KR930007015A - 레이저다이오드 및 그 제조방법 - Google Patents

레이저다이오드 및 그 제조방법 Download PDF

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KR930007015A
KR930007015A KR1019910015332A KR910015332A KR930007015A KR 930007015 A KR930007015 A KR 930007015A KR 1019910015332 A KR1019910015332 A KR 1019910015332A KR 910015332 A KR910015332 A KR 910015332A KR 930007015 A KR930007015 A KR 930007015A
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KR
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compound semiconductor
laser diode
channel
layer
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KR1019910015332A
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Inventor
김종렬
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

V채널에 의해 형성되는 방도체기판의 개구폭을 V 채널 양측의 반도체 기판표면에 고농도로 형성된 반대 도전형의 이온주입영역에 의해 좁게한다. 반도체기판의 개구폭을 좁게 하므로 광의 출력모드를 안정하게 유지하면서 드레쉬홀드전류를 낮출 수 있다.

Description

레이저다이오드 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 종래 VISIS 형 레이저다이오드의 수직다면도,
제2도는 이 발명에 따른 VSIS 형 레이저다이오드의 수직 단면도.
제3(A)~(B)도는 이 발명에 따른 레이저다이오드의 제조공정이다.

Claims (6)

  1. 레이저다이오드에 있어서, 제1도전형의 화합물 반도체 기판과 상기 화합물 반도체 기판의 상붕에 형성되며 이 화합물 반도체 기판의 소정두께까지 길게 형성되는 V 채널을 가지는 제2도전형의 전류제한층과, 상기 V 채널 양측의 화합물 반도체 기판의 표면에 형성된 제2도전형의 이온주입영역과, 상기 전류제한층의 상부에 형성되어 상기 V 채널을 통해 상기 화합물 반도체 기판과 연결되는 제1도전형의 제1클래드층과, 상기 제1클래드층의 상부에 형성되는 제1 또는 제2도전형의 활성층과, 상기 활성층의 상부에 형성된 제2도전형의 제2클래드층과 상기 제2클래드층의 상부에 형성된 제2도전형의 캡층과, 상기 V 채널과 대응하는 부분을 제외한 캡층의 상부에 형성된 절연막과, 상기 절연막의 상부에 상기 노출된 캡층과 접촉하는 제2도전형 전극과, 상기 화합물 반도체 기판의 하부표면에 형성된 제1도전형 전극을 구비하는 레이저다이오드.
  2. 제1항에 있어서, 상기 화합물 반도체 기판이 GaAs 또는 InP 중 어느 하나인 레이저다이오드.
  3. 제1항에 있어서, 상기 이온주입영역이 Se 또는 Te 중 어느 하나가 주입된 레이저다이오드.
  4. 레이저다이오드의 제조방법에 있어서, 제1도전형의 화합물 반도체 기판표면의 소정부분에 제2도전형의 이온주입영역을 형성하는 공정과, 상기 이온주입영역이 양측으로 분리되도록 길게 상기 화합물 반도체 기판의 소정 두께까지 메사에 칭하여 V 채널을 형성하는 공정과, 상기 전류제한층의 상부에 상기 화합물 반도체 기판의 노즐된 부분과 접촉하는 제1도전형의 제1클래드층과 제1 또는 제2도전형의 활성층과, 제2도전형의 제2클래층과, 제2도전형의 캡층을 순차적으로 형성하는 공정과, 상기 V 채널과 대응하는 부분을 제외한 캡층의 표면에 산화막을 형성하는 공정과, 상술한 구조의 전 표면과 상기 화합물 반도체 기판의 하부표면에 제2 및 제1도전형 전극을 형성하는 공정을 구비한 레이저다이오드의 제조방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 층들을 LPE로 형성하는 레이저다이오드의 제조방법.
  6. 제4항에 있어서, 상기 산화막을 형성할때 V 채널형성과 동일한 마스크를 사용하는 레이저다이오드의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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