터 비어져나왔을 때 상기 피인식화상이 다른 종류의 화상을 포함한 비산성 결함이라고 판정하며, 제 2 결함정보를 출력하는 제 2 판정수단으로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  13. 제 12 항 기재에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 판정 수단은 상기 제 1 및 제 2 결함정보가 진짜 결함정보인지 여부를 판정하는 제 1 및 제 2 판정회로를 포함하는 패턴 매칭 방법.
  14. 제 12 항 기재에 있어서, 상기 제 1 판정 수단은 상기 마스터 윤곽데이터 및 상기 확대 피인식 윤곽데이터를 상호 동기하여 거둬들이며, 이들 양 데이터를 비교하는 제 1 패턴 매칭 회로로 구성되며, 상기 제 2 판정은 수단은 상기 확대 마스터 윤곽데이터 및 상기 피인식 윤곽데이터를 상호 동기하여 거둬들이며, 이들 양 데이터를 비교하는 제 2 패턴 매칭 회로로 구성되는 패턴 매칭 방법.
  15. 준비된 마스터의 화상을 윤곽 추출수단에 거둬들여서 상기 화상의 윤곽을 추출하며, 이 추출에 의해 얻은 마스터 윤곽을 기억수단에 수납한후, 피인식물의 화상의 윤곽을 상기 윤곽추출수단에 의해 추출하며, 이 추출된 윤곽에 대하여 패턴 확대 처리를 하여 제 1 피인식 패턴을 형성하며, 이 피인식패턴과 상기 마스터 윤곽과를 비교 대조하는 제 1 패턴 매칭 처리와 상기 윤곽 추출수단에 의해 추출된 상기 마스터 화상의 마스터 윤곽에 대하여 확대처리를 하여 얻은 마스터 확대 패턴을 제 2 기억수단에 수납한후, 피인식물의 화상의 윤곽을 상기 윤곽 추출수단에 의해 추출하여 제 2 피인식 패턴을 형성하며, 이 제 2 피인식 패턴과 상기 마스터 확대 패턴과를 비교 대조하는 제 2 패턴 매칭 처리와를 병렬적으로 행하는 패턴 매칭 방법.
  16. 준비된 마스터의 화상 및 피인식물의 화상을 따로따로 거둬들여서 상기 화상의 윤곽을 추출하는 윤곽 추출수단과 상기 윤곽추출수단에 접속되며, 추출된 윤곽에 대하여 확대처리를 하는 패턴 확대 처리수단과 상기 윤곽 추출수단에 접속되며, 상기 마스터 화상에 관하여 추출된 윤곽을 마스터 윤곽으로서 수납하는 제 1 기억수단과 상기 제 1 기억수단의 출력단과 상기 패턴 확대 처리수단의 출력단에 접속되며, 상기 마스터 윤곽과 상기 패턴확대 처리수단으로 얻은 상기 피인식물에 관한 제 1 피인식 패턴과를 비교 대조하는 제 1 패턴 매칭 수단과 상기 패턴확대 처리수단의 출력단에 접속되며, 상기 패턴 확대 처리수단으로 얻은 마스터 화상에 관한 마스터 확대 패턴을 수납하는 제 2 기억수단과 상기 제 2 기억수단의 출력단과 상기 윤곽 추출수단의 출력단에 접속되며, 상기 마스터 화상에 관한 마스터 확대 패턴과 상기 윤곽 추출수단으로 얻은 상기 피인식물에 관한 제 2 패턴 매칭 수단으로 구성되는 패턴 매칭 장치.
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