KR920012517A - 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법 및 이 방법을 이용하기위한 처리로 - Google Patents
물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법 및 이 방법을 이용하기위한 처리로 Download PDFInfo
- Publication number
- KR920012517A KR920012517A KR1019910022313A KR910022313A KR920012517A KR 920012517 A KR920012517 A KR 920012517A KR 1019910022313 A KR1019910022313 A KR 1019910022313A KR 910022313 A KR910022313 A KR 910022313A KR 920012517 A KR920012517 A KR 920012517A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- treatment
- target
- physical vapor
- vapor deposition
- deposition
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 및 제2도는 각각, 4개의 증기발생기가가 부착된 열처리로의 수평단면도 및 수직단면도, 제3도는 본 발명에 따른 방법을 이용하는데 적합한 증기발생을 확대해서 도시한 측단면도.
Claims (17)
- 처리로의 제1전극을 구성하는 목표무을 재료를 아아크방전에 으해 선택적으로 발생되는 이온충격에 의해 증발시키고, 이와같이해서 증발된 입자을 제1전극과는 다른 제2전극의 전위에서 기판상에 증착하며, 상기 증착하는 동안 기판을 600℃를 초과하는 온도 바람직하게는 800℃~1200℃의 처리 온도로 가열하고, 상기 폭표물 및 처리로안의 부속부재를 냉각유채의 유동에 의해 계속 냉각시키므로서 처리온도에 도달한 경우 목표물의 재료는 고체상태를 유지하여 목표물의 표면에서는 승화에 의해 증발이 일어나는 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 목표물의 재료가 티탄, 하프늄, 크롬, 니켈, 붕산 또는 텅스텐과 같은 순수 금속인 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 목표물의 재료가 고밀도 흑연이나 유리질 또는 열분해성 탄소와 같은 탄소인 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 목표물의 재료가 Ti-Al, Cr-Al, Cr-Ni, Cr-Ti 또는 Fe-Si와 같은 2원 합금인것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 상기 증착하는 동안 처리로안으로 천연가스를 주입하는 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 상기 증착하는 동안 처리로안으로 반응가스 또는 반응가스의 혼합물을 주입하는 것을 특징으로 하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 상기 증착처리하기 전에 표면처리를 수행하는 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제7항에 있어서, 표면처리는기판 표면을 탄소농축화하는 것임을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제8항에 있어서, 상기 탄소농축화는 선택적인 플라즈마도움에 의한 탄화처리로 얻어지는 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제7항에 있어서, 표면처리는 표면층을 탄소로 과농축화하는 것임을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제7항에 있어서, 표면처리가 이온 질화처리인 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 증착처리후에 고온확산열처리하는 것으로 이루어진 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 제1항에 있어서, 증착처리후에 가압가스담금질처리하는 것으로 이루어진 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법.
- 처리로의 제1전극을 구성하는 목표물의 재료를 아아크방전에 의해 선택적으로 발생되는 이온충격에 의해 증발시키고 이와같이해서 증발된입자를 제1전극과는 다른 제2전극의 전위에서 기판상에 증착하며, 상기증착하는 동안 기판을 600℃를 초과하는 온도, 바람직하게는 800℃~1200℃의 처리온도로 가열하고, 상기 목표물 및 처리로안의 부속부재를 냉각유체의 유동에 의해 계속 냉각시키므로 처리온도에 도달한 경우 목표물의 재료는 고체상태를 유지하여 목표물의 표면에서는 승화에 의해 증발이 일어나는 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법을 이용하기 위한 처리로에 있어서, 비이어스전압이 인가되는 도전성 지지체상에 처리될 부품이 놓여있는 실험실의 경계를 규정하는 단열재로 이루어진 케이스를 포함함과 동시에 내부공간이 진공펌프실 터어빈에 의해 처치로의 안쪽으로 순환되는 천연가스 또는 반응 가스분배용 회로 및 진공펌프실과 연결되어 있는 밑봉의장과, 케이스안쪽에 부착되어 있는 부품을 가열하는 전열소자와, 목표물이 처리될 부품근방의 케이스안쪽에 배치된 적어도 1개의 증기 발생기를 구비하고, 상기 증기 발생기는, 목표물을 지지하는 일단부가 폐쇄되어 있음과 동시에 타단부에는 전기전열되어 처리로의 의장의 구멍안으로 삽입고정 및 밀봉된 플랜지부가 부착되어 있는 관형상 슬리이브형상의 지지구조체와, 목표물과 전기접속하여 슬리이브안쪽에 동축방향으로 연장됨과 동시에 전기회로와 접속되고 측방향 통로를 가지는 도전성 바아가 관통하고 있으며 관형상 슬리이브를 폐쇄하고 있는 절연재로 이루어진 블록과, 상기 목표물근방의 상기 바아둘에에 배치된 전자석 코일과, 상기 블록을 관통하여 상기 축방향 통로에 접속된 냉각 유체유입한, 상기 목표물 근방의 상기 바아안에 형성되어 상기 관형상 슬리이브와 상기 바아사이의 중간 공간과 상기 측방향 통로사이를 연결하는 구멍 및 상기 블록을 관통함과 동시에 상기 중간 공간안으로 뻗어있는 귀환관을 포함하는 냉각회로로 구성된 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학 처리방법을 이용하기 위한 처리로.
- 제14항에 있어서, 상기 증기발생기는 상기 블록과 부시사이에서 상기 바아와 동축으로 배치된 절연관을 구비하고, 상기 절연관과 상기 바아사이의 공간은 상기 유입관 및 상기 바아안의 구멍을 관통하는 상기 측방향 통로와 연결되어 있는 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학 처리방법을 이용하기 위한 처리로.
- 제14항에 있어서, 상기 목표물상에 아아크방전을 개시하는 이동신 전극을 구비한 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학처리방법을 이용하기 위한 처리로.
- 제14항에 있어서, 상기 증기발생기는, 상기 목표물상에 링슬라이딩하는 형태의 부동전위 스크리인을 구비한 것을 특징으로하는 물리증착에 의한 금속의 열화학적처리방법을이용하기 위한 처리로.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR90-15331 | 1990-12-06 | ||
FR9015331A FR2670218B1 (fr) | 1990-12-06 | 1990-12-06 | Procede de traitement de metaux par depot de matiere, et pour la mise en óoeuvre dudit procede. |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR920012517A true KR920012517A (ko) | 1992-07-27 |
KR940004902B1 KR940004902B1 (ko) | 1994-06-04 |
Family
ID=9402994
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019910022313A KR940004902B1 (ko) | 1990-12-06 | 1991-12-06 | 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법 및 이 방법을 이용하기 위한 처리로 |
Country Status (10)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5278861A (ko) |
EP (1) | EP0489659B1 (ko) |
JP (1) | JPH0744080B2 (ko) |
KR (1) | KR940004902B1 (ko) |
CN (1) | CN1063128A (ko) |
CA (1) | CA2056910A1 (ko) |
DE (2) | DE489659T1 (ko) |
ES (1) | ES2031802T1 (ko) |
FR (1) | FR2670218B1 (ko) |
TW (1) | TW257796B (ko) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3121743B2 (ja) * | 1994-08-10 | 2001-01-09 | 日立造船株式会社 | プラズマ式溶融方法 |
DE4443740B4 (de) * | 1994-12-08 | 2005-09-15 | W. Blösch AG | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten |
CH689558A5 (de) * | 1995-07-11 | 1999-06-15 | Erich Bergmann | Bedampfungsanlage und Verdampfereinheit. |
US5895559A (en) * | 1996-04-08 | 1999-04-20 | Christy; Ronald | Cathodic arc cathode |
US6131533A (en) * | 1996-08-15 | 2000-10-17 | Citizen Watch Co., Ltd. | Jig for forming hard carbon film over inner surface of guide bush using the jig |
US6036828A (en) * | 1997-08-30 | 2000-03-14 | United Technologies Corporation | Apparatus for steering the arc in a cathodic arc coater |
US5932078A (en) * | 1997-08-30 | 1999-08-03 | United Technologies Corporation | Cathodic arc vapor deposition apparatus |
US5972185A (en) * | 1997-08-30 | 1999-10-26 | United Technologies Corporation | Cathodic arc vapor deposition apparatus (annular cathode) |
DE19824364A1 (de) * | 1998-05-30 | 1999-12-02 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zum Aufbringen eines Verschleißschutz-Schichtsystems mit optischen Eigenschaften auf Oberflächen |
US6436254B1 (en) * | 2001-04-03 | 2002-08-20 | General Electric Company | Cathode mounting system for cathodic arc cathodes |
DE10126985A1 (de) * | 2001-06-05 | 2002-12-12 | Gabriel Herbert M | Anordnung zur Stromzuführung für eine Kathode einer Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung |
DE10256417A1 (de) * | 2002-12-02 | 2004-06-09 | Pvt Plasma Und Vakuum Technik Gmbh | Lichtbogenverdampfungsvorrichtung |
US20040126492A1 (en) * | 2002-12-30 | 2004-07-01 | Weaver Scott Andrew | Method and apparatus for using ion plasma deposition to produce coating |
ES2305920T3 (es) | 2005-02-18 | 2008-11-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Aleacion de mcralx, capa protectora de aleacion de mcralx, y procedimiento para su obtencion. |
US7329595B2 (en) * | 2005-04-26 | 2008-02-12 | Lucent Technologies Inc. | Deposition of carbon-containing layers using vitreous carbon source |
BRPI0803774B1 (pt) * | 2008-06-11 | 2018-09-11 | Univ Federal De Santa Catarina Ufsc | processo e reator de plasma para tratamento de peças metálicas |
US8211234B2 (en) | 2008-09-02 | 2012-07-03 | United Technologies Corporation | Coater platter homing tool |
PL2236641T3 (pl) | 2009-03-30 | 2012-05-31 | Oerlikon Trading Ag | Sposób wstępnej obróbki podłoży w procesie PVD |
CN102094172B (zh) * | 2010-12-03 | 2014-01-01 | 无锡润鹏复合新材料有限公司 | 一种TiWN/MoS2复合薄膜的制备方法 |
DE102014014970B4 (de) | 2014-10-14 | 2020-01-02 | NICE Solar Energy GmbH | Vorrichtung und Verfahren zur Schichtdickenmessung für Dampfabscheideverfahren |
PL230547B1 (pl) | 2015-04-29 | 2018-11-30 | Amp Spolka Z Ograniczona Odpowiedzialnoscia | Piec prozniowy hybrydowy |
RU2662516C1 (ru) * | 2017-07-21 | 2018-07-26 | федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Уфимский государственный авиационный технический университет" | Способ получения износостойкого градиентного покрытия системы ti-al на стальной детали в вакууме |
EP3502302B1 (en) | 2017-12-22 | 2022-03-02 | Ge Avio S.r.l. | Nitriding process for carburizing ferrium steels |
CN110480025B (zh) * | 2019-09-06 | 2020-12-08 | 陕西师范大学 | 一种高密度纳米材料气相制备方法 |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE661185C (de) * | 1936-02-01 | 1938-06-13 | Bernhard Berghaus | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von metallischen UEberzuegen aus mittels eines Lichtbogens in einer Kammer verdampften Metallen |
US3306764A (en) * | 1959-08-19 | 1967-02-28 | Nuclear Technical Service Corp | Method for forming a refractory metal or carbide coating on refractory materials and article |
US3494852A (en) * | 1966-03-14 | 1970-02-10 | Whittaker Corp | Collimated duoplasmatron-powered deposition apparatus |
US3454814A (en) * | 1966-07-29 | 1969-07-08 | Atomic Energy Commission | Tubular vapor source |
US3748253A (en) * | 1972-01-24 | 1973-07-24 | Gte Automatic Electric Lab Inc | Apparatus with labyrinth heat exchanger for the sputtering depositionof thin films |
US4009090A (en) * | 1975-12-03 | 1977-02-22 | Shatterproof Glass Corporation | Sputter-coating of glass sheets or other substrates |
CH631743A5 (de) * | 1977-06-01 | 1982-08-31 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zum aufdampfen von material in einer vakuumaufdampfanlage. |
FR2465793A1 (fr) * | 1979-09-26 | 1981-03-27 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Procede pour le depot de couches d'alliage sur des substrats metalliques a une temperature elevee |
US4290875A (en) * | 1980-03-18 | 1981-09-22 | Ultra Electronic Controls Limited | Sputtering apparatus |
DE3148354A1 (de) * | 1981-12-07 | 1983-06-09 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Vorrichtung zur kathodenzerstaeubung eines metalles |
SU1123313A1 (ru) * | 1982-01-06 | 1988-11-07 | Предприятие П/Я А-7904 | Электродуговой испаритель |
US4448799A (en) * | 1983-04-21 | 1984-05-15 | Multi-Arc Vacuum Systems Inc. | Arc-initiating trigger apparatus and method for electric arc vapor deposition coating systems |
US4556471A (en) * | 1983-10-14 | 1985-12-03 | Multi-Arc Vacuum Systems Inc. | Physical vapor deposition apparatus |
US4659899A (en) * | 1984-10-24 | 1987-04-21 | The Perkin-Elmer Corporation | Vacuum-compatible air-cooled plasma device |
CH669242A5 (de) * | 1985-07-10 | 1989-02-28 | Balzers Hochvakuum | Targetplatte fuer kathodenzerstaeubung. |
US4885075A (en) * | 1987-01-27 | 1989-12-05 | Machine Technology, Inc. | Cooling device for a sputter target and source |
JPS63210099A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-08-31 | Nissin Electric Co Ltd | ダイヤモンド膜の作製方法 |
GB2227755B (en) * | 1988-12-08 | 1993-03-10 | Univ Hull | A process for improving the wear and corrosion resistance of metallic components |
DE3937558C2 (de) * | 1989-11-11 | 1997-02-13 | Leybold Ag | Katodenzerstäubungsvorrichtung |
US5180478A (en) * | 1990-12-19 | 1993-01-19 | Intevac, Inc. | Sputter coating source |
-
1990
- 1990-12-06 FR FR9015331A patent/FR2670218B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-12-03 TW TW080109503A patent/TW257796B/zh active
- 1991-12-04 CA CA002056910A patent/CA2056910A1/fr not_active Abandoned
- 1991-12-05 ES ES199191403288T patent/ES2031802T1/es active Pending
- 1991-12-05 EP EP91403288A patent/EP0489659B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-05 DE DE199191403288T patent/DE489659T1/de active Pending
- 1991-12-05 DE DE69116117T patent/DE69116117D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-06 CN CN91112798A patent/CN1063128A/zh active Pending
- 1991-12-06 JP JP3323412A patent/JPH0744080B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-12-06 KR KR1019910022313A patent/KR940004902B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1991-12-06 US US07/802,984 patent/US5278861A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-10-01 US US08/130,489 patent/US5363400A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2670218A1 (fr) | 1992-06-12 |
CN1063128A (zh) | 1992-07-29 |
US5363400A (en) | 1994-11-08 |
ES2031802T1 (es) | 1993-01-01 |
JPH04277499A (ja) | 1992-10-02 |
TW257796B (ko) | 1995-09-21 |
FR2670218B1 (fr) | 1993-02-05 |
US5278861A (en) | 1994-01-11 |
KR940004902B1 (ko) | 1994-06-04 |
DE69116117D1 (de) | 1996-02-15 |
EP0489659B1 (fr) | 1996-01-03 |
DE489659T1 (de) | 1992-09-24 |
CA2056910A1 (fr) | 1992-06-07 |
EP0489659A1 (fr) | 1992-06-10 |
JPH0744080B2 (ja) | 1995-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR920012517A (ko) | 물리증착에 의한 금속의 열화학적 처리방법 및 이 방법을 이용하기위한 처리로 | |
US2951143A (en) | Arc torch | |
NO169783B (no) | Vakuumovn til varmebehandling av metalliske emner | |
US4565618A (en) | Apparatus for producing diamondlike carbon flakes | |
KR920001359B1 (ko) | 머플로 | |
EP0010484A1 (fr) | Perfectionnement dans la chromisation des aciers par voie gazeuse | |
DE112014006989B4 (de) | Ionenimplantierungsvorrichtung | |
Pogrebnjak et al. | Mass transfer and doping during electrolyte-plasma treatment of cast iron | |
TWI242789B (en) | Ion source, method of operating the same, and ion source system | |
BR102014026134B1 (pt) | Processo e reator de plasma para tratamento termoquímico de superfície de peças metálicas | |
Dearnley et al. | Developments in plasma boronizing | |
Beilis et al. | Anode temperature evolution in a vacuum arc with a blackbody electrode configuration | |
Beilis et al. | Effective cathode voltage in a vacuum arc with a black body electrode configuration | |
GB1574677A (en) | Method of coating electrically conductive components | |
US4227032A (en) | Power feed through for vacuum electric furnaces | |
GB111489A (en) | Thermo-electric Generator. | |
SU792614A1 (ru) | Электродуговой подогреватель газа | |
Anshakov et al. | Water vapor thermal plasma generation | |
JPS58114724A (ja) | 蒸着方法 | |
Bohdansky et al. | Graphite erosion in contact with a hydrogen plasma and a comparison to ion beam erosion data | |
WO2019064975A1 (ja) | 浸炭装置 | |
LV15663B (lv) | Metode grafēna un citu oglekļa nanomateriālu sintēzei uz feromagnētiska substrāta apkārtējā atmosfērā | |
Giannini et al. | Plasma stream apparatus and methods--JTST historical patent# 32 | |
Arzamasov et al. | Role of the specific power of discharge in ion thermochemical treatment of alloys | |
JPS6442564A (en) | Ion carburizing furnace |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |