KR920700457A - 자기 물질 및 그 생상 방법 - Google Patents

자기 물질 및 그 생상 방법

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KR920700457A
KR920700457A KR1019910700166A KR910700166A KR920700457A KR 920700457 A KR920700457 A KR 920700457A KR 1019910700166 A KR1019910700166 A KR 1019910700166A KR 910700166 A KR910700166 A KR 910700166A KR 920700457 A KR920700457 A KR 920700457A
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KR
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alloy
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nitrogen
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KR1019910700166A
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보가틴 야코브
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원본미기재
에스 피 에스 테크놀러지스 인코포레이티드
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Abstract

내용 없음

Description

자기 물질 및 그 생산 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 Pa:Pb가 1:16이고 연마 시간이 30분인, 본 발명에 따라 생산된 Nd-F3-B 분말을 위한 입자 크기와 형태 분포를 도시하는 그래프이다,
제2도는 Pa-Pb가 1:16이고 연마시간이 60분인, 본 발명에 따라 생산된 Nd-Fe-B 분말을 위한 입자 크기와 형태 분포를 도시하는 그래프이다,
제3도는 Pa:Pb가 1:16이고 연마시간이 90분인, 본 발명에 따라 생산된 Nd-Fe-B 분말을 위한 입자 크기와 형태 분포를 도시하는 그래프이다.

Claims (104)

  1. 영구자석으로 형성될 수 있는 희토류 함유 물질 생산 방법에 있어서, 희토류 함유 합금을 분쇄하는 단계와, 상기 합금의 상변태 온도 아래의 온도에서 상기 합금을 부동태화 가스로 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소, 이산화탄소 또는 질소 및 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 영구자석으로 형성될 수 있는 부동태화 희토류 함유 합금 제품에 있어서, 청구범위 제1항에 청구한 방법에 의하여 생산되는 것을 특징으로 하는 부동태화 희토류 함유 합금 제품.
  4. 영구자석으로 형성될 수 있는 희토류 함유 물질 생산 방법에 있어서, 희토류 함유 합금을 분쇄하는 단계와, 상기 합금이 입자형태로 된 후에 상기 합금을 부동태화 가스와 접촉시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 희토류 함유 합금을 부동태화 가스내에서 주위 온도로 부터 물질의 상변태 온도 아래의 온도에서 분쇄하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 부동태화 질소, 이산화탄소, 또는 질소와 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말생산 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 합금은 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  8. 제5항에 있어서, 상기 합금은 RM5또는 R2, M17을 포함하고, R은 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루륨, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 홀륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소이며 M은 Co, Fe, Ni 및 Mn으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적어도 하나의 금속인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  9. 제5항에 있어서, 상기 합금은 약 0.05 내지 100 마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 합금은 1내지 40마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  11. 제6항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  12. 제6항에 있어서, 생산 분말은 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  13. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디윰, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 희토류 함유 합금을 1내지 60분동안 부동태화 가스내에서 20℃ 내지 580℃의 온도에서 약 0.05 마이크론 내지 100 마이크론의 입자 크기로 분쇄하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소, 이산화탄소, 또는 질소 및 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  15. 제13항에 있어서, 상기 희토류 함유 합금은 1 내지 40마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  16. 제4항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  17. 제16항에 있어서, 생산된 분말은 0.4 내지 10.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  18. 제14항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  19. 제18항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.5 내지 6.5원자 퍼센트의 탄소 표면농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  20. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 희토류 함유 합금을 1내지 60분동안 부동태화 가스내에서 20℃ 내지 580℃의 온도에서 약 0.05 마이크론 내지 100 마이크론의 입자크기로 분쇄하는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 컴팩트화하는 단계와, 상기 컴팩트 합금 물질을 900℃ 내지 1200℃의 온도에서 소결시키는 단계와, 상기 소결 물질을 200℃ 내지 1050℃의 온도에서 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소, 이산화탄소, 또는 질소 및 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  22. 제20항에 있어서, 상기 희토류 함유 합금은 1 내지 40마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  23. 제21항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  24. 제23항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.4 내지 10.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  25. 제21항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  26. 제25항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.5 내지 6.5원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  27. 합금을 수중에서 분쇄하는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 그 물질으 상변태 온도 아래의 온도에서 건조시키는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 주위 온도로 부터 그 물질의 상변태 온도아래의 온도에서 부동태화 가스로 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  28. 제27항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  29. 제27항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 이산화탄소인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  30. 제27항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소와 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  31. 제27항, 28항, 29항 또는 30항에 있어서, 상기 합금은 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  32. 제27항, 28항, 29항 또는 30항에 있어서, 상기 RM5또는 R2M17을 포함하고, R은 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소이며 M은 Co, Fe, Ni 및 Mn으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  33. 제27항에 있어서, 상기 합금은 수중에서 약 0.05 내지 100마이크론의 입자크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  34. 제33항에 있어서, 상기 합금은 수중에서 1내지 40마이크론의 입자크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  35. 제27항에 있어서, 상기 분쇄된 합금 물질은 진공 건조되거나또는 불활성가스로 건조되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  36. 제35항에 있어서, 상기 불활성 가스는 알곤과 헬륨으로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  37. 제28항 또는 30항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  38. 제29항 또는 30항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  39. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 희토류 함유 합금을 수중에서 약 0.05 마이크로 내지 100마이크론의 입자 크기로 분쇄하는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 그 물질의 상변태 온도 아래의 온도에서 건조시키는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 1분 내지 60분동안 부동태화 가스로 20℃ 내지 580℃의 온도에서 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  40. 제39항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소인 것을 특징으로 하는 함유 분말 생산 방법.
  41. 제39항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 이산화탄소인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산방법
  42. 제39항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소와 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  43. 제39항에 있어서, 상기 회토류 합류 합금은 수중에서 1내지 40마이크론의 입자크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  44. 제39항에 있어서, 상기 분쇄된 합금 물질은 진공 건조되거나 또는 불활성가스로 건조되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  45. 제40항 또는 42항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  46. 제45항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.4 내지 10.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  47. 제41항 또는 42항에 있어서, 생산된 분말은 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 생산 방법.
  48. 제47항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.5 내지 6.5원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산방법
  49. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 적어도 52%의 철을 포함하며, 또한 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말.
  50. 제49항에 있어서, 상기 희토류 원소는 네오디뮴 또는 프라세오디뮴인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말.
  51. 제49항에 있어서, 상기 질소 표면 농도는 0.4 내지 10.8원자 퍼센트인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말.
  52. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 적어도 52%의 철을 포함하며, 또한 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말.
  53. 제52항에 있어서, 상기 희토류 원소는 네오디뮴 또는 프라세오디뮴인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말.
  54. 제52항에 있어서, 상기 탄소 표면 농도는 0.5 내지 6.5 원자 퍼센트인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말.
  55. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 희토류 함유 합금을 수중에서 약 0.05마이크로 내지 100마이크론의 입자크기로 분쇄하는 단계와, 상기 분쇄된 합금물질을 그 물질의 상변태 온도 아래의 온도에서 건조시키는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 1분 내지 60분동안 부동태화 가스로 20℃ 내지 580℃의 온도에서 처리하는 단계와, 상기 분쇄된 합금물질을 컴팩트화하는 단계와, 상기 컴팩트 합금 물질을 900℃ 내지 1200℃의 온도에서 소결시키는 단계와, 상기 소결 물질을 200℃ 내지 1050℃의 온도에서 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  56. 제55항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소인 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  57. 제55항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 이산화탄소인 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  58. 제55항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소와 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  59. 제55항에 있어서, 상기 희토류 함유 합금은 수중에서 1마이크론 내지 40마이크론 입자의 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  60. 제55항에 있어서, 상기 분쇄된 합금 물질은 진공 건조되거나 또는 알콘과 헬륨으로 구성된 그룹으로 부터 선택된 불활성 가스로 760torr의 압력에서 건조되는 것을 특지으로 하는 영구자석 생산 방법.
  61. 제56항 또는 58항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  62. 제61항에 있어서, 생산된 영구자석 약 0.4 내지 10.8원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  63. 제57항 또는 58항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  64. 제63항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.5 내지 6.5 원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  65. 합금을 수증에서 분쇄하는 단계와, 분쇄된 합금 물질을 컴팩트화하는 단계와, 상기 컴팩트 합금 물질을 그 물질의 상변태 온도 아래의 온도에서 건조시키는 단계와, 상기 컴팩트 합금 물질을 주위 온도로 부터 그 물질의 상변태 온도 아래의 온도에서 부동태화 가스로 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  66. 제65항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소, 이산화탄소, 또는 질소 및 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  67. 제65항에 있어서, 상기 합금은 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로품, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  68. 제65항에 있어서, 상기 합금은 RM5또는 R2M17을 포함하고, R은 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소이며 M은 Co, Fe, Ni 및 Mn으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 금속인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  69. 제65항에 있어서, 상기 합금은 수중에서 약 0.05 내지 100 마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  70. 제69항에 있어서, 상기 합금은 수중에서 1내지 40 마이크론의 입자크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  71. 제65항에 있어서, 상기 분쇄된 합금 물질은 진공 건조되거나 또는 불활성 가스로 건조되는 것을 특지응로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  72. 제71항에 있어서, 상기 불활성 가스는 알곤과 헬륨으로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  73. 제66항에 있어서, 생산된 분말 컴팩트는 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  74. 제66항에 있어서, 생산된 분말은 컴팩트는 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  75. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 희토류 함유 합금을 수중에서 약 0.05 마이크론 내지 100 마이크론의 입자크기로 분쇄하는 단계와, 상기 젖은 상태의 분쇄된 합금 물질을 젖은 상태의 컴팩트화 물질로 형성시키기 위해 컴팩트화시키는 단계와, 상기 컴팩트 합금물질을 그 물질의 상변태 온도 아래의 온도에서 건조시키는 단계와, 상기 컴팩트 합금 물질은 1분 내지 60분동안 부동태화 가스로 20℃ 내지 580℃의 온도에서 처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  76. 제75항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소,이산화탄소,또는 질소 및 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  77. 제75항에 있어서, 상기 희토류 함유 합금은 수중에서 1 내지 40마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  78. 제75항에 있어서, 상기 컴팩트 합금 물질은 진공 건조되거나 또는 불활성 가스로 건조되는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  79. 제76항에 있어서, 생산된 분말 컴팩트는 약 0.4 내지 26.8 원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  80. 제79항에 있어서, 생산된 분말 컴팩트는 약 0.4 내지 10.8 원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  81. 제76항에 있어서, 생산된 분말 컴팩트는 약 0.02 내지 15 원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  82. 제81항에 있어서, 생산된 분말 컴팩트는 약 0.5 내지 6.5 원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는것을 특징으로 하는 희토류 함유 분말 컴팩트 생산 방법.
  83. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 적어도 52%의 철을 포함하고, 또한 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말 컴팩트.
  84. 제83항에 있어서, 상기 희토류 원소는 네오디뮴 또는 르라세오디뮴인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말 컴팩트.
  85. 제83항에 있어서, 상기 질소 표면 농도는 0.4 내지 10.8원자 퍼센트인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말 컴팩트.
  86. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 적어도 52%의 철을 포함하고, 또한 약 0.02 내지 15원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말 컴팩트.
  87. 제86항에 있어서, 상기 희토류 원소는 네도디뮴 또는 프라세오디윰인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말 컴팩트.
  88. 제86항에 있어서, 상기 탄소 표면 농도는 0.5 내지 6.5 원자 퍼센트인 것을 특징으로 하는 비자연성 희토류 함유 분말 컴팩트.
  89. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12%내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 저겅도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 나머지 철을 포함하는 희토류 함유 합금을 수중에서 약 0.05 마이크론 내지 100 마이크론의 입자크기로 분쇄하는 단계와, 상기 분쇄된 합금 물질을 컴팩트화하는 단계와, 상기 컴팩트 합금 물질을 상변태 온도 아래에서 건조 시키는 단계와, 상기 컴팩트합금 물질을 1분 내지 60분 동안 20℃ 내지 580℃의 온도에서 부동패화 가스로 처리하는 단계와, 상기 컴팩트합금물질을 900℃ 내지 1200℃의 온도에서 소결시키는 단계와, 사익 소결 물질을 200℃ 내지 1050℃의 온도에서 열처리하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  90. 제89항에 있어서, 상기 부동태화 가스는 질소, 이산화탄소, 또는 질소 및 이산화탄소의 조합체인 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  91. 제89항에 있어서, 상기 희토류 함유 합금을 수증에서 1 내지 40마이크론의 입자 크기로 분쇄되는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  92. 제89항에 있어서, 상기 컴팩트 합금 물질은 진공 건조되거나 또는 불활성 가스로 건조되는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  93. 제90항에 있어서, 생산된 영구자석은 약 0.4 재 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  94. 제90항에 있어서, 생산된 영구자석은 0.4 내지 10.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  95. 제90항에 있어서, 생산된 영구자석은 0.02 내지 15원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  96. 제95항에 있어서, 영구자석은 0.5 내지 6.5 원자 퍼센트의 탄소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석 생산 방법.
  97. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 적어도 52%의 철을 포함하며, 또한 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석.
  98. 제97항에 있어서, 상기 희토류 원소는 네오디뮴 또는 파라세오디뮴인 것을 특징으로 하는 영구자석.
  99. 제97항에 있어서, 상기 질소 표면 농도는 0.4 내지 10.8원자 퍼센트인 것을 특징으로 하는 영구자석.
  100. 전체 조성의 원자 퍼센트로 12% 내지 24%의 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 루테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소와, 2% 내지 28%의 붕소와 적어도 52%의 철을 포함하고, 또한 약 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소 표면 농도를 갖는 것을 특징으로 하는 영구자석.
  101. 제100항에 있어서, 상기 희토류 원소는 네오디뮴 또는 프리세오디뮴인 것을 특징으로 하는 영구자석.
  102. 제100항에 있어서, 상기 탄소 표면 농도는 0.5 내지 6.5 원자 퍼센트인 것을 특징으로 하는 영구자석.
  103. 합금은 RM5또는 R2M17을 포함하고, R은 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 로테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소이며, M은 Co, Fe, Ni 및 Mn으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적어도 한 금속이 0.4 내지 26.8원자 퍼센트의 질소표면 농도를 포함하는 것을 특징으로 하는 영구자석.
  104. 합금은 RM5또는 R2M17을 포함하고, R은 네오디뮴, 프라세오디뮴, 란탄, 세륨, 테르븀, 디스프로슘, 홀루뮴, 엘븀, 유로퓸, 사마륨, 가돌리늄, 프로메듐, 톨륨, 이테르븀, 로테륨, 이트륨 및 스칸듐으로 구성되는 그룹으로 부터 선택된 적어도 한 희토류 원소이며, M은 Co, Fe, Ni 및 Mn으로 구성되는 그룹으로부터 선택된 적어도 한 금속이 0.02 내지 15원자 퍼센트의 질소표면 농도를 포함하는 것을 특징으로 하는 영구자석.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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