SU1123313A1 - Электродуговой испаритель - Google Patents

Электродуговой испаритель Download PDF

Info

Publication number
SU1123313A1
SU1123313A1 SU823381484A SU3381414A SU1123313A1 SU 1123313 A1 SU1123313 A1 SU 1123313A1 SU 823381484 A SU823381484 A SU 823381484A SU 3381414 A SU3381414 A SU 3381414A SU 1123313 A1 SU1123313 A1 SU 1123313A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
cathode
current
evaporator
magnetic screen
critical
Prior art date
Application number
SU823381484A
Other languages
English (en)
Inventor
Л.С. Гуревич
В.В. Назаров
С.Н. Назиков
С.Л. Потехин
Original Assignee
Предприятие П/Я А-7904
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я А-7904 filed Critical Предприятие П/Я А-7904
Priority to SU823381484A priority Critical patent/SU1123313A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU1123313A1 publication Critical patent/SU1123313A1/ru

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий прот женный расходуемый катод с токоподводом и поджигающий Электрод, отличающийс  тем, что, с целью увеличени  коэффициента использовани  материала катода , он снабжен коаксиально расположенными защитным экраном, выполненным из материала с критическим током горени  дуги, больщим критического тока материала расходуемого катода, и магнитным экраном, вьтолненным из магнитом гкого материала со сквозной продольной прорезью, обращенной в сторону защитного экрана, охватывающего магнитный экран, причем токоподвод катода размещен по оси испарител  внутри магнитного экрана, а его электрический контакт с катодом выполнен § со стороны, противоположной месту ввода токоподвода. (Л

Description

11 . Изобретение относитс  к области нанесени  тонких пленок и покрытий в вакууме и может найти применение в машиностроении дл  получени  защитных покрытий, в микроэлектронике дл  получени  тонкопленочных слоев, в вакуумной технике дл  получени  геттерных покрытий в выеоковакуумных насосах и других област х науки и техники . Известен электродуговой испарит ль , в котором испарение материала катода ос пцествл етс  сильноточной вакуумной дугой, гор щей в парах испар емого материала при давлении ниже 1 Па. Однако ввиду небольших размеров эродируемой поверхности катода в системах с прот женной поверхностью напылени  необходимо использовать большое количество точечньк испарителей и, соответственно, такое же количество блоков питани . Наиболее близким техническим решением к изобретению  вл етс  электродуговой испаритель, площадь эродируемой поверхности которого сравнима с площадью обрабатываемой поверхности содержащий прот женный расходуемый катод и поджигающий электрод. Недостатком известного устройства  вл етс  низкий коэффициент использовани  материала катода, обусловленный неравномерностью эррозии материала катода стабилизированными катодными п тнами дугового разр да, Цель изобретени  - увеличение коэффициента использовани  материала катода. Цель достигаетс  тем, что электродуговой испаритель, содержащий прот  женный расходуемый катод с- токрподво дом и поджигающий электрод, снабжен коаксиально расположенными защитным экраном, выполненным из материала с критическим током горени  дуги, больщим критического тока материала расходуемого катода, и магнитным экраном , вьшолненным из магнитом гкого материала со сквозной продольной про резью, обращенной в сторону, защитног экрана, охватывающего магнитный экран , причем токоподвод катода размещен по оси испарител  внутри магнитного экрана, а его электрический кон такт с катодом выполнен со стороны, противоположной месту ввода токоподвода . На фиг.1 изображен предложенный испаритель, продольное сечение; на фиг.2 - то же, поперечное сечение. Испаритель состоит из корпуса 1, на котором закреплен расходуемьш катод 2, защитного экрана 3, ограничивающего зону испарени , токоподвода Д, изолированного от корпуса с помощью изол тора 5 и закрытого экраном 6 из магнитом гкого материала со сквозной продольной ррорезью 7 электростатического экрана 8, наход щегос  под плавающим потенциалом и отделенного от испарител  изол тором 9, и поджигающего электрода 10. Защитный экран 3 вьшолнен из материала с критическим током, горени  дуги., большим критического тока материала расходуемого катода. Электродуговой испаритель работает следующим образом. При подаче импульса высокого напр жени  на поджигающий электрод 10 возбуждаетс  дуговой разр д в парах расходуемого катода 2 (анод на чертеже не показан). Катодные п тна вакуумной дуги, перемещающиес  по поверхности катода,  вл ютс  источниками паров материала покрыти , осаждаемого на поверхности напылени , например водоохлаждаемом прот женном цилиндрическом корпусе высоковакуумного насоса . Дл  исключени  движени  катодных п тен к месту подвода тока, вызванного взаимодействием магнитного пол  токоподвода А с магнитным полем дугового разр да, токоподвод проходит в полости корпуса 1 испарител  и экранируетс  экраном 6 с продольной прорезью 7. Причем на поверхности расходуемого катода должно обеспечиватьс  соотношение 2Н., Н-,, где И, - тангенциальна  составл юща  напр женности магнитного пол  к поверхности испар емого катода, вызванна  г:током токоподвода, проход щего в полости корпуса; Н-, - тангенциальна  составл юща  напр женности магнитного пол  к поверхности испар емого катода, вызванна  током, проход щим по испар емому катоду. Указанное равенство результирующих магнитных полей обеспечиваетс  размером сквозной продольной прорези 7 и подбираетс  экспериментально. При этом 3, в любой точке зоны испарени  тангенциальна  составл юща  магнитного пол  к испар емой поверхности Н-, от тока в токоподводе компенсируетс  тангенциальной составл ющей магнитного пол  к испар емой поверхности H-j от тока по катоду, т.е. у катодных п тен нет физически выделенного направлени  и они хаотически перемещаютс  по испар емому катоду, вызыва  его равномерное испарение, что повышает козффициент использовани  материала катода и, соответственно, срок службы. За-щитньп экран 3, выполненный из материала с критическ11М током горени  дуги , значительно большим, чем критический ток дуги испар емого катода, делает невозможным выход на него катодных п тен, т.е. ограничивает зону испарени  катода. Ограничение горени  разр да в продольном направлении 13 . А осуществл етс  электростатическими экранами 8, наход щи-мис  под плавающим потенциалом. Повышение надежности работы поджигающего устройства обеспечиваетс  уводом катодных п тен, возникакщих при поджиге дуги от поджигающего электрода силой, обусловленной взаимодействием тангенциальных составл ющих магнитного пол  к испар емой поверхности от токов токоподвода, тока по катоду и тока дугового разр да. Предложенна  конструкци  электродугового испарител  обеспечивает высокую эффективность использовани  материала катода, так, например коэффициент использовани  материала катода стержневого испарител  длиной 1 м и диаметром 0,05 м составл ет пор дка 90%.
Фиг.
г
ц

Claims (1)

  1. ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий протяженный расходуемый катод с токоподводом и поджигающий ‘электрод, отличающийся тем, что, с целью увеличения коэффи циента использования материала катода, он снабжен коаксиально расположенными защитным экраном, выполненным из материала с критическим током горения дуги, большим критического тока материала расходуемого катода, и магнитным экраном, выполненным из магнитомягкого материала со сквозной продольной прорезью, обращенной в сторону защитного экрана, охватывающего магнитный экран, причем токоподвод катода размещен по оси испарителя внутри магнитного экрана, а его электрический контакт с катодом выполнен со стороны, противоположной месту ввода токоподвода.
    N0 00 00 оо
SU823381484A 1982-01-06 1982-01-06 Электродуговой испаритель SU1123313A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823381484A SU1123313A1 (ru) 1982-01-06 1982-01-06 Электродуговой испаритель

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU823381484A SU1123313A1 (ru) 1982-01-06 1982-01-06 Электродуговой испаритель

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU1123313A1 true SU1123313A1 (ru) 1988-11-07

Family

ID=20992253

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU823381484A SU1123313A1 (ru) 1982-01-06 1982-01-06 Электродуговой испаритель

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU1123313A1 (ru)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5278861A (en) * 1990-12-06 1994-01-11 Innovatique S.A. Method of treating metals by deposition of materials and furnace for implementing said method

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Патент US 3.437.260, кл. 417-49, 1969. Патент US № 3.694.691, кл. 315108, 1970. *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5278861A (en) * 1990-12-06 1994-01-11 Innovatique S.A. Method of treating metals by deposition of materials and furnace for implementing said method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5037522A (en) Electric arc vapor deposition device
CA2254677C (en) Apparatus for sputtering or arc evaporation
CN86104365A (zh) 改进的电弧汽相淀积方法及设备
EP0079932A4 (en) Ion source arrangement.
US3404084A (en) Apparatus for depositing ionized electron beam evaporated material on a negatively biased substrate
SU1123313A1 (ru) Электродуговой испаритель
EP0211413A2 (en) Arc ignition device
RU2094896C1 (ru) Источник быстрых нейтральных молекул
US5896012A (en) Metal ion plasma generator having magnetic field forming device located such that a triggering is between the magnetic field forming device and an anode
US3827829A (en) Sputter-ion pump
US4891525A (en) SKM ion source
US3391303A (en) Electronic vacuum pump including a sputter electrode
JP3529775B2 (ja) アークダウンを防止するための接地されたシールドを有する電子ビームガン
US3530057A (en) Sputtering
US5089707A (en) Ion beam generating apparatus with electronic switching between multiple cathodes
US4879017A (en) Multi-rod type magnetron sputtering apparatus
US6476340B1 (en) Electron beam gun with grounded shield to prevent arc-down and gas bleed to protect the filament
US3437260A (en) Vacuum arc gettering pump
CN1224771A (zh) 用于溅射或电弧蒸发的设备
RU210126U1 (ru) Управляемый вакуумный искровой разрядник с плёночными электродами
SU953004A1 (ru) Электродуговой испаритель металлов
SU1102408A1 (ru) Ионно-геттерный насос
US3217973A (en) Dual surface ionic pump with shielded anode support
SU368807A1 (ru) Электродуговой испаритель
SU706563A1 (ru) Электродуговой испаритель геттера