SU1123313A1 - Электродуговой испаритель - Google Patents
Электродуговой испаритель Download PDFInfo
- Publication number
- SU1123313A1 SU1123313A1 SU823381484A SU3381414A SU1123313A1 SU 1123313 A1 SU1123313 A1 SU 1123313A1 SU 823381484 A SU823381484 A SU 823381484A SU 3381414 A SU3381414 A SU 3381414A SU 1123313 A1 SU1123313 A1 SU 1123313A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- cathode
- current
- evaporator
- magnetic screen
- critical
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
- C23C14/325—Electric arc evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий прот женный расходуемый катод с токоподводом и поджигающий Электрод, отличающийс тем, что, с целью увеличени коэффициента использовани материала катода , он снабжен коаксиально расположенными защитным экраном, выполненным из материала с критическим током горени дуги, больщим критического тока материала расходуемого катода, и магнитным экраном, вьтолненным из магнитом гкого материала со сквозной продольной прорезью, обращенной в сторону защитного экрана, охватывающего магнитный экран, причем токоподвод катода размещен по оси испарител внутри магнитного экрана, а его электрический контакт с катодом выполнен § со стороны, противоположной месту ввода токоподвода. (Л
Description
11 . Изобретение относитс к области нанесени тонких пленок и покрытий в вакууме и может найти применение в машиностроении дл получени защитных покрытий, в микроэлектронике дл получени тонкопленочных слоев, в вакуумной технике дл получени геттерных покрытий в выеоковакуумных насосах и других област х науки и техники . Известен электродуговой испарит ль , в котором испарение материала катода ос пцествл етс сильноточной вакуумной дугой, гор щей в парах испар емого материала при давлении ниже 1 Па. Однако ввиду небольших размеров эродируемой поверхности катода в системах с прот женной поверхностью напылени необходимо использовать большое количество точечньк испарителей и, соответственно, такое же количество блоков питани . Наиболее близким техническим решением к изобретению вл етс электродуговой испаритель, площадь эродируемой поверхности которого сравнима с площадью обрабатываемой поверхности содержащий прот женный расходуемый катод и поджигающий электрод. Недостатком известного устройства вл етс низкий коэффициент использовани материала катода, обусловленный неравномерностью эррозии материала катода стабилизированными катодными п тнами дугового разр да, Цель изобретени - увеличение коэффициента использовани материала катода. Цель достигаетс тем, что электродуговой испаритель, содержащий прот женный расходуемый катод с- токрподво дом и поджигающий электрод, снабжен коаксиально расположенными защитным экраном, выполненным из материала с критическим током горени дуги, больщим критического тока материала расходуемого катода, и магнитным экраном , вьшолненным из магнитом гкого материала со сквозной продольной про резью, обращенной в сторону, защитног экрана, охватывающего магнитный экран , причем токоподвод катода размещен по оси испарител внутри магнитного экрана, а его электрический кон такт с катодом выполнен со стороны, противоположной месту ввода токоподвода . На фиг.1 изображен предложенный испаритель, продольное сечение; на фиг.2 - то же, поперечное сечение. Испаритель состоит из корпуса 1, на котором закреплен расходуемьш катод 2, защитного экрана 3, ограничивающего зону испарени , токоподвода Д, изолированного от корпуса с помощью изол тора 5 и закрытого экраном 6 из магнитом гкого материала со сквозной продольной ррорезью 7 электростатического экрана 8, наход щегос под плавающим потенциалом и отделенного от испарител изол тором 9, и поджигающего электрода 10. Защитный экран 3 вьшолнен из материала с критическим током, горени дуги., большим критического тока материала расходуемого катода. Электродуговой испаритель работает следующим образом. При подаче импульса высокого напр жени на поджигающий электрод 10 возбуждаетс дуговой разр д в парах расходуемого катода 2 (анод на чертеже не показан). Катодные п тна вакуумной дуги, перемещающиес по поверхности катода, вл ютс источниками паров материала покрыти , осаждаемого на поверхности напылени , например водоохлаждаемом прот женном цилиндрическом корпусе высоковакуумного насоса . Дл исключени движени катодных п тен к месту подвода тока, вызванного взаимодействием магнитного пол токоподвода А с магнитным полем дугового разр да, токоподвод проходит в полости корпуса 1 испарител и экранируетс экраном 6 с продольной прорезью 7. Причем на поверхности расходуемого катода должно обеспечиватьс соотношение 2Н., Н-,, где И, - тангенциальна составл юща напр женности магнитного пол к поверхности испар емого катода, вызванна г:током токоподвода, проход щего в полости корпуса; Н-, - тангенциальна составл юща напр женности магнитного пол к поверхности испар емого катода, вызванна током, проход щим по испар емому катоду. Указанное равенство результирующих магнитных полей обеспечиваетс размером сквозной продольной прорези 7 и подбираетс экспериментально. При этом 3, в любой точке зоны испарени тангенциальна составл юща магнитного пол к испар емой поверхности Н-, от тока в токоподводе компенсируетс тангенциальной составл ющей магнитного пол к испар емой поверхности H-j от тока по катоду, т.е. у катодных п тен нет физически выделенного направлени и они хаотически перемещаютс по испар емому катоду, вызыва его равномерное испарение, что повышает козффициент использовани материала катода и, соответственно, срок службы. За-щитньп экран 3, выполненный из материала с критическ11М током горени дуги , значительно большим, чем критический ток дуги испар емого катода, делает невозможным выход на него катодных п тен, т.е. ограничивает зону испарени катода. Ограничение горени разр да в продольном направлении 13 . А осуществл етс электростатическими экранами 8, наход щи-мис под плавающим потенциалом. Повышение надежности работы поджигающего устройства обеспечиваетс уводом катодных п тен, возникакщих при поджиге дуги от поджигающего электрода силой, обусловленной взаимодействием тангенциальных составл ющих магнитного пол к испар емой поверхности от токов токоподвода, тока по катоду и тока дугового разр да. Предложенна конструкци электродугового испарител обеспечивает высокую эффективность использовани материала катода, так, например коэффициент использовани материала катода стержневого испарител длиной 1 м и диаметром 0,05 м составл ет пор дка 90%.
Фиг.
г
ц
.г
Claims (1)
- ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ИСПАРИТЕЛЬ, содержащий протяженный расходуемый катод с токоподводом и поджигающий ‘электрод, отличающийся тем, что, с целью увеличения коэффи циента использования материала катода, он снабжен коаксиально расположенными защитным экраном, выполненным из материала с критическим током горения дуги, большим критического тока материала расходуемого катода, и магнитным экраном, выполненным из магнитомягкого материала со сквозной продольной прорезью, обращенной в сторону защитного экрана, охватывающего магнитный экран, причем токоподвод катода размещен по оси испарителя внутри магнитного экрана, а его электрический контакт с катодом выполнен со стороны, противоположной месту ввода токоподвода.N0 00 00 оо
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823381484A SU1123313A1 (ru) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | Электродуговой испаритель |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU823381484A SU1123313A1 (ru) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | Электродуговой испаритель |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU1123313A1 true SU1123313A1 (ru) | 1988-11-07 |
Family
ID=20992253
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU823381484A SU1123313A1 (ru) | 1982-01-06 | 1982-01-06 | Электродуговой испаритель |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU1123313A1 (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5278861A (en) * | 1990-12-06 | 1994-01-11 | Innovatique S.A. | Method of treating metals by deposition of materials and furnace for implementing said method |
-
1982
- 1982-01-06 SU SU823381484A patent/SU1123313A1/ru active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Патент US 3.437.260, кл. 417-49, 1969. Патент US № 3.694.691, кл. 315108, 1970. * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5278861A (en) * | 1990-12-06 | 1994-01-11 | Innovatique S.A. | Method of treating metals by deposition of materials and furnace for implementing said method |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5037522A (en) | Electric arc vapor deposition device | |
CA2254677C (en) | Apparatus for sputtering or arc evaporation | |
CN86104365A (zh) | 改进的电弧汽相淀积方法及设备 | |
EP0079932A4 (en) | Ion source arrangement. | |
US3404084A (en) | Apparatus for depositing ionized electron beam evaporated material on a negatively biased substrate | |
SU1123313A1 (ru) | Электродуговой испаритель | |
EP0211413A2 (en) | Arc ignition device | |
RU2094896C1 (ru) | Источник быстрых нейтральных молекул | |
US5896012A (en) | Metal ion plasma generator having magnetic field forming device located such that a triggering is between the magnetic field forming device and an anode | |
US3827829A (en) | Sputter-ion pump | |
US4891525A (en) | SKM ion source | |
US3391303A (en) | Electronic vacuum pump including a sputter electrode | |
JP3529775B2 (ja) | アークダウンを防止するための接地されたシールドを有する電子ビームガン | |
US3530057A (en) | Sputtering | |
US5089707A (en) | Ion beam generating apparatus with electronic switching between multiple cathodes | |
US4879017A (en) | Multi-rod type magnetron sputtering apparatus | |
US6476340B1 (en) | Electron beam gun with grounded shield to prevent arc-down and gas bleed to protect the filament | |
US3437260A (en) | Vacuum arc gettering pump | |
CN1224771A (zh) | 用于溅射或电弧蒸发的设备 | |
RU210126U1 (ru) | Управляемый вакуумный искровой разрядник с плёночными электродами | |
SU953004A1 (ru) | Электродуговой испаритель металлов | |
SU1102408A1 (ru) | Ионно-геттерный насос | |
US3217973A (en) | Dual surface ionic pump with shielded anode support | |
SU368807A1 (ru) | Электродуговой испаритель | |
SU706563A1 (ru) | Электродуговой испаритель геттера |