KR930008996A - 렌즈형 마스크 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 렌즈형 마스크 제조방법에 관한 것으로, 투명재질의 기판에 비투광성 금속물질을 조성하고 포토레지스트를 도포한후 노광, 현상하여 레지스트패턴을 형성하며 이를 마스크로 비투광성 금속물질을 에칭하여 광차단막을 형성하고, 상기 기판 전면에 새로운 레지스트를 도포한후 기판의 배면에서 노광처리하여 포토레지스트패턴을 형성하고 상기 포토레지스트패턴을 화학약품으로 리플로우한후 수축시켜 광차단막 사이의 공간부에 렌즈형의 투명막을 형성하는 것을 특징으로 한다.

따라서 마스크를 통과한 빛을 투명막의 렌즈역할로 인하여 광차단막 엣지부근의 회절광을 투명막 중앙으로 집속시킴으로써 콘트라스트를 향상시킬 수 있어 고해상도를 달성하여 64M급 이상의 고집적 메모리 제작이 가능하다.

Description

렌즈형 마스크 제조방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제2도는 위상시프트 마스크의 단면도 및 마스크상의 광진폭, 웨이퍼상의 광진폭, 웨이퍼상의 광강도를 나타낸 도면,

제3도 (A) 내지 제3도 (F)는 본 발명에 의한 렌즈형 마스크의 제조 공정순서를 나타낸 단면도이다.

Claims (3)

1. 투명재질로 된 기판(1)상에 비투광성 금속물질(2)을 코팅하는 공정과 상기 코팅공정후 포토레지스트를 도포하고 마스터 마스크를 사용하여 상기 포토레지스트막을 노광후 현상하여 포토레지스트패턴(3)을 형성하는 공정; 상기 포토레지스트패턴(3)을 마스크로 하여 상기 비투광성 금속물질(2)을 에칭한후 상기 포토레지슬패턴(3)을 제거하여 광차단막(2a)을 형성하는 공정; 상기 기판(1) 전면에 포토레지스트(4)를 도포한후 기판(1)의 배면에서 노광 처리하는 공정; 상기 노광처리후 현상하여 포토레지스트패턴(4a´)을 형성하는 공정; 상기 포토레지스트패턴(4a´)을 리플로우한후 수축시켜 상기 광차단막(2a) 사이의 공간부에 렌즈형상의 투명막(4a)을 형성하는 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 렌즈형 마스크 제조방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 렌즈형상의 투명막(4a)은 네가티브형의 포토레지스트로 형성되는 것을 특징으로 하는 렌즈형 마스크 제조방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 렌즈형상의 투명막(4a)은 상기 포토레지스트패턴(4a´)을 IPA(이소프로필렌), 알콜 등의 화학약품을 이용하여 리플로우한후 수축시켜 상기 광차단막(2a) 엣지를 일부 덮는 형태로 형성됨을 특징으로 하는 렌즈형 마스크의 제조방법.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.