KR930008519A - 경화 조성물 및 그를 사용한 섀도 마스크 제조방법 - Google Patents

경화 조성물 및 그를 사용한 섀도 마스크 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR930008519A
KR930008519A KR1019920018147A KR920018147A KR930008519A KR 930008519 A KR930008519 A KR 930008519A KR 1019920018147 A KR1019920018147 A KR 1019920018147A KR 920018147 A KR920018147 A KR 920018147A KR 930008519 A KR930008519 A KR 930008519A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
component
group
molecule
reaction product
Prior art date
Application number
KR1019920018147A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100257206B1 (ko
Inventor
이찌로 이가라시
히로시 사사끼
데쓰지 지쓰마쓰
히로유끼 오호따
마사노부 사또
Original Assignee
가메따니 도시아끼
도아 고세이 가가꾸 고오교 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP3284021A external-priority patent/JP2649621B2/ja
Priority claimed from JP3284020A external-priority patent/JP2592733B2/ja
Application filed by 가메따니 도시아끼, 도아 고세이 가가꾸 고오교 가부시끼가이샤 filed Critical 가메따니 도시아끼
Publication of KR930008519A publication Critical patent/KR930008519A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100257206B1 publication Critical patent/KR100257206B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/04—Chromates
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02—Local etching
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
    • H01J2229/07—Shadow masks
    • H01J2229/0727—Aperture plate
    • H01J2229/075—Beam passing apertures, e.g. geometrical arrangements
    • H01J2229/0755—Beam passing apertures, e.g. geometrical arrangements characterised by aperture shape
    • H01J2229/0761—Uniaxial masks having parallel slit apertures, i.e. Trinitron type

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(a) 분자내에 하나의 카르복시기 및 하나의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, (b) 분자내에 둘이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, (c) 균염제, (d) 연쇄 이동제 및/또는 (e) 3급 아민계 광개시제의 상기 성분(a), (b), (c)와 (d) 및/또는 (e)를 함유하는 경화 조성물 및 상술한 경화 조성물을 이차 에칭 내성물질로 사용하는 두에칭 단계를 함유하는 섀도 마스크 제조방법.

Description

경화 조성물 및 그를 사용한 섀도 마스크 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 이후 기재하는 실시예에서 철판으로부터 제조되는 슬릿형의 매우 작은 구멍을 갖는 섀도 마스트를 나타내는 개요도이다,
제2도는 제1도의 슬릿형의 매우 작은 구멍을 측면에서 본 확대도이다.

Claims (15)

  1. (a) 분자내애 하나의 카르복시기 및 하나의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, (b) 분자내에 2개 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, (c) 균염제, 및 (d) 연쇄 이동제의 상기 성분(a), (b), (c) 및 (d)를 함유하는 경화 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 성분(a)가 (A1)이 염기산 또는 그의 무수물과 분자의 말단에 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트와의 반응 생성물 및 (A2)락톤과 (메트)아크릴산과의 반응 생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 경화 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 성분(b)가 (B1)폴리올 (메트)아크릴레이트, (B2)폴리에스테르 다가 알콜과 (메트)아클리산과의 반응생성물 및 (B3)분자내 2이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산과의 반응생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 경화 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 성분(a)와 성분(b)의 중량비가 20 : 80∼70 : 30인 경화 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 성분(c)가 불소-함유 화합물 및 실리콘 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 경화 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 반응성 희석제를 추가로 함유하는 경화 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 성분(d)가 메르캅탄, 히드록시기-치환 메르캅탄 및 메로캅토카르복실산으로 구성된 군으로부터 선택되고 성분(a) 및 성분 (b)의 총 100중량부당 0.01∼5중량부의 양으로 혼합되는 경화 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 광개시제를 추가로 함유하는 경화 조성물.
  9. (a) 분자내에 하나의 카르복시기 및 하나의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, (b) 분자내에 2이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물, (c) 균염재, 및 (e) 3급 아민계 광개시제의 상기 성분((a), (b), (c) 및 (e)를 함유하는 자외선 경화 조성물.
  10. 재9항에 있어서, 성분(a)가 (A1)이 염기산 또는 그의 무수물과 분자의 말단에 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트와의 반응 생성물 및 (A2) 락톤과 (메트)아크릴산과의 반응 생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 경화 조성물.
  11. 제9항에 있어서, 성분(b)가 (B1)폴리올 (메트)아크릴레이트, (B2)폴리에스테르 다가 알콜과 (메트)아클리산과의 반응 생성물 및 (B3)분자내 2이상의 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물과 (메트)아크릴산과의 반응 생성물로 구성된 군으로부터 선택되는 경화 조성물.
  12. 제9항에 있어서, 성분(a)와 성분(b)의 중량비가 20 : 80∼70 : 30인 경화 조성물.
  13. 제9항에 있어서, 성분(c)가 불소-함유 화합물 및 실리콘 화합물로 구성된 군으로부터 선택되는 경화 조성물.
  14. 제9항에 있어서, 반응성 희석제를 추가로 함유하는 경화 조성물.
  15. (1) 얇은 금속판과 판의 양쪽면상에 소망하는 패턴의 에칭 내성필름으로 구성된, 섀도 마스크를 위한 금속시이트의 적어도 한면에 에칭하여 금속 시이트의 면에 제공된 노출된 장소에 움푹팬 부분을 형성하는 1차에칭단계, (2) 1차 애에 단계(1)에서 형성된 움푹팬 부분을 갖는 금속 시이트의 단면 또는 양면중의 한면상에 2차 에칭 내성 물질을 코우팅 하는 단계, (3) 단계(2)에서 2차 에칭 내성물질을 도포하지 않은 금속 시이트의 면상에 에칭하여, 단계(1)에서 형성된 금속 시이트면의 다른면의 움푹팬부분과 작은 교환 구멍을 형성하는 2차 에칭단계 및, (4) 알칼리 수용액을 사용하여 모든에칭 내성 필름 및 물질을 제거하는 단계의 상기 단계(1)∼(4)를 포함하고 제1항 또는 제9항의 경화 조성물을 단계(2)에서 2차 에칭 내성 물질로 사용하는 섀도 마스크의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920018147A 1991-10-04 1992-10-02 경화 조성물 및 그를 사용한 섀도 마스크 제조방법 KR100257206B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP91-284020 1991-10-04
JP91-284021 1991-10-04
JP3284021A JP2649621B2 (ja) 1991-10-04 1991-10-04 裏止め材用紫外線硬化型樹脂組成物及びシャドウマスクの製造方法
JP3284020A JP2592733B2 (ja) 1991-10-04 1991-10-04 硬化性樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930008519A true KR930008519A (ko) 1993-05-21
KR100257206B1 KR100257206B1 (ko) 2000-06-01

Family

ID=26555286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920018147A KR100257206B1 (ko) 1991-10-04 1992-10-02 경화 조성물 및 그를 사용한 섀도 마스크 제조방법

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5336574A (ko)
KR (1) KR100257206B1 (ko)
NL (1) NL194278C (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6010824A (en) * 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
JP2001092129A (ja) * 1999-09-24 2001-04-06 Toshiba Corp 紫外線硬化性樹脂組成物
KR100400489B1 (ko) * 2000-06-27 2003-10-01 에스에스씨피 주식회사 고온에서 내에칭성이 우수한 섀도우 마스크용 광경화성감광성 수지 조성물 및 그를 사용하여 제조된 섀도우 마스크
KR100546492B1 (ko) * 2001-08-17 2006-01-26 에스에스씨피 주식회사 섀도우 마스크용 광경화형 에칭저항제 조성물
JP2004210932A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Daicel Chem Ind Ltd 硬化性樹脂組成物及び硬化物
JP6010352B2 (ja) 2012-06-07 2016-10-19 株式会社オートネットワーク技術研究所 硬化性増感剤、光硬化材料、硬化物及びワイヤーハーネス材料

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3689427A (en) * 1969-08-27 1972-09-05 Okura Industrial Co Ltd Polymerizable mixtures comprising a bivalent metal salt of an acrylate- or methacrylate-phthalate ester of an alkylene glycol
US3679500A (en) * 1970-08-07 1972-07-25 Dainippon Screen Mfg Method for forming perforations in metal sheets by etching
US4180598A (en) * 1978-07-13 1979-12-25 Rohm And Haas Company Radiation-curable coating compositions and method of coating metal substrates therewith
EP0031305B1 (de) * 1979-12-22 1985-10-02 Ciba-Geigy Ag Acrylathaltige Zusammensetzungen und deren Polymerisation
US4391686A (en) * 1980-08-25 1983-07-05 Lord Corporation Actinic radiation curable formulations
US4632726A (en) * 1984-07-13 1986-12-30 Bmc Industries, Inc. Multi-graded aperture mask method
JPS6317908A (ja) * 1986-07-11 1988-01-25 Toagosei Chem Ind Co Ltd 紫外線又は電子線硬化性組成物
JPH0679463B2 (ja) * 1988-04-13 1994-10-05 東亞合成化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JPH0730270B2 (ja) * 1988-10-20 1995-04-05 東亞合成株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JPH0651736B2 (ja) * 1988-11-15 1994-07-06 東亞合成化学工業株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JPH03272537A (ja) * 1990-03-22 1991-12-04 Dainippon Printing Co Ltd シャドウマスクの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
NL194278B (nl) 2001-07-02
NL9201708A (nl) 1993-05-03
NL194278C (nl) 2001-11-05
US5336574A (en) 1994-08-09
KR100257206B1 (ko) 2000-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4174307A (en) Room-temperature-radiation-curable polyurethane
JP3253155B2 (ja) 放射線硬化性インキ組成物
US4340657A (en) Novel radiation-sensitive articles
US4886840A (en) Diluent for UV and EB curable resins
US4668713A (en) Conformal coating systems
JP5069465B2 (ja) 光架橋性ポリウレタン
KR950033677A (ko) 광-상형성성 레지스트 잉크 및 그의 경화제품
KR950003402A (ko) 방사선 경화 가능한 조성물을 이용한 코팅 방법
EP0749594A4 (en) STABLE IONOMERIC PHOTO PAINT EMULSIONS, METHOD FOR THE PRODUCTION AND USE THEREOF
JP2017181894A (ja) エッチング保護用感光性組成物および金属加工板
KR930008519A (ko) 경화 조성물 및 그를 사용한 섀도 마스크 제조방법
US20140178817A1 (en) Curable coatings for photoimaging
JP2017181893A (ja) エッチング保護用感光性組成物および金属加工板
KR960017796A (ko) 메트아크릴산 트리플루오로에틸을 주성분으로 하는 광(光) 교차결합 가능 조성물과 그 제조방법
KR930702554A (ko) 압연 롤의 표면 가공방법
US5011762A (en) Photosensitive compositions having enhanced photopolymerization rate
EP0656378A4 (en) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR A PRINTING BOARD FOR CORRUGATED BOARD.
EP0434098A2 (en) Photo-curable amine-containing compositions
EP0311288A3 (en) Improvements in or relating to resin compositions curable with ultraviolet light
JP2003221420A (ja) 活性エネルギー線硬化性組成物および硬化被膜
US6143803A (en) Curable composition for back-protecting material in making shadow mask
US20070172756A1 (en) Photosensitive resin composition, photosensitive element comprising the same, process for producing resist pattern, and process for producing printed wiring board
JPH01261410A (ja) 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
EP0195767A1 (en) Composition and method for preparing a pattern of an adhesive
JPH0482002B2 (ko)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080102

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee