KR920005470B1 - 시각적으로 드러나지 않는 합금산화물 스퍼터링 필름 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

시각적으로 드러나지 않는 합금산화물 스퍼터링 필름
제1도는 본 발명의 필름과 선행 기술의 필름의 색도좌표를 나타내는 색도표이다.
본 발명은 산화금속 필름의 음극 스퍼터링(sputtering) 및 더욱 특히 금속 및 산화금속 다층필름의 자기 스퍼터링 기술분야에 관한 것이다.
미합중국 특허 제4,094,763호(출원인 : 길러리 등)에는 음극 스퍼터링 금속, 예를 들면 주석 및 인듐을 조절된 양의 산소를 함유하는 저기압 대기중 400℉이상의 온도에서 내화 기재(예 : 유리) 상에 음극 스퍼터링하여 투명한 전기전도성 제품을 제조하는 방법이 개시되어 있다.
길러리의 미합중국 특허 제4,113,599호에는 산소의 유속을 조정하여 일정한 방전류를 유지시키면서 아르곤 유속을 조정하여 스퍼터링 챔버의 일정한 압력을 유지시키는 산화인듐의 반응성 침착을 위한 음극 스퍼터링 기술이 교시되어 있다.
차핀(Chapin)의 미합중국 특허 제4,166,018호에는 스퍼터링 표면상의 폐쇄된 루프 침식 영역 전반에 걸쳐 아치형의 선속라인을 포함하는 자기장을 편평한 스퍼터링 표면에 인접하여 형성하는 스퍼터링 장치가 개시되어 있다.
길러리의 미합중국 특허 제4,201,649호에는 전형적인 높은 음극 스퍼터링 온도에서 음극 스퍼터링하여 두꺼운 산화 인듐 전도층을 침착시키기 위해 기재를 가열하기 전에 매우 얇은 산화인듐 초벌층을 저온에서 먼저 침착시켜 저항율이 낮은 얇은 산화인듐 필름을 제조하는 방법이 개시되어 있다.
그로쓰(Groth)의 미합중국 특허 제4,327,967호에는 유리판, 유리표면상의 굴절지수가 2보다 큰 간섭필름, 간섭 필름상의 열반사성 금 필름 및 금 필름상의 크롬 철, 니켈, 티탄 또는 이의 합금 중간색화 필름을 포함하는 중간색의 외관을 갖는 열 반사성 패널이 개시되어 있다.
미야크(Miyake)등의 미합중국 특허 제4,349,425호에는 낮은 전기저항율 및 높은 광투과율을 갖는 카드뮴-주석 옥사이드 필름을 형성하기 위한 아르곤-산소 혼합물중에서의 카드뮴-주석 합금의 d-c 반응성 스퍼터링이 개시되어 있다.
하트(Hart)의 미합중국 특허 제4,462,883호에는 은층, 은 이외의 소량의 다른 금속 및 반사방지 산화금속을 투명한 기재(예 : 유리)상에 음극 스퍼터링하여 수득한 낮은 복사율을 갖는 코팅물이 기재되어 있다. 반사방지층은 산화주석, 산화티탄, 산화아연, 산화인듐, 산화비스무스 또는 산화 지르코늄일 수 있다.
마우어(Mauer)의 재허여 번호 제27,473호에는 다양한 금속, 즉 산화티탄, 산화납 또는 산화비스무스와 같은 투명한 재질 두층 사이에 삽입된 얇은 금 또는 구리층을 포함하는 다층의 투명제품이 개시되어 있다.
이중-광택 창유리 단위의 에너지 효율을 개선시키는 관점에서는, 한쪽 유리 표면상에 코팅물을 제공하여 복사열 전달을 감소시킴으로써 각 단위의 단열능을 증가시키는 것이 바람직하다. 따라서, 코팅물은 복사 스펙트럼의 적외선 파장범위에서 낮은 복사율을 가져야만 한다. 실제적인 이유의 면에서, 코팅물은 가시광선 파장범위에서 높은 투과율을 가져야 한다. 심미적인 이유의 면에서, 코팅물은 낮은 광 반사율을 가져야 하며 바람직하게는 필수적으로 무색이어야 한다.
상기 기술된 고 투과성, 저 복사성 코팅물은 통상적으로 가시 반사율을 감소시키기 위해 유전성 산화 금속층들사이에 삽입된, 적외선 반사 및 낮은 복사율을 위한 얇은 금속성 층을 포함한다. 이러한 다층필름은 전형적으로 음극 스퍼터링, 특히 자전관 스퍼터링에 의해 제조된다. 금속성층은 금 또는 구리일 수 있으나 통상 은이다. 선행기술에 개시된 산화금속층은 산화 주석, 산화 인듐, 산화 티탄, 산화 비스무스, 산화 아연, 산화 지르코늄 및 산화 납을 포함한다. 몇몇 경우에는, 이들 산화물은 특정의 단점 예를 들면, 불량한 내구성 및 한계 복사성을 극복하기 위해 다른 금속 예를들면, 산화 비스무스의 경우 망간, 산화 주석의 경우 인듐 및 상기와 반대 경우의 금속과 혼합된다. 그러나, 이들 산화금속 모두 약간의 결점을 갖는다.
코팅물이 그를 손상시킬 수 있는 요소 및 환경요인으로부터 보호된 경우에는 사용된 이중-광택 창 유리 단위의 내부표면상에 유지될 수 있지만, 이를 제조 및 설치하는 동안에 직면하게 되는 조작, 패키징, 세척 및 다른 제작공정을 견뎌낼 수 있는 내구성이 우수한 코팅물이 특히 바람직하다. 이러한 성질은 산화금속에서 찾을 수 있다. 그러나, 기계적 내구성을 제공하는 경도, 화학적 내구성을 제공하는 비활성도 및 유리 및 금속층 둘다에 대한 양호한 접착성외에, 산화금속은 또한 하기와 같은 성질을 지녀야 한다.
산화금속은 금속성 층의 반사율을 감소시키고 그리고 코팅 생성물의 투과율을 증가시키기 위해 적당히 높은 굴절지수, 바람직하게는 2.0이상의 굴절지수를 가져야 한다. 또한, 산화금속은 코팅 생성물의 투과율을 최대화하기 위해 최소의 흡수율을 지녀야 한다. 상업적인 이유의 면에서, 산화금속은 가격이 저렴해야 하고, 자전관 스퍼터링에 의한 비교적 빠른 침착 속도를 가져야 하며 무독성이어야 한다.
산화금속 필름의 가장 중요하며 가장 만족하기 어려운 요건은 금속성 필름과의 상호작용에 관한 것이다. 산화금속 필름은 외부 요인으로부터 금속성 필름을 보호하기 위해 낮은 다공성 및 각각의 층의 일체성을 유지시키기 위해 금속에 대한 낮은 확산성을 가져야 한다. 최종적으로 무엇보다도, 산화금속은 금속성 층의 침착을 위해 양호한 핵생성 표면을 제공하여 연속 금속성 필름은 최소 저항율 및 최대 투과율을 가지고 침착되어야 한다. 연속 및 불연속성 은 필름의 특성은 길러리 등의 미합중국 특허 제4,462,884호에 개시되어 있으며, 이는 본 명세서에 참고 문헌으로 인용되었다.
통상적으로 사용되는 산화금속 필름중 산화 아연 및 산화 비스무스는 내구력이 불충분하고, 산성 및 알칼리성 시약 둘다에 용해되며, 지문에 의해 손상되며, 염, 이산화황 및 습도 시험에서 파괴된다. 산화 인듐, 바람직하게는 주석으로 도우핑된 산화 인듐이 더 내구성이 있으나, 인듐은 느리게 스퍼터링되며 비교적 고가이다. 인듐 또는 안티몬으로 도우핑될 수 있는 산화 주석도 또한 더 내구성이 있으나, 은 필름의 핵 생성을 위해 적합한 표면을 제공하지 않아 높은 저항율과 낮은 투과율을 초래한다. 연이어 침착된 은 필름의 적당한 핵생성을 초래하는 산화 금속 필름의 특성이 정립되지는 않았으나 상기 기술된 산화 금속을 사용하여 계속적인 시행착오를 널리 거듭하고 있다.
길러리의 미합중국 특허 제4,610,771호에는 높은 투과율, 낮은 복사율을 갖는 코팅물로서 사용하기 위한 신규한 합금 산화물 필름조성물 및 금속 및 합금 옥사이드층으로 된 신규한 다층 필름이 제공되어 있다.
본 발명은 금속과 산화금속층간의 접착성을 개선시키며 또한 시각적으로 드러나지 않는 코팅제품을 생성하는 산화 티탄층을 제공함으로써 합금옥사이드 필름, 특히 합금산화물 및 금속(예 : 은)을 함유하는 다층필름의 내구성을 개선시킨다.
본 발명의 산화티탄 필름의 통상의 초벌층보다 두꺼우므로, 약간 더 얇은 아래놓인 반사방지 산화금속층을 침착시키기가 유리할 수 있다.
은, 구리 또는 금층이 두종의 투명한 옥사이드 코팅물에 의해 반사방지된 3-층 유도된 투과형 코팅물에 있어서, 보다 큰 굴절지수를 갖는 옥사이드 코팅물을 사용하여 코팅물의 색깔 또는 반사성을 변화시키지 않고 보다 많은 은을 혼입시킬 수 있다. 불행히도, 가장 빠른 스퍼터링 옥사이드, 예를들면 산화 주석, 산화인듐, 산화 아연은 약 2.0의 굴절지수를 갖는다. 보다 큰 굴절지수를 갖는 투명한 옥사이드, 예를들면 산화티탄 또는 산화지르코늄은 너무 느리게 스퍼터링되어 상업적으로 실시할 수 없다.
그러나, 예를들어 산화 티탄 비교적 소량을 필름 서열중 최적위치에, 구체적으로 침착된 제1반사방지 산화 금속층과 적외선 반사 금속(예 : 은) 사이에 혼입시키는 경우, 목적하는 높은 굴절 지수로 상승시키는데 유용할 수 있음을 발견하게 되었다. 코팅물 서열중 다른 위치에서의 산화 티탄의 침착은 비교적 비효과적이다. 다층 코팅물에서의 바람직한 색변화를 방지하기 위해서는, 인접한 옥사이드 층으로부터 광농도를 제거, 즉 약간 더 얇은 아래 놓이는 반사방지 산화금속층을 제조할 필요가 있다. 본 발명은 제1도를 참조하여 더 명백하게 개시될 수 있다.
은 층의 두께가 95Å에서 110Å으로 증가함에 따라 색도표상의 코팅물의 색깔은 x=0.283, y=0.303에서 x=0.295, y=0.295로 이동한다. 옥사이드층 두께의 변화는 이 방향에 거의 수직인 방향으로 색깔을 이동시킨다. 따라서, 오로지 얇은 은층만을 사용함으로써 95Å 필름의 색깔 및 반사율의 이상적인 광학적 성질이 유지될 수 있다. 그러나, 얇은 은층은 통상적으로 코팅물의 열등한 성질, 예를들면 전기전도도, 감소된 태양열 반사율 또는 감소된 적외선 반사율을 수반한다.
본 발명에 교시된 바와 같이, 산화 티탄 50Å을 혼입시킴으로써, 은 110Å이 혼입되는 필름의 색도좌표는 x=0.294, y=0.295에서 x=0.284, y=0.301로 이동한다. 이 경우, 제1반사방지 산화금속층 두께를 380Å에서 320Å으로 감소시켜 산화 티탄의 광농도를 보충한다.
합금 옥사이드를 함유하는 바람직한 반사방지 산화 금속필름 조성물은 음극 스퍼터링, 특히 자전관 스퍼터링에 의해 침착시키는 것이 바람직하다. 목적하는 비율의 금속원소를 함유하는 음극 타겟(target)을 제조하는 것이 바람직하다. 그 다음, 타겟을 바람직하게는 산소를 함유하는 반응성 대기중에서 스퍼터링하여 기재 표면상에 합금옥사이드 필름을 침착시킨다.
본 발명에 따른 바람직한 합금옥사이드는 아연 및 주석을 함유하는 합금의 산화물이다. 아연/주석 합금옥사이드 필름은 본 발명에 따라 바람직하게는 자기적으로 향상된 음극 스퍼터링에 의해 침착시킬 수 있다. 또한, 음극 스퍼터링은 본 발명에 따른 고투과성, 저복사성 필름을 침착시키기 위해 바람직한 방법이다. 상기 필름은 전형적으로 다층, 바람직하게는 반사방지 산화금속층, 예를들면 산화 인듐 또는 산화 티탄, 또는 바람직하게는 주석산 아연을 함유하는 아연과 주석 합금의 산화물 층사이에 삽입된 고반사성 금속층, 예를들면 금 또는 은층을 포함한다.
여러종류의 금속을 스퍼터링하여 합금 옥사이드 필름을 형성할 수 있지만, 본 발명에 따른 바람직한 높은 투과율, 낮은 복사율을 갖는 다층필름을 제조하기 위해서는 주석과 아연 합금이 바람직하다. 특히 바람직한 합금은 아연 및 주석을 바람직하게는 아연 10 내지 90% 및 주석 90 내지 10%의 비로 함유한다. 바람직한 아연/주석 합금은 아연 30 내지 60% 범위이며, 바람직하게는 아연/주석 비가 40 : 60 내지 60 : 40이다. 가장 바람직한 범위는 중량기준으로 주석 대 아연 46 : 54 내지 50 : 50이다. 산화성 대기중에서 반응적으로 스퍼터링된 아연/주석 합금 음극은 아연, 주석 및 산소, 바람직하게는 주석 산 아연 Zn2SnO4를 함유하는 산화금속층을 침착시킨다.
통상의 자전관 스퍼터링 방법에 있어서, 기재는 코팅 챔버내에 스퍼터링될 재질의 타겟 표면을 갖는 음극을 향하여 놓는다. 본 발명에 따른 바람직한 기재로는 코팅 공정의 작업조건에 의해 유해하게 영향받지 않는 유리, 세라믹 및 플라스틱이 포함된다.
음극은 전기전위 공급원과 관련된 통상의 디자인, 바람직하게는 신장된 직사각형일 수 있으며 바람직하게는 스퍼터링 진행을 향상시키기 위해 자기장과 공동으로 사용한다. 적어도 하나의 음극타겟 표면은 아연/주석과 같은 합금을 포함하며, 이는 반응성 대기중에서 스퍼터링되어 합금옥사이드 필름을 형성한다. 다른 한편으로는, 각각 별개의 아연 및 주석 타겟을 거의 동시에 스퍼터링할 수 있다. 양극은 본 명세서에 참고로 인용된 길러리 등의 미합중국 특허 제4,478,702호에 교시된 바와같이 대칭적으로 디자인하고 조립 배치하는 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 태양에서, 다층필름은 음극 스퍼터링에 의해 침착되어 높은 투명도, 낮은 복사율을 갖는 코팅물을 생성시킨다. 합금 타겟외에, 적어도 하나의 다른 음극 타겟표면은 반사성 금속성층을 형성하기 위해 스퍼터링될 금속을 함유한다. 적어도 하나의 추가의 음극 타겟표면은 산화성 대기중에서의 스퍼터링을 위한 티탄을 함유하여 산화티탄층이 침착된다. 반사방지 합금 옥사이드 필름과 함께 반사성 금속성 필름을 갖는 내구성 있는 다층 코팅물은, 드러나지 않는 색으로 코팅된 제품을 생성하면서 금속과 산화금속 필름간의 접착을 개선시키기 위해 산화 티탄층을 사용하여 다음과 같이 제조한다.
바람직하게는 10-4토르미만, 더욱 바람직하게는 2×10-5토르 미만으로 감압시킨 코팅 챔버에 깨끗한 유리기재를 놓는다. 챔버내에서 압력이 약 5×10-4내지 10-2토르가 되도록 불활성 및 반응성 기체 바람직하게는 아르곤 및 산소의 선택된 대기를 조성한다. 아연/주석 합금의 타겟 표면을 갖는 음극을 코팅될 기재 표면상에서 작동한다. 대기와 반응하는 타겟 금속을 스퍼터링하여 유리표면상에 아연/주석 합금 옥사이드 코팅층을 침착시킨다.
아연/주석 합금 옥사이드 개시층이 침착된 후, 티탄 금속 타겟 표면을 갖는 음극을 스퍼터링하여 아연/주석 합금옥사이드 층상에 산화 티탄층을 침착시킨다. 산화 티탄층은 바람직하게는 통상의 초벌층보다 상당히 두꺼운 약 50 내지 100Å의 두께를 갖는다. 그 다음, 은 타겟 표면을 갖는 음극을 스퍼터링하여 산화 티탄층상에 금속성 은으로 된 반사층을 침착시키는데, 이는 시각적으로 드러나지 않는 다층의 저복사성 코팅물을 생성하면서 그 아래 놓인 산화 금속 필름에 대한 은필름의 접착성을 개선시킨다. 다층 필름의 스펙트럼 성질을 변화시킴이 없이 보다 두꺼운 은 필름을 본 발명에 따라 침칙시킬 수 있다. 그 다음, 구리 또는 티탄과 같은 금속을 반사성 은층상에 스퍼터링하여 추가의 초벌층을 침착시켜 은층과 계속해서 침착되는 그 위에 놓이는 산화금속 필름간의 접착을 개선시킨다. 최종적으로, 제2의 아연/주석 합금 옥사이드 층을, 제1의 아연/주석 합금 옥사이드층을 침착시키기 위해 사용된 것과 필수적으로 동일한 조건하에 제2초벌층상에 침착시킨다.
본 발명의 가장 바람직한 태양의 경우에는, 보호막을 최종 산화금속 필름상에 침착시킨다. 보호막은, 길러리 등의 미합중국 특허 제4,594,137호에 기술된 바와같은 금속층을 산화금속 필름상에 스퍼터링하여 침착시키는 것이 바람직하다. 보호막용으로 적합한 금속으로는 철 또는 니켈의 합금, 에를들면 스테인레스 스틸 또는 인코넬(Inconel)이 포함된다. 티탄은 투과율이 높으므로 가장 바람직한 보호막이다. 다른 태양에서, 보호층은 특히 화학적 내성이 있는 재질, 예를들면 본 명세서에 참고로 인용된 길러리 등의 미합중국 특허 제4,716,086호에 기술된 바와 같이 산화 티탄일 수 있다.
본 발명은 하기와 같은 특정 실시예의 내용으로 부터 더 잘 이해될 것이다. 실시예에서, 아연/주석 합금 옥사이드 필름은 주석산 아연으로 칭하나 필름 조성물은 정확하게 Zn2SnO4일 필요는 없다.
[실시예]
다층필름을 소다 석회-실리카 유리기재상에 침착시켜 고투과성, 저 복사성 코팅물을 수득한다. 5×17인치(12.7×43.2cm)의 고정 음극은 아연 52.4중량% 및 주석 47.6%으로 이루어지는 아연/주석 합금 스퍼터링 표면을 포함한다. 소다 석회-실리카 유리기재를, 50/50 아르곤/산소대기중에서 압력이 4밀리토르가 되도록 조정한 코팅챔버에 놓는다. 유리를 110인치(2.8m)/분 속도로 스퍼터링 표면을 지나 통과시키면 음극을 1.7킬로와트에서 자기장내에서 스퍼터링한다. 주석산 아연 필름이 유리표면상에 침착된다. 세번 통과시키면 필름두께가 약 320Å이 되어 투과율이 유리 기재의 경우 90%에서 주석산 아연 코팅 유리기재의 경우 82%로 감소한다. 그 다음, 티탄 타겟을 갖는 고정 음극을 스퍼터링하여 주석산아연상에 약 50Å두께의 산화 티탄층을 형성시키며, 이는 투과율이 약 78%로 감소된다. 그 다음, 아르곤가스 대기중, 압력 4밀리토르에서 은 음극 타겟을 스퍼터링하여 산화티탄층상에 은층을 필름두께가 약 110Å이 되도록 침착시키며, 이때 코팅기재의 투과율은 약 66%로 감소된다. 최종 주석산아연의 반사방지층을 침착시키기 전에 얇은 중간 티탄 초벌층을 은 층상에 스퍼터링하여 접착성을 개선시키고 은층을 보호한다. 티탄 초벌층은 약 10Å의 두께를 가지며 금속 상태의 경우에는 투과율을 약 60%로 감소시킨다. 그러나, 산화금속층이 잇따라 침착됨에 따라 티탄 초벌층은 산화되며 투과율은 증가한다. 마지막으로, 아연/주석 합금 음극 타겟을 산화성 대기중에서 스퍼터링하여 주석산 아연필름을 형성시킨다. 110인치(2.8m)/분의 속도에서 4번 통과시키면 약 380Å 두께의 필름이 수득되며, 이때 코팅물의 투과율은 약 85%로 증가된다. 최종 코팅물은 표면 저항율 8오옴/스퀘어 및 코팅면으로부터 5% 및 코팅되지 않은 면으로부터 6%의 광 반사율을 갖는 양면으로부터 중간 반사율을 갖는다. 대조시험에서 구리 초벌층을 사용하는 선행기술 필름은 코팅 유리표면 및 코팅되지 않은 유리표면 둘다로부터 약간 적청색 반사율을 나타낸다.
상기 실시예는 본 발명의 설명하기 위해 주어졌다. 생성물 및 방법의 다양한 변형을 유도할 수 있다. 예를들면, 다른 코팅 조성물도 본 발명의 범주내에 속한다. 아연/주석 합금이 스퍼터링될 때 아연과 주석의 비율에 따라, 코팅물은 주석산 아연외에 광범위하게 변하는 양의 산화아연 및 산화주석을 함유할 수 있다. 산화 티탄층을 사용하여 다양한 금속과 산화금속 필름간의 접착성을 개선시켜 본 발명에 따른 시각적으로 드러나지 않는 코팅물을 수득할 수 있다. 본 발명은 아주 높은 온도를 요하지 않으므로 유리외의 기재 예를들면 다양한 플라스틱을 코팅할 수 있다. 고정기재와 함께 주사형 음극을 사용할 수 있다. 공정 파라메터, 예를들면 기체의 압력 및 농도는 광범위에 걸쳐 변화시킬 수 있다. 초벌층은 본 발명의 낮은 복사율을 갖는 다층 코팅물에 중간 반사율을 제공하는 산화물을 생성하는 다른 금속(예 : 지르코늄)을 함유할 수 있다. 다음 특허청구의 범위로 본 발명의 범주를 규정짓는다.

Claims (20)

  1. (a) 투명한 비금속성 기재 ; (b) 상기 기재 표면상에 침착된 굴절지수 약 2.0을 갖는 투명한 제1반사방지 산화금속 필름 ; (c) 상기 제1산화금속 필름상에 침착된 굴절지수 2.0이상을 갖는 투명한 제1중간산화금속층 ; (d) 상기 중간 산화금속층상에 침착된 투명한 적외선 반사 금속성 필름 ; (e) 상기 적외선반사 금속성 필름상에 침착된 투명한 중간 금속층 ; 및 (f) 상기 중간 금속층상에 침착된 투명한 제2반사방지 산화금속 필름을 포함하는, 시각적으로 드러나지 않는 반사성, 고 투과성, 저 복사성 제품.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기재가 유리인 제품.
  3. 제2항에 있어서, 상기 적외선 반사 금속성 필름이 은인 제품.
  4. 제3항에 있어서, 상기 반사방지 산화금속이 아연 및 주석을 함유하는 옥사이드 반응 생성물을 함유하는 제품.
  5. 제4항에 있어서, 상기 반사방지 산화금속이 주석산 아연을 함유하는 제품.
  6. 제1항에 있어서, 반사방지 산화금속 필름과 적외선 반사 금속성 필름 사이에 상기 중간 산화금속 필름이 산화 티탄 및 산화 지르코늄으로 이루어지는 그룹중에서 선택되는 제품.
  7. 제6항에 있어서, 상기 중간 산화금속 필름이 산화 티탄을 함유하는 제품.
  8. 제6항에 있어서, 상기 제1산화 티탄층이 약 50 내지 약 100Å의 두께를 갖는 제품.
  9. 제8항에 있어서, 상기 중간 금속층이 티탄을 함유하는 제품.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제2반사방지 산화금속 필름상에 산화티탄 보호막을 또한 포함하는 제품.
  11. (a) 음극금속타겟(target)을 산소를 포함하는 반응성 대기중에서 스퍼터링하여 굴절지수 약 2.0을 갖는 투명한 반사방지 산화금속 필름을 기재표면상에 침착시키고 ; (b) 상기 반사방지 산화금속 필름상에 굴절지수 2.0이상을 갖는 투명한 중간 산화금속층을 스퍼터링하며 ; (c) 상기 중간 산화금속층상에 투명한 적외선 반사 금속성 필름을 스퍼터링하고 ; (d) 상기 적외선 반사 금속성 필름상에 투명한 중간 금속층을 스퍼터링하며 ; (e) 상기 제2중간 금속층상에 투명한 제2반사방지 산화금속필름을 스퍼터링하는 단계를 포함하여, 시각적으로 드러나지 않는 고 투과성, 저 복사성 필름을 침착시키는 방법.
  12. 제11항에 있어서, 상기 중간 산화금속층이 산화 티탄 및 산화 지르코늄으로 이루어지는 그룹중에서 선택되는 방법.
  13. 제12항에 있어서, 상기 기재가 유리인 방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 반사방지 산화금속 필름이 아연 및 주석을 함유하는 옥사이드 반응 생성물을 함유하는 방법.
  15. 제14항에 있어서, 상기 필름이 주석산 아연을 함유하는 방법.
  16. 제11항에 있어서, 상기 필름이 투명한 비금속성 기재상에 침착되고 ; 굴절지수 약 2.0을 갖는 산화금속이 아연 및 주석을 포함하며 ; 굴절지수 2.0이상을 갖는 중간 산화금속이 티탄을 포함하고 ; 적외선 반사금속성 필름이 은을 포함하며 ; 중간 금속층이 티탄을 포함하고 ; 제2산화금속 필름이 아연 및 주석을 포함하는 시각적으로 드러나지 않는 고 투과성, 저 복사성 다층 코팅물을 제조하기 위한 방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 기재가 유리인 방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 합금이 필수적으로 아연 및 주석으로 이루어지는 방법.
  19. 제18항에 있어서, 상기 합금 옥사이드 필름이 주석산 아연을 함유하는 방법.
  20. 제16항에 있어서, 산화 티탄 보호막을 제2아연/주석 옥사이드 필름상에 스퍼터링하는 단계를 또한 포함하는 방법.
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