KR920017226A - 반도체장치의 비트라인 콘택영역의 단차 개선방법 - Google Patents
반도체장치의 비트라인 콘택영역의 단차 개선방법 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도(a)∼(f)는 본 발명의 1실시예에 따른 제조공정도이다.
Claims (1)
- 반도체장치의 제조공정에 있어서, 반도체기판 표면이 노출된 비트라인 콘택영역에 소정두께의 패드 폴리와 고온산화막을 도포하여 단차를 완화한 것을 특징으로 하는 반도체장치의 비트라인 콘택영역의 단차 개선방법.※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910002578A KR920017226A (ko) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 반도체장치의 비트라인 콘택영역의 단차 개선방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019910002578A KR920017226A (ko) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 반도체장치의 비트라인 콘택영역의 단차 개선방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR920017226A true KR920017226A (ko) | 1992-09-26 |
Family
ID=67396709
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019910002578A KR920017226A (ko) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | 반도체장치의 비트라인 콘택영역의 단차 개선방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR920017226A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101428697B1 (ko) * | 2013-07-11 | 2014-08-11 | 숭실대학교산학협력단 | 박막패턴 어레이 및 그 제조방법 |
-
1991
- 1991-02-18 KR KR1019910002578A patent/KR920017226A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101428697B1 (ko) * | 2013-07-11 | 2014-08-11 | 숭실대학교산학협력단 | 박막패턴 어레이 및 그 제조방법 |
| US9530668B2 (en) | 2013-07-11 | 2016-12-27 | Foundation Of Soongsil University-Industry Cooperation | Thin-film pattern array and production method therefor |
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